SU1467072A1 - Способ регулировани в зкости компаунда и устройство дл его осуществлени - Google Patents

Abstract

Изобретение относитс  к способу регулировани  в зкости многокомпонентнего лакокрасочного материала, в частности компаунда, и устройству дл  его осуществлени . Изобретение позвол ет повысить стабштьность в зкости компаунда в процессе хранени , скорость высыхани  покрыти  и снизить его водопоглоЩение за счет того, что в способе регулировани  в зкости компаунда на основе олигоэфиракрилата, включающем перемешивание исходных компонентов и измерение первоначальной в зкости компаунда, на компаунд воздействуют посто нньм магнитным полем с дозой энергии 93-182,9 Дж/--мин в течение 10-22 мин. Устройство дл  .регулировани  в зкости компаунда содержит регистратор в зкости, емкость .с мешалкой и вйбронасосом, снабженньш узлом управлени  его работой. Емкость соединена с лакопроводом, проход щим через камеру магнитной обработки, с источником посто нного магнитного пол . 2 с.п.ф-лы, 3 ил. 3 табл. с S (Л

Description

1

Изобретение относитс  к способам и устройствам управлени  в зкостью многокомпонентных полимерных композиций без растворителей типа компаундов , предназначенных преимущественно дл  пропитки обмоток злектрических машин малой мощности. : Цель изобретени  - повьщ1ение стабильности в зкости компаунда в процессе хранени , скорости высыхани  и снижение водопо глощени  покрытий.

На фиг. 1 представлена схема тех- нологического процесса управлени  в зкостью многокомпонентной полимерной композиции; на фиг. 2 - устройство дл  осуществлени  предлагаемого способа , общий вид; на фиг. 3 - электрическа  схема ступенчатого управле- ;ни  работой вибронасоса.

Способ управлени  в зкостью многокомпонентной полимерной композиции осуществл етс  -следуюпщм образом.

Ч

ю

Из дозатора 1 (фиг. 1Jнеобходимое |количество коьшонентов загружают в . емкость 2, где они в течение задан- ;ного времени при комнатной температу ре перемешиваютс  мешалкой 3 до полного растворени  компонентов и получени  однородной композиции, в зкост которой измер етс  узлом 4. После определени  в зкости композиции сигнал от узла 4 через узел 5 ввода информации подают на узел 6 управлени  работой вибронасоса 7, посредством которого приготовленную в емкости 2 ком- 1ПОЗИ1ЧИЮ пропускают по лакопроводу 8 kepe3 камеру 9 магнитной обработки, источник посто нного магнитного пол  которой воздействует на кo moзицию соответствующей дозой энергии. Гото- 1ва  к употреблению композици  пода- |етс  к потребителю (на пропитку-суш- |ку) .

; Интенсивность (доза) энергии воз- |действи  магнитного пол  на переме- |щаю1дуюс  по лакопроводу композицию определ етс  величиной энергии маг- |Нитного пол , отнесённой к объему пр |текающего за единицу времени лака. i В табл. 1 показаны дозы энергии :магнитного пол  в зависимости от на- ;чальной ВЯЗКОСТИ готовой композихщи ;и времени выдержки в магнитном поле, В табл. 1 также приведены необхо- :Димые скорости перетекани  готовой композиции по лакопроводу в зависи- :мости ОТ ее начальной в зкости при |диаметре лакопровода D 0,02 м. ; Пример1.В емкость с ме- i шалкой загружают необходимое количество компаунда KI1-34 и пасты пере- киси бензоила дл  приготовлени  компаунда KII-34 и перемепшвают до полного растворени  компонентов и получени  однородной массы. По готовности композиции измер етс  условна  в зкость, котора  равна, например, 50 с. В соответствии с эмпирически установленной зависимостью дл  стабилизации в зкости необходима  доза воздействи  магнитного пол  должна

составл ть 96,3 Дж/--. Дл  того,

мин

чтобы лак получил указанную дозу энергии воздействующего магнитного пол , устанавливаетс  скорость перетекани  лака через камеру магнитной обработки, равна  0,087 м/мин. При этом производительность перекачивающего устройства равна 0,27/10 м /ми

Таким образом обработанный (стабилизированный ) в ма.гнитном поле лак подетс  к потребителю (на пропитку-сушку ) .

