SU1064345A1

SU1064345A1 - Optronic system

Info

Publication number: SU1064345A1
Application number: SU823519731A
Authority: SU
Inventors: Сергей Петрович Вычегжанин
Original assignee: Предприятие П/Я Г-4294
Priority date: 1982-08-11
Filing date: 1982-08-11
Publication date: 1983-12-30

Abstract

1. ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКАЯ СИСТЕг1А, содержаща последовательно расположенные по ходу пучков систем формировани трех компланарных пучк электронов в иде иммерсионных объе тивов и систему фокусировки и сведе ни электр знных пучков, выполненную в виде цилиндрических электростатических линз, из которых линзы фокусировки пучков в направлении, перпе дикул рнсм Нлоскости их расположени вл ютс общими дл всех пучков и образованы набором плоских электродов , где предпоследний по хсду пучков плоский Электрод вл етс фокусирукщмм , а линзы фокусировки в плоскости расположени пучков вл ю с индивиду аЛьньми и образованы высоковольтным электродом индивидуальной фокусировки, и высоковольтньм t 34 S электродом сведени , в котором оси крайних отверстий параллельно смешены к оси системы от плоскостей симметрии соответствукадих кргАних отверстий высоковольтного электрода индивидуальной фокусировки, от чающа с тем, что, с целью повьшени точности самосведени по кра м экрана и разрааакщей способнести , она снабжена допоЛйитепьньм электреда ом, расположенным между последним плоским электродом общей фокусирующей линзы и высоковольтным электродом индивидуальной фокусировки и выполненным с одним общим, дл всех пучков центральньм отверстием пр моугольной формы, при этом в последнем по ходу пучков плоском электроде общей фокусирующей М1нзы«, оси крайних отверстий параллельно смещены от осей соответствующих крайних отверстий плоского фОкуси-: рукщего электрода в направлении от оси системы, а оси крайних Отверс-г тий высоковольтного электрода индивидуальной фокусировки параллельно, смещены от осей соответствующих отверстий плоского фокусиру ющего электрода в направлении к оси системы .1. ELECTRON-OPTICAL SYSTEM-1A, containing successively arranged along the beams of the systems for the formation of three coplanar electron beams into ideal immersion volumes and a focusing system and convergence of electrically-significant beams, in the form of cylindrical electrostatic lenses, from which the focusing lenses of the beams in the direction, perpe dicles phrms The planes of their arrangement are common to all beams and are formed by a set of flat electrodes, where the penultimate last for the beams of a flat Electrode is the focusing lens and The focusing in the plane of the beam arrangement is individual and consists of a high voltage individual focusing electrode and a high voltage t 34 S convergence electrode, in which the axes of the extreme holes are parallel to the axis of the system from the symmetry planes of the corresponding individual focus holes of the high voltage electrode of individual focusing from By the fact that, in order to increase the accuracy of self-exploration along the edges of the screen and developing it, it is equipped with an additional electric device located between the last flat electrode of the common focusing lens and the high-voltage individual-focusing electrode made with one common, for all beams, a central rectangular aperture, while in the last flat electrode along the common focusing M1nzy focus, the axes of the outer holes are parallel to the axes of the corresponding outer holes a flat FOCUS-: hand electrode in the direction from the axis of the system, and the axis of the outermost hole of the high-voltage individual-focusing electrode in parallel, offset us from the axes of the corresponding holes focusing the planar gate electrode toward the system axis.

Description

2. Система по п. 1, отличающа с 1&Л, что параллель ные смещени осей крайних отверстий последнего плоского электрода общей фокусирунщей линзы и высоковольтного электрода индивидуальной2. The system of claim 1, characterized by 1 & L, that the parallel displacements of the axes of the extreme apertures of the last flat electrode of the common focusing lens and the high voltage electrode of an individual

фокусирювки от .осей соответствующих отверстий плоского фокусирующего электрода составл ют соответственно 0,1-0,2 и 0,02-0,07 от расстойни между ос ми крайних отверстий плоского фокусирующего электрода.The focusing points from the axes of the corresponding openings of the flat focusing electrode are respectively 0.1-0.2 and 0.02-0.07 from the distance between the axes of the extreme openings of the flat focusing electrode.

