Изобретение относитс к устройствам дл осаждени покрытий из парога зовой фазы и может быть использовано при конструировании устройств дл на несени пленки на резисторы, Известно устройство дл осаждени покрытий, содержащее вибрационный за грузчик керамических стержней, два подающих механизма с питател ми, нагреватель диаметром 110 м, в которомгоризонтально размещены две реак ционные трубы, привод вращени реакционных труб и систему подами парога зовой смеси о Каждое устройство рассчитано на обработку стержней одного диаметра, В зависимости от диаметра обрабатываемых стержней реакционные трубы имеют размеры: наружный диаметр 8-12 мм, внутренний диаметр 2,3-5,3 мм.. Керамические стержни в узлах устройства и в реакционной трубе движутс в один р д друг за другом с радиальным зазором i(),3 мм. 1ри вращении реакционных труб стержни получают пульсирующее вращательно-поступательное движение,при этом предыдущие стержни подталкивают последующие . Устройство имеет две группы одинаковых механизмов по числу реакционных труб. Кажда реакционна труба св зана с одной группой механизмов Недостатками-указанного усттэойства вл ютс узкий диапазон величин, номинальных значений сопротивлений науглероживаемых стержней, возможност использовани этого устройства дл .обработки стержней только цилиндрической формы одного диаметра, низка производительность и надежность работы , большой расход электроэнергии на единицу продукции, а также сложкость конструкции. Конструкци указанного устройства не позвол ет получать низкоомные стержни в диапазоне 5-60 Ом, так как дл получени указанных номинальных сопротивлений требуетс повышенный расход парогазовой смеси, котора осаждаетс не только на обрабатываемых стержн х, но и на стенках реакционной трубы, вызыва ее быстрое зарастание и дела трубу непроходимой дл стержней Устройство предназначено дл обработки керамических стержней одного диаметра и длины, поскольку отверсти в узлах устройства и реакционной трубе выполнены на 0,3 мм больше, чем диаметр обрабатываемого стержн , а от секатели в подающих механизмах надежно работают только при изменении длины стержней в пределах 0, мм. При попадании в отверстие реакционной трубы керамического скола или бракованного стержн со скошенным или неровным торцом происходит заклинивание всего .столба стержней. При остановке номинал стержней резко измен етс и стержни, наход щиес в зоне обработки , уход т в брак. . Керамические стержни в данном устройстве движутс в трубе в один р д друр- за другом по пр мой траектории. Конструкци устройства позвол ет разместить в нагревателе диаметром 110 мм только две реакционные трубы наружным диаметром до 12 мм. Рабочее пространство нагревател используетс неэффективно, что приводит к большому расходу электроэнергии на единицу продукции. Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности вл етс устройство дл нанесени покрытий, содержащее реакционную камеру с входным и выходным отверсти ми, выполненную в виде много русной шахты с вырезами в каждом русе, нагреватель, механизм загрузки подложек в реакционную камеру , установленный над входным отверстием- камеры, и систему подачи реа .гентов 2. Недостатком известного устройства вл етс низка производительность ввиду низкой скорости перемещени |подложек в камере Цель изобретени - повышение произ.водительности устройства Поставленна цель достигаетс тем, что в устройстве дл нанесени покрытий , содержащем реакционную камеру с входным и выходным отверсти ми, выполненную в виде много русной шахты с вырезами в каждом русе, нагреватель, механизм перемещени подложек в реакционной камере, механизм загрузки . подложек в реакционную камеру, уста новленный над входным отверстием камеры, и систему подачи реагентов, вырезы в русах выполнены радиальными и смещены от руса к русу относительно друг друга, а механизм перемещени подложек в реакционной камере выполнен в Виде привода прерывистого колебательного движени . Привод прерывистого колебательноо движени выполнен в виде вибратоpa крутильных колебаний вокруг продольной оси реакционной камеры и упо ра, установленного в зоне выходного отверсти камеры, Привод прерывистого колебательного движени выполнен в виде ма тнико вого механизма. Система подачи реагентов выполнена в виде трубки с боковыми отверсти Сми, установленной по оси реакционно камеры, На фиг. 1 изображена принципиальна схема предлагаемого устройства.; на фиг. 2 - реакционна труба с приводом , сообщающим нижнему концу трубы движение по пр мой; на фиг. 3 - т же, с приводом, сообщающим нижнему концу трубы движение по окружности. Устройство- дл нанесени покрытий содержит загрузчик 1 подложек, питатель 2,.