Результаты изменени - , в зкости во времени дл  лака КП-34, обработанног магнитным полем различной интенсивности и не подверженного магнитной обработке, даны в табл. 2,

Пример 2. В емкость с мешалкой загружают необходимое количест- во компаунда КП-34 и пасты перекиси бензоила дл  приготовлени  компаунда КП-34 и перемешивают до полного растворени  компонентов и получени  однородной массыс По готовности композиции изыер ет с  условна  в зкость котора  равна, например, 80 с. В соответствии с эмпирически установленной зависимостью дл  стабилизации в кости необходима  доза энергии воз,-, действи  магнитного пол  должна составл ть 154,7 Дж/. Дп  того, чтоб

мин

лак получил указанную дозу энергии воздействующего магнитного пол , устанавливаетс  скорость перетекани  лака через камеру магнитной обработки , равна  0,054 м/мин. При этом производительность перекачивающего устройства равна 0,17/10 м /мин. Таким образом обработанный (стабилизированный ) в магнитном поле лак подаетс  к потребителю (на пропитку-сушку).

Пример 3. В смеситель загружают необходимое количество компаунда КП-34 и пасты перекиси бензоила дл  приготовлени  компаунда КП-34 и. перемещивают до полного растворе-, ни  компонентов и получени  однородной массы. По готовности композиции измер етс  условна  в зкость, котора ,- например, равна 110 с. В соответствии с эмпирически установленной зависимостью дл  стабилизации в зкое- ти необходима  доза энергии воздействи  магнитного пол  должна составл ть 182,9 Дж/. Дп  того, чтобы

мин

лак получил указанную дозу энергии воздействующего магнитного пол , устанавливаетс  скорость перетекани  лака через камеру магнитной обработки , равна  0,046 м/мин. При этом производительность перекачивающего устройства равна 0,14х10 . Таким образом обработанный (стабилизированиый ) в магнитном поле лак подаетс  к потребителю (на пропитку- сушку) .

В табл. 3 приведены результаты изменени  удельного электрического сопротивлени  и водопоглощени , а также времени отверлздени  дл  пропиточного компаунда КП-34 в результате магнитной обработки.

Предлагаеьаш способ осуществл етс  с помощью устройства, Ьодержа- щего емкость 2, узел 4 измерени  величины в зкости, узел 5 ввода информации , узел 6 управлени  работой вибронасоса 7 дл  перекачивани  композиции из емкости 2 .по лакопрово- ДУ 8 с одновременной обработкой соответствующей дозой энергии магнитного пол  дл  -стабилизации в зкости и камеру 9 магнитной обработки с источником посто нного магнитного пол  В емкости 2 расположены мешалка 3 и вибронасос 7, Камера 9 магнитной обработки выполнена в виде источника посто нного магнитного пол , включающего пр моугольного сечени  электромагнит 10 и катушку 11, св занную с источником 12 питани .

Узел 6 управлени  работой вибронасоса 7 представл ет собой электрическую схему ступенчатого управлени , в которой токонесуща  обмот ка 13 (фиг. 3) вибронасоса 7 подключена через тиристор 14 к вторичной обмот- ке 15 питающего трансформатора. Управление тиристором 14 осуществл етс  запирающим диодом 16 и релаксаци- oHHbiM генератором Импульсов, выполненным на динисторе 17 и содержащим ограничивающие диоды 18 и 19, конденсатор 20, регулировочный 21 и шунтирующий 22 резисторы, причем катод динистора 17 подключен через ограничительный диод 19 к управл ющему электроду тиристора 14, включ енного в цепь переменного тока, а анод динистора 17 - к общей точке соединени  подвижного контакта регулировочного резистора 21 и конденсатора 20.

1

Устройство работает следуиищм образом .

Необходимые компоненты в заданном количестве из дозатора 1 подаютс  в емкость 2, где мешалкой 3 они перемешиваютс  до полного растворени  и получени  однородной композиции, причем перемешивание производитс  в те

б

чение необходимого времени при комнатной температуре. По окончании процесса перемешивани  узлом 4 измерени  в зкости определ етс  величина в зкости и композиции, передаваема  на узел 6 управлени  работой вибронасоса 7. При получении заданной величины в зкости вибронасосом 7 композици  перекачиваетс  с заданной скоростью по лакопроводу 8, проходит через камеру 9 магнитной обработки, получает необходимую дозу энергии магнитного пол  и подаетс  к потребителю (на пропитку-сушку).

