Изобретение относитс к оптоэлек ронному приборостррению, в частност к устройствам дл изготовлени фазо вых фильтров дл светооптической ко рекции изображений исследуемых объе тов в электронном микроскопе, Известен фазовый фильтр дл коррекции изображени в электронном микроскопе, полученный расчетным путем Н . Однако расчетный метод получени фильтров-обладает такими недостатками , как неточность в расположении полос диф1эакционной репетки фильтра, поскольку построение произ водитс по дискретным точкам, большие затраты времени и трудоемкость проведени расчетов, а также больша веро тность возникновени случайных ошибок. Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности вл етс устройство дл изготовлени фааовых фильтров дл светооптической коррекции изображени в электронном микроскопе, содержащее когерентный источник света, полупрозрачное зерк ло, коллиматор, две диафрагмы и фотопластину , расположенные соосно, а также систему формировани опорно го пучка, состо щую из второго коллиматора и поворотного зеркала 2 Недостатком этого устройства вл етс то, что оно позвол ет изготовл ть только Фильтры с дискретным изменением фазы, которые исполь зуютс дл коррекции изображений, полуленшлх в электронном,микроскопе с круглой апертурной диафрагмой, и не могут примен тьс дл коррекции изображений, полученных с диафрагмой - полуплоскостью. Причем дл каждой определенной величины дефокусировки электронного микроскопа необходимо изготовление отдельного фильтра. Цель изобретени - расширение корректирующих возможностей фильтро путем получени филктроВ с непрерыв ным сдвигом фазы. Поставленна цель достигаетс тем, что в устройство дл изготовлени фазовых фильтров дл сйетооптической коррекции изображени в электронном микроскопе, содержсицее .когерентный источник света, полупро рачное зеркало, коллиматор, две диа рагмы и фотопластину, расположенные соосно, а также систему формировани опорного пучка, состо щую из второг коллиматора и поворотного зеркала, введена положительна линза, установленна мелду диафрагмами, причем коэффициент сферической аберрации положительной линзы определ етс из соотношени , 4 ЧСо/ в П тэ J а удаление фотопластины от задней фокаха ной плоскости этой линзы - из соотношени коэффициент сферической аберрации положительной линзы; коэффициент сферической аберрации электроннооптической системы электронного мшсроскопа; длина волны когерентного источника света; длина волны электронов в электронном микроскопе; апертура,электроннооптической системы электронного , микроскопа; ij- фокубное рассто ние положительной линзы; световой диакютр первой диафрагмы; удаление фотопластины от задней к льиой плоскости положительной линзы; заданный диаметр фильтра. На чертеже представлена оптическа схема предлагаемого устройства. устройство включает когерентный источник :i света, полупрозрачное зеркало 2,первый коллиматорЗ, пер-i вую диафр агму 4, положительную линзу или объектив 5, вторую диафрагму б и фотопластину 7, расположенные соосно. Кроме того, в состав устройства входит система формировани опорного пучка, состо ща из второго коллиматора 8 и поворотного зеркала 9. Причем коэффициент сферической аберргщии Сод линзы 5, а также удаление Ь фотопластины 7 от задней фокальной плоскости 10 этой линзы определ ютс из приведенных выК соотношений .. Предлагаемое устройство работает следующим образом. Когерентный световой пучок от источника 1 раздел етс полупрозрачньм зеркалом 2 на два пучка - сигнальанЛ и опорный. Коллиматор 3 с диафрагмой 4 формируют плоскую волну со световым диаметром Bf . После прохождени сигнального пучка через линзу 5 его волновой фронт в любом сечении , в том числе и в плоскости фотопластины 7, содержит сферическую аберрацию 1 / Ъ, И ) котора благрдар соответствующему значению Сц эквивалентна сферической аберрации , вносимой в изображение электронным микроскопом. Коллиматор 8 формирует плоский фронт у опорного светового пучкаI который затем направл етс поворотньм зеркалом 9 на фотопластину 7, где происходит регистраци интерференционной картины. При этом интерференци пучков с Плоским волновЕм фронтом и волновым фронтом со сферической аберрацией обеспечивает получение фильтров с непрерывн сдвигом фазы и последую щую компенсацию сферической абер ,рации, вносимой в изображение элек . {роннооптической системой электрон ного микроскопа. Благодар вьццеуказанному значению Ъ реализуетс заданный диаметр фильтраВф. Таким образом, использование изобретени позвол ет изготавливать фильтры дл светооптической коррекции электроннсмикроскопических изображений с непрерывным изменением фазы, что расшир ет их корректирую щие возможности - достигаетс более высокое качество коррекции изображени и увеличиваетс число видов корректируемых изображений. При этом выход электронномикроскопических снимков с правильные воспроизведением структуры исследуемых объектов повшаетс с 10 до 15%.The invention