SU1408315A1 - Method of determining the reflection index of scattering medium - Google Patents
Method of determining the reflection index of scattering medium Download PDFInfo
- Publication number
- SU1408315A1 SU1408315A1 SU864148105A SU4148105A SU1408315A1 SU 1408315 A1 SU1408315 A1 SU 1408315A1 SU 864148105 A SU864148105 A SU 864148105A SU 4148105 A SU4148105 A SU 4148105A SU 1408315 A1 SU1408315 A1 SU 1408315A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- intensity
- reflected
- flux
- determining
- scattering medium
- Prior art date
Links
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
0000
оо сдoo sd
I Изобретение относитс к оптике 1рассеиваю1дих сред и может быть ис- 1польэовано дл измерени оптических посто нных взвесей порошкообразных материалов, пигментов, веществ, на- ;ход 1цихс в дисперсном состо нии, определени отражательной способнос- ти сло рассеивающей среды. j Целью изобретени вл етс повышение точности определени коэффициента отражени рассеивающей среды.I The invention relates to optics 1 dispersible in two media and can be used to measure optical permanent suspensions of powder materials, pigments, substances, dispersed state, determining the reflectivity of a layer of scattering medium. j The aim of the invention is to improve the accuracy of determining the reflection coefficient of the scattering medium.
Сущность способа заключаетс в том, на кювету с рассеивающей средой направл ют коллимированный поток светового излучени , измер ют интенсивность падающего и отраженного пото- 1ков и по их отношению суд т о коэффициенте отражени , после измерени интенсивностей потоков накладывают зеркальную подложку по крайней мере ла одну из боковых граней кюветы и повтор ют измерение интенсивности отраженного потока, сравнивают полученные значени интенсивностей отра- ;кенных потоков и в случае их неравен |:тва увеличивают число -зеркальных подложек, устанавливаемых по перимет ) у кюветы, до получени максимального значени интенсивности отраженно- )-о потока, которое используют дл определени отношени интенсивности отраженного потока и интенсивности падающегоThe essence of the method is that a collimated flux of light is directed to a cell with a scattering medium, the intensity of the incident and reflected fluxes is measured and, by their ratio, the reflectance is judged; after measuring the intensities of the fluxes, a specular substrate is applied to at least one of side edges of the cuvette and repeat the measurement of the intensity of the reflected flow, compare the obtained values of the intensities of the reflected fluxes and, if they are unequal, the number of mirror mirrors nuts, mounted on perimet) in a cuvette to obtain a maximum value otrazhenno- intensity) -o stream is used to determine the ratio of the intensity of the reflected intensity of the incident flow and
Пример, Провод т определение 1соэффициента отражени сло взвеси частиц полистиролового латекса. Диаметр частиц полистирола 0,44 мкм„ Используют стандартную схему измере- и : источник коллимированного тепло фого излучени , полупрозрачное зер- , кювета пр моугольного сечени , : еркальные подложки, интерференцион- светофильтр с полосой пропуска- () нм. Интенсивность (;ветовых потоков измер ют с помощью фЭУ-79, Измер ют коэффициенты отраже слоев, которые характеризуютс 1|1родольной оптической плотностью fy 6,10 и 20, при поперечной опти- еской плотности и Интен ( Ьивность падающего потока поддержива фт посто нной. При этом необ затель- Ло характеризовать слой его оптичес- itHMH размерами. Их можно заменитьExample, Determining the reflection coefficient of a suspension layer of polystyrene latex particles. Diameter of polystyrene particles is 0.44 µm. A standard measurement scheme is used: source of collimated heat radiation, translucent grain, rectangular cross section cuvette,: Mirror substrates, interference filter with bandwidth () nm. Intensity (; vetov fluxes are measured using a PMT-79; Reflectance coefficients of the layers, which are characterized by 1 | 1 longitudinal optical density fy 6,10 and 20, are measured, with transverse optical density and Inten (the flux of the incident flux keeps ft constant). In this case, it is not possible to characterize the layer by its optical dimensions (itHMH).