вертикально установленную ре акционную камеру 3 большого диаметра выполненную в виде много русной шах ты, нагреватель k, систему подачи в реакционную камеру 3 парогазовой сме си (не показана ). В каждом русе 5 и 6 трубы выполнен вырез 7. Ярусы развернуты относительно друг друга вырезами,. Отверстие в камере намного превышает размеры обрабатываемых подложек В центре реакционной камеры установлена трубка 8, соединенна с системой подачи парогазовой смеси. В труб ке выполнены отверсти 9 дл выхода парогазовой смеси в реакционную камеру . Расположение отверсти в трубке зависит от состава парогазовой смеси. В отдельных случа х подача па . рогазовой смеси в камеру может осуществл тьс по отдельному трубопроводу , заведенному в нижнюю или верхнюю часть камеры, Зазор между реакционной камерой 3 и нагревателем k устанавливает с минимальным. Привода с вибратором может содержать кулачок 10, выступ 11, пружину 12 и упор 13. В приводе с ма тниковым механизмом движени подложек реакционна камера подвешиваетс на подшипниковой опоре lA . Устройство работает следующим образом . Включают нагреватель , а. затем систему подачи парогазовой смеси. Ко да реакционна камера 3 прогреетс до заданной температуры, включают привод и загрузчик 1 подложек. Вибрационный привод (фиг. 1 ) сообщает трубе крутильные колебани вокруг вертикальной оси,. Из загрузчика 1 по питателю 2 подложки как сыпучий материал поступают на верхний рус 5 . камеры 3 При колебани х камеры за счет инерции и- трени подложки движутс вдоль верхнего руса 5 и через вырез 7 просыпаютс на расположенный под русом 5 рус 6, Таким образом, движение подложек вниз по реакционной камере осуществл етс по сложной, отличной от пр мой траектории. С одного руса на другой подложки переход т за счет гравитационных сил, а в пределах руса движутс за счет инерции и трени по круговой траектории. Колебательные движени камере задает непрерывно вращающийс кулачок 10 при воздействии на выступ 11 камеры. При здействии кулачка на выступ камера поворачив.аетс , при этом пру )кина 12 раст гиваетс , В следующий момент времени кулачок выходит из зацеплени с выступом и камера 3 под действием пружин 12 начинает вращение в обратную сторону. В конце хода выступ 11 встречает упор 13 и происходит резка остановка камеры. По инерции подложки продолжают -движение по русам, при этом часть подложек через вырезы 7 просыпаетс с верхних русов на нижние. Скорость движени подложек по русам ,регулируетс частотой вращени кулачка 10, . а также изменением угла поворота реакционной камеры 3. С увеличением угла поворота камеры и частоты вращени кулачка 10 скорость движени подложек через реакционную камеру 3 возрастает . При движении вниз по камере 3 подложки разогреваютс . Под действием температуры в реакционной зоне (парогазова смесь paзлaгaefc ,образу на поверхности подложек пленочное покрытие. Из реакционной камеры готовые издели поступают в сборник. Равномерное осаждение пленки обеспечиваетс тем, что подложки в процессе обработки непрерывно мен ют свое положение. При использовании ма тникового привода камера 3 подвешена на подшипниковой опоре И, при этом нижний конец камеры получает возможность колебательного движени по пр мой (фиг. 2) или движени по окоужности (фиг. 3 ) При отклонении нижнего конi ца камеры 3 влево (фиг. 2) подложки с русов 5 ссыпаютс на русы 6, при отклонении нижнего конца камеры вправо подложки с русов 6 ссыпаютс на русы 5, Таким образом, осуществл етс движение подложек по реакционной камере вниз. При движении нижнего конца камеры 3 по окружности (фиг. 3) подложки движутс как в устройстве, показанно на фиг. 1. В предлагаемом устройстве подложк обрабатываютс в несколько параллель ных потоков на высоких скорост х, по скольку при одной длине нагревател одном времени пребывани подложек в зоне обработки движение подложек по траектории,.отличной от пр мой. 77 можно осуществить с большей скоростью, чем движение подложек по пр мой. Это обеспечивает повышение производительности . При этом могут обрабатыватьс подложки любой формы и размеров. Устройство допускает одновременную обрйботку подложек различных размеров. Устройство допускает большие расходы парогазовой смеси, что дает возможность получить номинальные сопротивлени изделий с величиной до 5 Ом, . За счет более эффективного использовани рабочей зоны устройство более экономично, Тоео характеризуетс меньшими расходами электроэнергии на единицу продукции.The invention relates to devices for the deposition of coatings from the vapor-gas phase and can be used in the design of devices for carrying film on resistors. A device for coating deposition is known, which contains a vibrating loader for ceramic rods, two feed mechanisms with feeders, a heater 110 m in diameter, in which two reaction tubes are horizontally placed, a rotational drive of the reaction tubes and a system of flows of the vapor-gas mixture O Each device is designed for processing rods of the same diameter, Depending on the diameter of the rods being processed, the reaction tubes have dimensions: an outer diameter of 8-12 mm, an inner diameter of 2.3-5.3 mm. Ceramic rods in the nodes of the device and in the reaction tube move in one row for each other with a radial clearance i (), 3 mm. In the rotation of the reaction tubes, the rods receive a pulsating rotational-translational motion, with the previous rods pushing the next ones. The device has two groups of identical mechanisms for the number of reaction tubes. Each reaction tube is associated with one group of mechanisms. The disadvantages of this device are a narrow range of values, nominal resistance values of carburized rods, the possibility of using this device for processing rods of only cylindrical shape of one diameter, low productivity and reliability of work, high power consumption per unit. products, as well as design complexity. The design of this device does not allow to obtain low-resistance rods in the range of 5-60 Ohms, since to obtain the indicated nominal resistances, an increased consumption of the vapor-gas mixture is required, which is deposited not only