relates to an optoelectronic instrument, in particular, to devices for making phase filters for light-optical correction of images of the studied volumes in an electron microscope. A phase filter for image correction in an electron microscope, obtained by calculation, H is known. However, the computational method of obtaining filters has such disadvantages as inaccuracies in the arrangement of the bands of the diffraction filter repetition, since the construction is performed at discrete points, the time and complexity of the calculations, and the greater likelihood of random errors occur. The closest to the proposed technical essence is a device for making phase filters for light-optical image correction in an electron microscope, containing a coherent light source, a translucent mirror, a collimator, two diaphragms and a photographic plate arranged coaxially, as well as a support beam formation system The second collimator and the swivel mirror 2. The disadvantage of this device is that it allows you to manufacture only discrete-phase change filters, which are pol zuyuts for correcting image polulenshlh in electronic microscope with a circular aperture stop, and can not be used for correction of images obtained with the diaphragm - half-plane. Moreover, for each specific value of the defocus of the electron microscope, it is necessary to manufacture a separate filter. The purpose of the invention is to expand the filtering capability of the filter by obtaining a filter with a continuous phase shift. This goal is achieved by the fact that the device for manufacturing phase filters for optical optical image correction in an electron microscope contains a coherent light source, a semi-translucent mirror, a collimator, two diagrams and a photographic plate arranged coaxially, and also a reference beam formation system consisting of from the second collimator and the swiveling mirror, a positive lens is inserted, set to the aperture, the coefficient of spherical aberration of the positive lens is determined from the ratio 4 Co / P in te J photographic plates and removal of hydrochloric fokaha rear plane of the lens - the ratio of the coefficient of the positive lens of the spherical aberration; the spherical aberration coefficient of the electron-optical system of the microscope; wavelength of a coherent light source; electron wavelength in an electron microscope; aperture, electron-optical electron system, microscope; ij is the focus distance of the positive lens; light diakutyr of the first diaphragm; removal of the photoplate from the back to the lion plane of the positive lens; specified filter diameter. The drawing shows the optical layout of the device. The device includes a coherent source: i light, a translucent mirror 2, the first collimator 3, the first diaphragm 4, the positive lens or objective 5, the second diaphragm b, and the photo plate 7 located coaxially. In addition, the device includes a reference beam forming system consisting of a second collimator 8 and a rotating mirror 9. Moreover, the spherical coefficient of the Sod lens 5, as well as the removal of the photoplate 7 from the rear focal plane 10 of this lens are determined from the above off-set ratios .. The proposed device works as follows. The coherent light beam from source 1 is divided by a semitransparent mirror 2 into two beams — the signal and the reference. Collimator 3 with diaphragm 4 forms a plane wave with a light diameter Bf. After passing the signal beam through the lens 5, its wave front in any cross section, including in the plane of the photoplate 7, contains a spherical aberration 1 / b, and I) which is equivalent to the corresponding value Cs of the spherical aberration introduced into the image by an electron microscope. The collimator 8 forms a flat front at the reference light beam, I, which is then guided by a rotating mirror 9 to the photoplate 7, where the interference pattern is recorded. In this case, the interference of beams with a Plane Wave front and a wave front with spherical aberration provides for obtaining filters with a continuous phase shift and the subsequent compensation of the spherical aberration of a radio transmitter introduced into the image of an elec. {ronnoptical system of the electron microscope. Due to the above indicated value of b, the specified diameter of filter WF is realized. Thus, the use of the invention makes it possible to produce filters for optical-optical correction of electron-microscopic images with continuous phase change, which expands their correction capabilities — a higher image correction quality is achieved and the number of types of corrected images increases. At the same time, the output of electron microscopic images with correct reproduction of the structure of the studied objects increases from 10 to 15%.