SU1052899A1 - Method of measuring vacuum - Google Patents

Method of measuring vacuum Download PDF

Info

Publication number
SU1052899A1
SU1052899A1 SU823505573A SU3505573A SU1052899A1 SU 1052899 A1 SU1052899 A1 SU 1052899A1 SU 823505573 A SU823505573 A SU 823505573A SU 3505573 A SU3505573 A SU 3505573A SU 1052899 A1 SU1052899 A1 SU 1052899A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
vacuum
measuring
semiconductor
semiconductor sensor
sensitive element
Prior art date
Application number
SU823505573A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Юлий Иннокентьевич Асалханов
Игорь Трофимович Пронькинов
Original Assignee
Восточно-Сибирский технологический институт
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Восточно-Сибирский технологический институт filed Critical Восточно-Сибирский технологический институт
Priority to SU823505573A priority Critical patent/SU1052899A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU1052899A1 publication Critical patent/SU1052899A1/en

Links

Landscapes

  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Abstract

СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ВАКУУМА путем измерени  изменени  сопротивлени  полупроводникового датчики, вызванного адсорбцией на поверхности его чувствительного элемента, отличающийс  тем, что, с целью повышени  чувствительности , в процессе измерени  на поверхность чувствительного элемента полупроводникового датчика направл ют пучок медленных электронов, и по величине полного тока в цепи чувстувительного элемента суд т о величине из мер емого вакуума. (Л ел ts: СХ) (;с соMETHOD OF MEASURING A VACUUM by measuring the change in resistance of a semiconductor sensor caused by adsorption on the surface of its sensitive element, characterized in that, in order to increase the sensitivity, a beam of slow electrons is directed to the surface of the sensitive element of the semiconductor sensor and the total current in the circuit of the sensing element judge the magnitude of the measured vacuum. (L ate ts: CX) (; с с со

Description

Изобретение относится к физической электронике и предназначено для измерения давления газа в вакуумных системах.The invention relates to physical electronics and is intended for measuring gas pressure in vacuum systems.

Известен способ измерения давления газа в вакуумных системах, основанный 5 на-, явлении ионизации газа потоком электронов, имитированных катодом с последующей регистрацией величины ионного тока [1J .A known method of measuring gas pressure in vacuum systems, based on the 5th phenomenon of gas ionization by a stream of electrons imitated by a cathode with subsequent registration of the ion current [1J.

Недостатком известного способа яв-- Ю ляется ограничение нижнего предела измеряемых давлений.The disadvantage of this method is the limitation of the lower limit of the measured pressures.

Наиболее близким к предлагаемому является способ, основанный на адсорбции газа на поверхности чувствительного Л элемента датчика давления [2] .Closest to the proposed one is a method based on gas adsorption on the surface of a sensitive L element of a pressure sensor [2].

'Недостаток' такого способа заключается в низкой чувствительности к матым давлениям.A 'drawback' of this method is its low sensitivity to dull pressures.

Нель изобретения - повышение чувст- 20 вительности.There is no invention - an increase in sensitivity.

Поставленная цель, достигается тем, что согласно способу, · заключающемуся в измерении сопротивления полупроводникового датчика, вызванного адсорб- 25 цией газа на поверхности его чувствительного элемента, в процессе измерения на чувствительный элемент датчика направляют пучок медленных электронов и по величине полного тока в цепи чувстви- 30 тельного элемента судят о величине измеряемого вакуума.This goal is achieved by the fact that according to the method, · which consists in measuring the resistance of a semiconductor sensor caused by adsorption of gas on the surface of its sensitive element, a beam of slow electrons is sent to the sensitive element of the sensor during the measurement and the total current in the sensor circuit is 30 solid elements judge the size of the measured vacuum.

. Полный ток электронов, прошедших 'в тело, определяется особенностями отраженного, который складывается из упруг· J5 го и неупруго отраженных электронов. В полупроводниках неупругое рассеивание приводит к возбуждению переходов на уровне локальных центров прилипания, что приводит к их перезарядке и изменяло ет характер упругого рассеивания, что иэ-меняет особенности в поведении упругой компоненты отраженного тока и тем самым влияет на величину медленных электронов, ί проходящих в полупроводник. Адсорбция га-45 за на поверхности полупроводников изменя ет систему энергетических уровней приповерхностной области и тем самым резко изменяет условия прохождения медленных электронов в полупроводник. Таким образом, вследствие того, что количество медленных электронов постоянной энергии и неизменной плотности, падающих из вакуума и проходящих в полупроводник, зависит не только от энергетической структуры поверхности, но и от давления окружающего его газа, то величина полного тока может служить мерой давления газа в вакууме. Поскольку процесс взаимодействия медленных электронов носит безынерционный характер, а величина полного тока имеет определенную величину, то можно измерять низкие давления без применения усилителей постоянного тока.. Full electron current is passed 'in the body determined by the peculiarities of the reflected, which is composed of resilient · J5 first and inelastically scattered electrons. In semiconductors, inelastic scattering leads to the excitation of transitions at the level of local centers of adhesion, which leads to their charge exchange and changes the nature of elastic scattering, which changes the features in the behavior of the elastic component of the reflected current and thereby affects the magnitude of the slow electrons passing through the semiconductor . 45 for gas-adsorption on the surface of semiconductors is change of energy levels of the system the surface region and thereby drastically changes the conditions for the passage of slow electrons in the semiconductor. Thus, due to the fact that the number of slow electrons of constant energy and constant density incident from a vacuum and passing into a semiconductor depends not only on the energy structure of the surface, but also on the pressure of the gas surrounding it, the total current can serve as a measure of the gas pressure in vacuum. Since the process of interaction of slow electrons is inertialess, and the total current has a certain value, it is possible to measure low pressures without the use of direct current amplifiers.

