SU1665855A1 - Способ получения неравновесной плазменной среды - Google Patents
Способ получения неравновесной плазменной средыInfo
- Publication number
- SU1665855A1 SU1665855A1 SU4729673/25A SU4729673A SU1665855A1 SU 1665855 A1 SU1665855 A1 SU 1665855A1 SU 4729673/25 A SU4729673/25 A SU 4729673/25A SU 4729673 A SU4729673 A SU 4729673A SU 1665855 A1 SU1665855 A1 SU 1665855A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- nonequilibrium
- plasma
- magnitude
- electric field
- voltage pulse
- Prior art date
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к плазменной технике, а именно к управлению плазмой разряда, и может быть применено для получения сильно неравновесной плазмы с управляемыми характеристиками. Цель изобретения - получение неравновесной плазмы с высокой концентрацией возбужденных частиц при стабильных условиях воспроизводимости параметров неравновесности. Неравновесную плазменную среду получают путем пропускания разрядного тока через инертный газ при приложении к нему импульсного электрического поля. Длительность импульса напряжения устанавливают расчетным путем до момента начала пробоя в газе, который контролируют по величине разрядного тока, и на фазе начала резкого роста тока и одновременно резкого спада амплитуды импульса напряжения производят искажение заднего фронта импульса напряжения, вводя активное сопротивление в анодную цепь разрядной трубки, чем задают нелинейную скорость изменения заднего фронта импульса напряжения. Это приводит к изменению скорости нарастания концентрации электронов, что позволяет менять время существования сильно неравновесной плазмы до десятков микросекунд. Величину приведенного электрического поля выбирают в пределах (8 - 25) х 10 В/см. Способ позволяет достичь неравновесности плазмы N/Nв пределах 10 - 100 и регулировать длительность существования полученной среды в пределах четырех порядков (здесь N, N- концентрация возбужденных атомов и электронов соответственно). Для стабилизации разряда дополнительно прикладывают фоновое электрическое поле. 1 з. п. ф-лы. 3 ил., 1 табл.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4729673/25A SU1665855A1 (ru) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | Способ получения неравновесной плазменной среды |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4729673/25A SU1665855A1 (ru) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | Способ получения неравновесной плазменной среды |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1665855A1 true SU1665855A1 (ru) | 1996-01-10 |
Family
ID=60531884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4729673/25A SU1665855A1 (ru) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | Способ получения неравновесной плазменной среды |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1665855A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6545480B1 (en) | 1998-02-10 | 2003-04-08 | Valery Venginovich Starikov | Method for carrying out the electrical breakdown of a gaseous dielectric in a highly non-uniform field |
-
1989
- 1989-08-07 SU SU4729673/25A patent/SU1665855A1/ru active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6545480B1 (en) | 1998-02-10 | 2003-04-08 | Valery Venginovich Starikov | Method for carrying out the electrical breakdown of a gaseous dielectric in a highly non-uniform field |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Kaneko et al. | Drift-Wave Instability Excited by Field-Aligned Ion Flow Velocity Shear<? format?> in the Absence of Electron Current | |
Vorobyov et al. | Electron beam generation with variable current amplitude during its pulse in a source with a grid plasma cathode | |
US5102687A (en) | Process for surface treatment by plasma of a substrate supported by an electrode | |
Pérès et al. | Current pulses in dc glow discharges in electronegative gas mixtures | |
DE69017555T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Sputterauftragen von Filmen. | |
SU1665855A1 (ru) | Способ получения неравновесной плазменной среды | |
Sato et al. | Stationary double layers in a collisionless magnetoplasma | |
Hasson et al. | Spatial control of pulsed high-pressure pre-ionisation stabilised glow discharges | |
Briere | Electrical conduction in purified polar liquids | |
Mustafaev et al. | Grid current control in the unstable mode of plasma discharge | |
Kolasa et al. | Dynamic characteristics of variable frequency pulsed TIG arc | |
Kelly et al. | Influence of anode composition on the electrical properties of relativistic electron‐beam diodes | |
Backus et al. | Ion Energies in a Cold Cathode Discharge in a Magnetic Field | |
Himmel et al. | The velocity limitation in a rotating plasma device of the homopolar type | |
Vilkas | Square-wave welding | |
Petr et al. | Erosion of spark gap electrodes | |
Anna et al. | Range-energy measurements of intense electron beams | |
Vukanović et al. | Some investigations of the rotation conditions in spectrochemical dc arc light sources in horizontal graphite tubes | |
Tacano et al. | Stabilization of Sausage Instability in Semiconductor Plasma by Axial Magnetic Field | |
Bychkov et al. | Volume discharge excited by an electron beam in an Ar-SF 6 mixture II. Cascade ionization discharge | |
Kontonistov et al. | Field emission of liquid metals in alternating fields | |
Schneider et al. | The Influence of an External Coaxial Magnetic Field on the Characteristics of a High-Current ARC in a Vacuum Switch | |
Kimura et al. | Fast and slow electrons in liquid Ar and N/sub 2/mixtures | |
Wells et al. | Inert Gas Ion Beams from a Duoplasmatron Ion Source | |
CA2141309C (en) | Pulse generator |