SU1074617A1 - Apparatus for bilateral cleaning of articles - Google Patents
Apparatus for bilateral cleaning of articles Download PDFInfo
- Publication number
- SU1074617A1 SU1074617A1 SU823512854A SU3512854A SU1074617A1 SU 1074617 A1 SU1074617 A1 SU 1074617A1 SU 823512854 A SU823512854 A SU 823512854A SU 3512854 A SU3512854 A SU 3512854A SU 1074617 A1 SU1074617 A1 SU 1074617A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- cleaning
- products
- washing
- articles
- quality
- Prior art date
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДВУСТОРОННЕЙ ОЧИСТКИ ИЗДЕЛИЙ, содержащее два параллельно расположенных приводных моечных элемента, выполненных в виде дисков, и установленное между ними средство дл размещени изделий, отличающеес тем, что, с целью повыщени качества очистки, на сторонах дисков, обращенных -к изделию, выполнены выступы в виде усеченных пирамид. 4 О)DEVICE FOR BILATERAL CLEANING OF PRODUCTS, containing two parallelly located drive washing elements made in the form of discs, and a means for placing products installed between them, characterized in that, in order to improve the quality of cleaning, on the sides of the discs facing the product, protrusions are made in the form of truncated pyramids. 4 O)
Description
Изобретение относится к технике очистки и может быть использовано в полупроводниковом производстве для двусторонней очистки заготовок фотошаблонов, а также полупроводниковых пластин после их механической обработки.The invention relates to a cleaning technique and can be used in semiconductor manufacturing for two-sided cleaning of blanks of photomasks, as well as semiconductor wafers after their machining.
Известно устройство для двусторонней очистки изделий, содержащее два параллельно расположенных приводных моечных элемента, выполненных в виде дисков, и установленное между ними средство 10 для размещения изделий [1].A device for two-sided cleaning of products is known, containing two parallel-located drive washing elements made in the form of disks, and a means 10 for placing the products installed between them [1].
Однако известное устройство не обеспечивает высокое качество очистки, так как в процессе мойки быстро происходит загрязнение материала щеток, которое переносится на поверхность фотошаблонов. 15 However, the known device does not provide a high quality of cleaning, since during the washing process, the brush material is quickly contaminated, which is transferred to the surface of the photo masks. fifteen
Цель изобретения — повышение качества очистки изделий.The purpose of the invention is improving the quality of cleaning products.
Поставленная цель достигается тем, что на сторонах дисков, обращенных к изделию, выполнены выступы в виде усе- 2о ченных пирамид.This goal is achieved by the fact that on the sides of the disks facing the product, protrusions are made in the form of truncated 2 pyramids.
На фиг. 1 изображено предлагаемое устройство, общий вид; на фиг. 2 — моечный элемент, выполненный в виде диска; на фиг. 3 — узел I на фиг. 2 (форма поверхности части моечного элемента). 25In FIG. 1 shows the proposed device, a General view; in FIG. 2 - washing element made in the form of a disk; in FIG. 3 - node I in FIG. 2 (surface shape of a part of the washing element). 25
Устройство состоит из держателя (на правляющих) 1, в котором шибером 2 перемещают изделия (подложки) 3, штуцера 4 для подачи моющего раствора через полый вал электропривода 5 и моечного элемента 6, защитных элементов (кожухов) 7 30 со сливными отверстиями 8. На поверхности моечного элемента 6, выполненного в виде диска, имеются выступы 9 по форме усеченной пирамиды.The device consists of a holder (on the guide rails) 1, in which products (substrates) 3 are moved with a gate 2, a nozzle 4 for supplying the washing solution through the hollow shaft of the electric drive 5 and the washing element 6, protective elements (casings) 7 30 with drain holes 8. On the surface of the washing element 6, made in the form of a disk, there are protrusions 9 in the shape of a truncated pyramid.
Устройство работает следующим образом.The device operates as follows.