На чертеже изображен один из вариантов устройства для осуществления способа.The drawing shows one embodiment of a device for implementing the method.

Устройство содержит катод 1,. фокусирующий цилиндр 2, анод 3 и коллектор 4. Параллельно плоскости коллектора 4 размещен монокристал полупроводника 5 < (III) с окисной пленкой.The device contains a cathode 1 ,. focusing cylinder 2, anode 3, and collector 4. Parallel to the plane of collector 4, a single crystal of semiconductor 5 <(III) with an oxide film is placed.

Способ измерения давления вакуума осуществляют следующим образом.The method of measuring vacuum pressure is as follows.

Электронный луч, эмитированный катодом 1 и сформированный электрическими полями цилиндра 2, анода 3 и коллектора 4, направляют на поверхность полупроводника 5. /Часть электронов проходит в полупроводник, а часть отражается и захватывается коллектором 4. Ток, проходящий в дени полупроводника, регистрируют, и по его величине определяют давление окружающего газа. При этом суммарный ток полупроводника и коллектора при любом давлении газа остается постоянным.An electron beam emitted by the cathode 1 and formed by the electric fields of the cylinder 2, the anode 3 and the collector 4 is directed to the surface of the semiconductor 5. / Some of the electrons pass into the semiconductor, and some are reflected and captured by the collector 4. The current passing through the semiconductor denies is recorded, and its value determines the pressure of the surrounding gas. In this case, the total current of the semiconductor and collector at any gas pressure remains constant.

Использование изобретения позволит повысить чувствительность устройства, что исключает необходимость использования усилителя постоянного тока,Using the invention will increase the sensitivity of the device, which eliminates the need for a DC amplifier,

Claims (1)

СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ВАКУУМА путем измерения изменения сопротивления полупроводникового датчика, вызванного адсорбцией на поверхности его чувствительного элемента, отличающийся тем, что, с целью повышения чувствительности , в процессе измерения на поверхность чувствительного элемента полупроводникового датчика направляют пучок медленных электронов, и по величине полного тока в цепи чувствительного элемента судят о величине измеряемого вакуума.METHOD OF VACUUM MEASUREMENT by measuring a change in the resistance of a semiconductor sensor caused by adsorption on the surface of its sensitive element, characterized in that, in order to increase the sensitivity, a beam of slow electrons is directed to the surface of the sensitive element of the semiconductor sensor, and by the magnitude of the total current in the sensitive circuit element judge the size of the measured vacuum. Сл ьэ 00 ς© с©Сле 00 ς © с ©
SU823505573A 1982-10-28 1982-10-28 Method of measuring vacuum SU1052899A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU823505573A SU1052899A1 (en) 1982-10-28 1982-10-28 Method of measuring vacuum

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU823505573A SU1052899A1 (en) 1982-10-28 1982-10-28 Method of measuring vacuum

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1052899A1 true SU1052899A1 (en) 1983-11-07

Family

ID=21033757

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU823505573A SU1052899A1 (en) 1982-10-28 1982-10-28 Method of measuring vacuum

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1052899A1 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Вакуумные элементы и системы. Справочник под ред. В. Д. Лубенца. М, , МашийосТроение, 1968. 2, Авторское свидетельство СССР № 534662, кл. G О1 L 21/00, 15.07.75 (прототип). *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Chang et al. A Simple Counting System for Alpha-Ray Spectra and the Energy Distribution of Po Alpha-Particles
US6091068A (en) Ion collector assembly
GB2255671A (en) Drift field type mass spectrometer
US2814730A (en) Secondary emission monitor
US2769911A (en) Mass spectrometer for analysing substances or indicating a small amount of a determined substance
SU1052899A1 (en) Method of measuring vacuum
US7791018B2 (en) Electronic read-out circuits for pixilated/resistive charge detectors
Daly High Sensitivity Mass Spectrometer Leak Detector
SE427704B (en) STRALNINGSDETEKTORANORDNING
US4179608A (en) Right/left assignment in drift chambers and proportional multiwire chambers (PWC&#39;s) using induced signals
US3435207A (en) Apparatus for measuring velocity of low energy electrons
JPH09511614A (en) Solid-state mass spectrometer General-purpose gas detection sensor
JPH0338669Y2 (en)
RU2085966C1 (en) Charge-particle current density measuring device
JPS6290980A (en) Ion detecting element and ion detecting array
JPH0213463B2 (en)
US5925823A (en) Alpha-particle gas-pressure sensor
SU984072A1 (en) Device for determining aerosol ion concentration
JPH08122443A (en) Radiation detector
RU2082989C1 (en) Method for measuring coordinates of particles path
SU393661A1 (en) MAGNETRON MASS SPECTROMETER
SU1372254A1 (en) Method of diagnostics of electric fields in electronic devices with magnetic insulation
SU1681209A1 (en) Method of measuring electron work function
RU1816963C (en) Method of determination of surface roughness
Sikkema A parallel plate ionization chamber with gas multiplication