. 1 ... one ..

Изобретение относитс к электронной технике, в частности к электронно оптическим системам, формирующим компланарно расположенные электронные пучки в таких электронно-лучевых приборах, как цветные кинеско- пы.. The invention relates to electronic engineering, in particular, to electron-optical systems, which form coplanarly arranged electron beams in such electron-beam devices, such as color kinescopes.

Известна электронно-оптическа система (ЭОС) дл цветных кинескопов с трем компланарно расположенными электронными прожекторами, каждый из которых содержит катод, модул тор, ускор ющий электрод, дсшолнительные линзообразующие элек роды, включа общую дл трех электронных пучков электростатическую систему сведени , образованную аксиально расположенными электродрм сведени и цилиндрическим анодом. Электрод сведени состоит из двух сопр женных цилиндров разных диаметров , причем торец электрода сведени , обращенный к электронньм прожектор ам , снабжен провод щей стен .кой с третл отверсти ми, аксиальными с отверсти ми электродов, вход щих в ооответствукщие электронные прожекторы, а длина цилиндра электрода сведени с большим диаметром составл ет 0,35-0,6 указанного диаметра С11.The known electro-optical system (EOS) for color kinescopes with three coplanarly arranged electronic projectors, each of which contains a cathode, a modulator, an accelerating electrode, and additional lens-forming electrons, including a common for three electron beams electrostatic mixing system formed by axially arranged electrodes information and a cylindrical anode. A convergence electrode consists of two adjoining cylinders of different diameters, and the end of the convergence electrode, facing the electronic searchlight am, is provided with a conductive wall with tert-holes, axial with the apertures of the electrodes, included in the corresponding electronic searchlights, and the length of the electrode cylinder information with a large diameter is 0.35-0.6 of the indicated diameter C11.

Недостаток данной ЭОС заключаетс в том, что электростатическа система сведени расположена в области магнитной системы развертки, поэтому рассто ние .между сводимьми пучками в этой области такое же, как и в области ускор ющего электрода прожектора, что обусловливает астигматизм отклонени и, следовательно , большую степень несведени по кра м экрана.The disadvantage of this EOS lies in the fact that the electrostatic mixing system is located in the magnetic sweep system, therefore the distance between the beams in this area is the same as in the area of the accelerating electrode of the searchlight, which causes a large degree of astigmatism not on the edge of the screen.

Наиболее близкой к предлагаемой по технической сущности вл етс ЭОС, содержаща последовательно расположенные по ходу пучков систему формировани трех компланарных пучков электронов в виде иммерсионных объективов и систему фокусировки и сведени электронных пучков, выполненную в виде 1щлиндрических электростатических линз, из которых Шмэы фокусировки пучков в направлеНИИ , перпендикул рном плоскости их расположени , вл ютс ойдими дл всех пучков и образованы набором плоских электродов, где предпоследний по ходу пучков плоский электрод вл етс фокусирующим, а линзы фокусировки в плоскости расположени пучков вл ютс индивидуальными и образованы высоковольтным электроДО1 индивидуальной фокусировки и высоковольтным электродом сведени , в котором оси крайних отверстий . параллельно смедены к оси системы от плоскостей симметрии соответствующих крайних отверстий высоковольтного электрода индивидуальной фокусировки C2J.The closest to the proposed technical entity is the EOS, which contains successively located along the beams the system of forming three coplanar electron beams in the form of immersion objectives and a system for focusing and converging the electron beams, made in the form of 1-slitral electrostatic lenses, from which Shmey focuses the beams in the direction of the NII, perpendicular to the plane of their location, are odes for all beams and are formed by a set of flat electrodes, where the penultimate one along the beams is flat the electrode is focusing, and the focusing lenses in the plane of the beams are individual and are formed by a high-voltage electrodio1 individual focusing and a high-voltage convergence electrode, in which the axes of the outer holes. parallel to the system axis from the planes of symmetry of the corresponding extreme holes of the high-voltage individual-focusing electrode C2J.