Режим работы вибронасоса 7 регулируетс  следующим образом. Обмотку 13 возбуждени  вибронасоса 7 включа- 2Q ют в сеть переменного тока, при этом цепь управлени  в первый полупериод, когда потенциал на катоде тиристора положительный, получает питание от вторичной обмотки 15 трансформатора, 25 конденсатор 20 начинает зар жатьс  через ограничительный диод 18, регулировочный резистор 21 и запиранщий диод 16. Одновременно ток проходит и в шунтирующем резисторе 22. В это 0 врем  в обмотке 13 возбуждени  вибронасоса 7 проходит ток от ранее накопленной энергии, который убывает ив этом полупериоде становитс  равным нулю. Одновременно с этим к тиристо- 2 РУ 14 прикладываетс  обратное напр жение и он закрываетс , а конденсатор 20 продолжает зар жатьс  до напр жени , необходимого дл  открывани  динистора 17., который в данном 0 полупериоде не открываетс , так как к нему приложено обратное напр жение через ограничивающий диод 18, причем разр дка .конденсатора 20 на шунтирующее сопротивление происходит огра- 5 ничивающим диодом 18. Врем , необходимое дл  зар дки конденсатора 20, длитс  0,01 си равно времени полупериода переменного напр жени . К началу второго полупериода напр жение Q питани , когда потенциал на катоде тиристора 14 отрицательный, динистор 17 открьшаетс  за счет того, что на него подаетс  положительное напр жение , необходимое дл  его открывани , 5 и происходит разр д конденсатора 20 по -.цепи положительный полюс конденсатора 20, динистор 17, ограничивающий диод 19, р-п-переход тиристора 14, шунтирующий резистор 22 и отрица

14

тельный полюс конденсатора 20. Тиристор 14 открываетс  и к обмотке 13 возбуждени  вибронасоса 7 прикладываетс  напр жение второго полупериода от вторичной обмотки 15 трансформатора , конденсатор 20 продолжает ра :р жатьс  до тех пор пока напр жение jна нем не приложено с вторичной обмотки тиристора 14, ограничивающе- |ес  запирак цим диодом 16. В следующе полупериоде происходит зар д конден- |сатора 20 в последовательности пер- iBoro полупериода, указанного выше. Врем  приложени  напр жени  к токо- 1 ведущей обмотке от вторичной обмотки тиристора 14 остаетс  посто нным и равным 0,01 с.

1 При необходимости работы виброна- jcoca, например, при частоте 25 Гц id500 кол/мин) необходимо пёреключе- нием подвижного контакта переменного резистора 21 увеличить его сопро- тивление, при этом зар дка конденса- тора 20 на 25 Гц происходит в после- |довательности, аналогичной последова |тельности зар дки на 50 Гц, но врем  необходимое дл  зар дки, равно 0,03 с а врем  приложени  напр жени  к обмотке вибронасоса остаетс  0,01 с и остаетс  посто нным на всех ступен х регулировани  частоты.

При работе вибронасоса на других механических частотах (на других скорост х ) мен етс  только врем , необ- :ходимое дл  зар дки конденсатора 20. Предлагаемым способом - регулировани

8fO

5

0

5

0

5

ем сопротивлени  переменного резистора 21 достигаетс  р д механических колебаний вибронасоса со следующими ступен ми частот 10, 12, 5, 16, 7, 25 и 50 Гц.

Claims (2)

1. Способ регулировани  в зкости компаунда КП-34 на основе олигоэфир- акрилата, включающий перемешивание исходных компонентов и измерение в зкости компаунда, отличающий- с   тем, что, с целью повышени  стабильности в зкости компаунда в процессе хранени , скорости высыхани  и снижени  водопог ющени  покрытий на его основе, на компаунд воздействуют посто нным магнитным полем с дозой энергии 96,3-182,9 в течение 10-22 мин.

2. Устройство дл  регулировани  в зкости компаунда на основе олиго- эфиракрилата, содержащее емкость с мешалкой и регистратор в зкости, о т- личающеес  тем, что, с целью повышени  стабильности в зкости компаунда в процессе хранени , емкость с мешалкой снабжена вибронасосом с узлом управлени  его работой, лакопроводом и камерой магнитной обработки с источником посто нного пол , причем емкость соединена с лакопроводом , проход щим через камеру магнитной обработки.

10 12 14 16 18 20 22

Таблица 1

11

1467072

Врем  отверждени , мин Удельное объемное электрическое сопротивление, Ом,см Удельное объемное электрическое сопр отивление после 24 ч пребывани  в атмосфере с относительной влажностью 95±2% при температуре . Ом-см / Удельное поверхностное элек рическое сопротивление, DM Водопоглощение по ГОСТу (73%)

Фиг. 1

Продолжение табл.2

Таблица 3

1 10

н

5,3x10

Н

1,2«10 4, 0,23

/

4 - - 1 1---Ж г

. 2

:/5 ;/7

S/

в.

фив.З