на эквивалентные геометрические размеры (50X50X50 мм), Концентраци частиц 1/см, Величина отраженного с светового потока без подложекon equivalent geometric dimensions (50X50X50 mm), Concentration of particles 1 / cm, The magnitude of reflected from the luminous flux without substrates
240 тКА, Устанавливают зеркальную подложку на боковую грань кюветы и вновь измер ют отраженный световой поток, который равен 300 тКА, Треть 240 TKA, Install the mirror substrate on the side face of the cuvette and again measure the reflected luminous flux, which is equal to 300 TKA, Third
0 подложка, установленна на боковую часть кюветы, измен ет отраженный поток, который равен 350 тКА, Второе и третье значени отраженных потоков довольно близки по своему значению,0, the substrate mounted on the side of the cuvette changes the reflected flux, which is equal to 350 mA, the second and third values of the reflected flux are quite close in value,
5 Поэтому устанавливают еще одну под- ложку. Величина отраженного светового потока 290 тКА, Это происходит вследствие интенсивного ухода квантов в направлении проход щего свето0 вого потока, так как t y мало. Коэффициент отражени рассчитывают по третьему максимальному значению потока . Его величина равна 0,35, Аналогично провод т измерени дл кювет5 Therefore, install another substrate. The magnitude of the reflected light flux is 290 TCA. This is due to the intense quanta moving away in the direction of the transmitted light flux, since t y is small. The reflection coefficient is calculated from the third maximum stream value. Its value is 0.35. Similarly, measurements are made for a cuvette.
5 других размеров - 50 50X50 и 50 X X50X25 мм ,5 other sizes - 50 50X50 and 50 X X50X25 mm,
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU864148105A SU1408315A1 (en) | 1986-11-18 | 1986-11-18 | Method of determining the reflection index of scattering medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU864148105A SU1408315A1 (en) | 1986-11-18 | 1986-11-18 | Method of determining the reflection index of scattering medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1408315A1 true SU1408315A1 (en) | 1988-07-07 |
Family
ID=21267879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU864148105A SU1408315A1 (en) | 1986-11-18 | 1986-11-18 | Method of determining the reflection index of scattering medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1408315A1 (en) |
-
1986
- 1986-11-18 SU SU864148105A patent/SU1408315A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5537203A (en) | Integrated sphere for diffusal reflectance and transmittance | |
Kortüm | Reflectance spectroscopy: principles, methods, applications | |
US5955378A (en) | Near normal incidence optical assaying method and system having wavelength and angle sensitivity | |
JP2763770B2 (en) | Light scattering characteristics measurement method | |
US5991488A (en) | Coupled plasmon-waveguide resonance spectroscopic device and method for measuring film properties | |
JP3021643B2 (en) | Optical device | |
EP0648328B1 (en) | Improvement in optical assays | |
US7038765B2 (en) | Method of optically measuring black carbon in the atmosphere and apparatus for carrying out the method | |
US7586614B2 (en) | System and method for self-referenced SPR measurements | |
Lilienfeld | Optical detection of particle contamination on surfaces: a review | |
Arwin et al. | A reflectance method for quantification of immunological reactions on surfaces | |
JPH01213552A (en) | Improved reflection photometer | |
SU1408315A1 (en) | Method of determining the reflection index of scattering medium | |
US8367399B2 (en) | Method for measuring molecular interactions by measurement of light reflected by planar surfaces | |
Springsteen | Reflectance spectroscopy.: an overview of classification and | |
Brodsky et al. | Grating light reflection spectroscopy | |
Brudzewski | Ellipsometric sensor for H2S, SO2, Cl2 determination in air | |
SU1312455A1 (en) | Method of determining optical density of scattering medium | |
RU2107903C1 (en) | Test for forming the optical surface | |
SU1187563A1 (en) | Method of determining dissipation factor of translucent solid mirror-reflection materials with small absorption factor | |
SU872959A1 (en) | Touch-free photometric method of measuring transparent sample roughness height | |
SU1672209A1 (en) | Method of measuring the thickness of transparent plates with diffusing surface | |
JPS63293430A (en) | Optical measuring instrument | |
SU1642334A1 (en) | Method of material refractive index determination | |
Khaĭrullina et al. | Optical constants of nanostructured layers of copper, nickel, palladium, and some oxides in the UV and visible spectral regions |