Недостатком известной ЭОС вл етс то, что фокусировка индивидуальной цилиндрической линзы совмещена с систет ой сведени и не имеет поцст ройки/ а это приводит к тому, что при достижении оптимального сведени происходит смацение плоскости с тимальной фокусировки и ухудшение разрешающей способности. Кроме того, прк отклонении сведенных пучков имеет место заметна величина астигматизма Отклонени , котора выражаетс в том, что пучки электронов отклон ютс системой магнитной развертки по-разнсму. Это приводит к нарушению сведени на кра х экрана. Причем чем дальше друг от друга расположены пучки, тем большую величину имеет астигматизм отклонени , тем больше величина несведени на кра х экрана.A disadvantage of the known EOS is that the focusing of an individual cylindrical lens is combined with a system of information and doesn’t have a side effect (and this leads to the fact that when optimal mixing is achieved, the plane is smeared from the maximum focusing and the resolution is deteriorated. In addition, due to the deviation of the converged beams, there is a noticeable amount of astigmatism Deviation, which is expressed in that the electron beams are deflected by the magnetic scanning system in different ways. This leads to a breakdown of convergence at the edges of the screen. Moreover, the farther apart the beams are, the greater the deviation astigmatism has, the greater the non-reduction at the edges of the screen.

Цель изобретени - повышение точности самосведени по кра м экрана и разрешающей способности.The purpose of the invention is to improve the accuracy of self-knowledge on the edges of the screen and resolution.