Подложка 3 устанавливается в паз держателя 1, выполненный по форме подложки, после чего шибер 2 поднимается, при этом включается электропривод 5 и через штуцер 4, полый вал и моечный элемент 6 в зону очистки подается моющий раствор. При прохождении подложки между двумя моечными элементами происходит отмывка поверхности раствором. При этом в зоне между поверхностью подложки и моющим элементом за счет выступов 9 и вращения моечных элементов 6 образуется кавитационная область, способствующая быстрой и качественной очистке, образованная за счет скорости истечения раствора в зоне очистки под действием давления и центробежных сил, образующихся при вращении моечных элементов. После полной очистки подложки с двух сторон ее выгружают и устанавливают следующую. Цикл повторяется.The substrate 3 is installed in the groove of the holder 1, made in the form of a substrate, after which the gate 2 rises, the electric drive 5 is turned on and through the nozzle 4, the hollow shaft and the washing element 6, a washing solution is supplied to the cleaning zone. When passing the substrate between the two washing elements, the surface is washed with a solution. Moreover, in the zone between the surface of the substrate and the washing element due to the protrusions 9 and the rotation of the washing elements 6, a cavitation region is formed that facilitates quick and high-quality cleaning, formed due to the rate of flow of the solution in the cleaning zone under the action of pressure and centrifugal forces generated during rotation of the washing elements . After thorough cleaning of the substrate from two sides, it is unloaded and the next one is installed. The cycle repeats.
Изобретение обеспечивает качественную очистку изделий, поскольку интенсивность кавитации в кавитационной зоне равномерна, а выполнение паза в держателе, соизмеримого с размерами обрабатываемой подложки, обеспечивает' постоянный перепад высот в зоне обработки, что способствует образованию кавитации.The invention provides high-quality cleaning of products, since the cavitation intensity in the cavitation zone is uniform, and the groove in the holder, commensurate with the dimensions of the processed substrate, provides a constant difference in height in the processing zone, which contributes to the formation of cavitation.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU823512854A SU1074617A1 (en) | 1982-10-11 | 1982-10-11 | Apparatus for bilateral cleaning of articles |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU823512854A SU1074617A1 (en) | 1982-10-11 | 1982-10-11 | Apparatus for bilateral cleaning of articles |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1074617A1 true SU1074617A1 (en) | 1984-02-23 |
Family
ID=21036150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU823512854A SU1074617A1 (en) | 1982-10-11 | 1982-10-11 | Apparatus for bilateral cleaning of articles |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1074617A1 (en) |
-
1982
- 1982-10-11 SU SU823512854A patent/SU1074617A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
1. Авторское свидетельство СССР № 776665, кл. В 08 В 3/02, 1977. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0784517B1 (en) | Process and device for thoroughly cleaning surfaces | |
JP2877820B2 (en) | Method and apparatus for cleaning, rinsing and drying silicon wafers | |
US3991296A (en) | Apparatus for forming grooves on a wafer by use of a laser | |
US4401131A (en) | Apparatus for cleaning semiconductor wafers | |
US4178188A (en) | Method for cleaning workpieces by ultrasonic energy | |
EP0871207B1 (en) | Method and apparatus for single-side processing of disk-shaped articles | |
SE8303475L (en) | CIRCUIT TREATMENT | |
US4375992A (en) | Apparatus and method for cleaning recorded discs | |
WO1987006862A1 (en) | Ultrasonic cleaning method and apparatus | |
SU1074617A1 (en) | Apparatus for bilateral cleaning of articles | |
JPS6118958A (en) | Cleaning method of glass mask for semiconductor device | |
JPS6373626A (en) | Treating device | |
JPS58166726A (en) | Etching device for wafer | |
US3585668A (en) | Brush cleaning apparatus for semiconductor slices | |
EP0297648B1 (en) | Method of shaping the edges of slices of semiconductor material and corresponding apparatus | |
US2296490A (en) | Fruit orienting device | |
JPH1190359A (en) | Overflow type scrub washing and apparatus therefor | |
WO1988004582A1 (en) | Ultrasonic cleaning method and apparatus | |
US3405720A (en) | Movable work etcher | |
US5407527A (en) | Automated process for the manufacture of flexible plates and apparatus for implementing the process | |
US3396769A (en) | Tomato peeling method | |
SU1496842A1 (en) | Arrangement for bilateral cleaning of flat articles | |
DE3376089D1 (en) | Process for the treatment of flexible printing plates obtained by a photochemical process | |
JPS5919329A (en) | Cleaning method and device thereof | |
SU485858A1 (en) | Machine of bilateral chemical and mechanical polishing of semiconductor wafers |