Указанна цель достигаетс тем, что ЭОС, содержаща последовательно расположённые по ходу пучков сийтему формировани трех компланарных пучков электронов в виде иммерсионных объективов и систему фокусировки и сведени электронных пучков, выполненную в виде цилиндрических электростатических линз, из которых линзыфокусировки пучков в направлении, перпендикул рном плоскости их расположени ,, вл ютс общими дл Всех пучков и образованы набором плоских электродов, где предпоследний по ХОДУ пучков плоский электрод вл ет с фокусирующим, а линзы фокусировки в плоскости расположени пучков вл ютс индивидуальными и образова ны высоковольтн( электродом индивидуальной фокусировки и высоковольтньм электродом сведени , в котором оси крайних отверстий параллельно смещены к оси системы от плоскостей симметрии соогветствующих крайних отверстий высоковольтного электрода индивидуальной фокусировки , сна:бжена дополнительным электроде, расположеннь между последним плоским электродом общей фокусирующей линзы и высоковольтном электродом индивидуальной фокусиров ки и выполненные с одним общим дл всех .пучков центральным отверстием пр моугольной ФО1Ж4Ы, при этом в пос леднем по ходу, пучков плоском элект роде общей фокусирующей линзы оси крайних отверстий параллельно смеще ны от осей соответствующих крайних отверстий плоского фокусирующего электрода в направлении от оси системы , а оси крайних отверстий высотковольтного электрода инцивццуддьт ной фокусировки параллельно смещены от осей соответствующих отверстий фокусирующего электрода в направлении к оси системы. Кроме того, параллельные смещени осей крайних отверстий последнего плоского электрода общей фокусируквдей линзы и высоковольтного элек рода индивидуальной фокусировки от осей соответствующих отверстий плос кого фокусирующего электрода состав л ют соответственно 0,1-0,2 и 0, от рассто ни между ос ми крайних отверстий плоского фокусиру щего электрода. На фиг. 1 изображена схема ЭОС на фиг. 2 - распределение эквипотенциалей электрического пол между последним плоским электродом сведени и дополнительным электродом. ЭОС содержит систему формировани трех компланарных пучков в виде иМмерсионных объективов, в которые вход т раздельные катоды 1, общий модул тор 2 и общий плоский ускор ю щий электрод 3, систему фокусировки и сведени общей дл всех электронных пучков цилиндрической фокусирую щей линзы, в которую вход т плоский фокусируйций электрод 4 и последний по ходу электронных пучков плоский электрод 5, который имеет параллель ное смещение осей крайних отверстий 6 и 7 от осей соответствующих крайних отверстий плоского фокусиру щего электрода 4 в направлении от оси 8 системы, а также дополнительный плоский электрод .9 с одним центральньм пр моугольны отверстием. Кроме того, ЭОС содержит систему цилиндрических индивидуальных линз, в которую вход т высоковольтный электрод 10 индивидуальной фокусировки с трем пр моугольными отверсти ми , которые выполнены таким образом , что оси крайних отверстий 11 и 12 имеют параллельное смещение по отношению к ос м соответствующих крайних отверстий плоского фокусирующего электрода 4, а также высоковольтный электрод 13 сведени , который имеет параллельное смещение осей крайних отверстий 14 и 15 от осей соответствующих крайних отверстий высоковольтного электрода 10 индивидуальной фокусировки. ЭОС включает также поверхность 16 фокусировки и провод цее покрытие 17. Система работает следующим образом . Три иммерсионных объектива фО1 мируют параллельные компланарно расположенные расход щиес электронные пучки. Электронные пучки попадают в общую цилиндрическую линзу, котора Фокусирует их на экране в плоскост х, пертендикул рных плоскости расположени осей пучков. Кроме того, в области последнего плоского элект-. рода 5 и дополнительного плоского электрода 9 происходит отклонение крайних пучков к оси 8 системы таким образом, что крайние электронные пучки попадают в центра-соответствующих крайних отверстий 11 и 12 электрода 10 индивидуальной фокусировки, который совместно с электродом 13 фокусирует пучки в плоскости расположени их осей и отклон ет крайние пучки от оси 8 системы, обеспечива их сведение в одну точку на поверхности 16. Система цилиндрических линз индивидуальнойфокусировки, оси крайних отверстий которой расположены ближе к оси 8 системы по отношению к ос м крайних отверстий плоского фокусирующего электрода 4, осуществл ет разведение электронных пучков поперечной составл ющей электЕжческого пол . Благодар двойному лучепреломлению сначала в области между последним плоским электродом 5 и дополнительным электродсал 9, а затем в области между высоковольтным электродом 10 индивидуальной фокусировки и высоковольтным электродом 13 сведени происходит уменьшение рассто ни между крайними электронными пучками в области магнитной развертки, котора , как обычно , осуществл етс системой электромагнитов , установленных на горловине стекл нного баллона. При этом уменьшаетс астигматизм отклонени ,, улучшаетс самосведение на кра х экрана и повышаетс разрешающа способность.This goal is achieved by the fact that EOS, containing successively located along the beam paths, the formation of three coplanar electron beams in the form of immersion objectives and a system of focusing and converging electron beams, made of cylindrical electrostatic lenses, from which the beam focusing beams in the direction perpendicular to their plane arrangements are common to All beams and are formed by a set of flat electrodes, where the penultimate in the course of the beams the flat electrode is with a focusing lens, and focusing lenses in the plane of beam arrangement are individual and are formed by high-voltage (individual focusing electrode and high-voltage convergence electrode, in which the axes of the extreme holes are parallel to the axis of the system from the symmetry planes of the corresponding individual focusing holes, sleep: electrode is located between the last flat electrode of the common focusing lens and the high-voltage electrode of the individual focus to and made with one common for all beams central hole of the rectangular FO1ZH4Y, while in the last along the beams of the flat electrode of the common focusing lens the axes of the extreme holes are parallel to the axes of the respective extreme holes of the flat focusing electrode in the direction from the axis of the system, and the axes of the extreme holes of the high-voltage electrode of the incisive focusing are parallelly displaced from the axes of the corresponding holes of the focusing electrode in the direction of the axis of the system. In addition, parallel displacements of the axes of the extreme openings of the last flat electrode of the common focusing lens and the high voltage individual focusing electrode from the axes of the corresponding openings of the flat focusing electrode are respectively 0.1-0.2 and 0, from the distance between the axes of the extreme openings flat focusing electrode. FIG. 1 is a diagram of the EOS in FIG. 2 shows the distribution of the equipotentials of the electric field between the last flat electrode and the additional electrode. The EOS contains a system for forming three coplanar beams in the form of immersion objectives, which include separate cathodes 1, a common modulator 2 and a common flat accelerating electrode 3, a focusing system and converging a cylindrical focusing lens common to all electron beams t flat focusing electrode 4 and the last flat electrode 5 along the electron beams, which has a parallel displacement of the axes of the extreme openings 6 and 7 from the axes of the corresponding extreme openings of the flat focusing electrode 4 in the direction From the axis of the system, as well as an additional flat electrode .9 with one central rectangular hole. In addition, the EOS contains a system of cylindrical individual lenses, which includes a high voltage electrode 10 for individual focusing with three rectangular apertures, which are designed so that the axes of the extreme holes 11 and 12 have a parallel displacement with respect to the axes of the respective extreme holes of the flat the focusing electrode 4, as well as the high-voltage electrode 13 of the information, which has a parallel displacement of the axes of the extreme holes 14 and 15 from the axes of the corresponding extreme holes of the high-voltage electrode 10 individual focus. EOS also includes a focusing surface 16 and a wire covering 17. The system operates as follows. Three immersion objectives FO1 mirovat parallel komplanarno located diverging electron beams. The electron beams fall into a common cylindrical lens, which focuses them on the screen in planes perpendicular to the plane of the axes of the beams. In addition, in the area of the last flat electronic. of type 5 and an additional flat electrode 9, the extreme beams deviate to the axis of the system 8 in such a way that the extreme electron beams fall into the center-corresponding extreme holes 11 and 12 of the individual focusing electrode 10, which together with the electrode 13 focuses the beams in the plane of their axes and deflects the outermost beams from the axis 8 of the system, ensuring that they are reduced to a single point on the surface 16. A system of cylindrical lenses of individual focusing, the axes of the extreme holes located closer to the axis 8 of the systems With respect to the axes of the extreme openings of the flat focusing electrode 4, the electron beams of the transverse component of the electric field are diluted. Due to double refraction, first in the region between the last flat electrode 5 and the additional electrode shaft 9, and then in the region between the high-voltage individual focusing electrode 10 and the high-voltage convergence electrode 13, the distance between the extreme electron beams in the magnetic sweep region, which, as usual, It is a system of electromagnets mounted on the neck of a glass bottle. As a result, the deviation astigmatism is reduced, the self-imposition at the edges of the screen is improved, and the resolution is increased.

Claims

1. ELECTRON-OPTICAL ₄ SYSTEM, comprising a system for the formation of three coplanar electron beams sequentially located along the beams in the form of immersion lenses and a focusing and information system for electron beams made in the form of cylindrical electrostatic lenses, of which the focusing lenses are in the direction perpendicular to their plane locations are common to all beams and are formed by a set of flat electrodes, where the penultimate flat electrode along the beams is a focusing electrode, if The focusing lines in the plane of the arrangement of the beams are individual and are formed by a high-voltage electrode of individual focusing and a high-voltage mixing electrode, in which the axes of the extreme holes are parallel mixed to the axis of the system from the symmetry planes of the corresponding extreme holes of the high-voltage individual focusing electrode, the fact that, in order to increase the accuracy of self-alignment along the edges of the screen and resolution, it is equipped with an additional electrode located between the last m flat electrode common; focusing lens and a high-voltage electrode of individual focusing and made with one common, for all beams, rectangular central hole, while in the last flat electrode of the common focusing Lens t along the beams, the axes of the extreme holes are parallelly offset from the axes of the corresponding extreme holes of the flat focusing electrode in the direction from the axis of the system, and the axes of the extreme Holes of the individual high-voltage electrode of Focusing are parallel, offset from the axes of the corresponding holes of the flat focus siruyuschego electrode toward the system axis.

1064 345

2. The system by π. 1, characterized in that the parallel displacements of the axes of the extreme holes of the last flat electrode of the common focusing lens and the high-voltage individual focusing electrode from the axes of the corresponding holes of the flat focusing electrode are 0.1-0.2 and 0.02-0.07, respectively, from the distance between the axes extreme holes of the flat focusing electrode.