on the treated rods, but also on the walls of the reaction tube, causing its rapid growth and making the pipe impassable for the rods The device is intended for processing ceramic rods of the same diameter and length, since the holes in the device's nodes and the reaction tube are 0.3 mm larger than diameter of the processed rod, and from the secateurs in the feeders reliably work only when the length of the rods varies within 0, mm. When a ceramic cleaved or defective rod with a beveled or uneven end gets into the hole of the reaction tube, the entire rod column is jammed. When the rod is stopped, the nominal of the rods changes dramatically and the rods located in the treatment area go to a marriage. . Ceramic rods in this device move in a pipe in one row other than another along a straight path. The design of the device allows placing only two reaction tubes with an outer diameter of up to 12 mm in a heater with a diameter of 110 mm. The working space of the heater is used inefficiently, which leads to high power consumption per unit of production. Closest to the proposed technical essence is a device for coating, containing a reaction chamber with inlet and outlet openings, made in the form of a multi-layered mine with cutouts in each floor, a heater, a mechanism for loading substrates into the reaction chamber installed above the inlet opening. chambers, and the reagent supply system. 2. A disadvantage of the known device is low productivity due to the low rate of movement of the | substrates in the chamber. The purpose of the invention is to increase the production device bounds The goal is achieved by the fact that, in a coater, containing a reaction chamber with inlet and outlet openings, a multi-layered mine with cutouts in each floor, a heater, a mechanism for moving substrates in the reaction chamber, a loading mechanism. substrates into the reaction chamber, installed above the chamber inlet, and the reagent supply system, the cutouts in the tusks are radial and offset from the tusk to the tusk relative to each other, and the mechanism for moving the substrates in the reaction chamber is designed as a discontinuous oscillatory drive. The drive of the intermittent oscillatory movement is made in the form of a torsional vibration vibrator around the longitudinal axis of the reaction chamber and the stop mounted in the zone of the outlet of the chamber. The drive of the intermittent oscillatory movement is made in the form of a dark mechanism. The reagent supply system is made in the form of a tube with side openings of the media installed along the axis of the reaction chamber. FIG. 1 is a schematic diagram of the proposed device .; in fig. 2 — reaction tube with a drive telling the lower end of the tube to move along a straight line; in fig. 3 - t, with a drive that informs the lower end of the pipe to move in a circle. The coating device contains a substrate loader 1, a feeder 2, a vertically mounted large diameter re-action chamber 3 made in the form of a multi-layered shaft, heater k, a feed system to the reaction chamber 3 of a vapor-gas mixture (not shown). In each run of the 5th and 6th pipes a notch 7 is made. The tiers are turned relative to each other by notches. The hole in the chamber is much larger than the dimensions of the substrates to be processed. In the center of the reaction chamber, a tube 8 is installed, connected to the gas-vapor supply system. In the tube, holes 9 are made to allow the vapor-gas mixture to enter the reaction chamber. The location of the hole in the tube depends on the composition of the vapor-gas mixture. In some cases, filing na. The gas mixture into the chamber can be carried out through a separate pipeline runted to the lower or upper part of the chamber. The gap between the reaction chamber 3 and the heater k is established with a minimum. The drive with the vibrator may contain a cam 10, a protrusion 11, a spring 12 and an emphasis 13. In a drive with an attendant mechanism of movement of the substrates, the reaction chamber is suspended on the bearing support lA. The device works as follows. Turn on the heater as well. then the steam and gas mixture supply system. When the reaction chamber 3 is heated to a predetermined temperature, turn on the drive and the loader 1 of the substrates. The vibrating drive (Fig. 1) provides the tube with torsional vibrations around the vertical axis ,. From the loader 1 on the feeder 2 substrates as granular material flow into the upper rus 5. chambers 3 When the chambers oscillate due to inertia and friction of the substrate, they move along the upper tusk 5 and wake up through the notch 7 to the 5 Russ. 6 located under the blond. Thus, the movement of the substrates down the reaction chamber down . From one Russ to another, the substrate is transferred t due to gravitational forces, while within the Russ it is driven by inertia and friction along a circular trajectory. The oscillatory movements of the camera are set by the continuously rotating cam 10 when it is exposed to the protrusion 11 of the camera. When a cam acts on a protrusion, the camera rotates, the spring of the kin 12 expands, the next time the cam disengages from the protrusion and the chamber 3 under the action of the springs 12 begins to rotate in the opposite direction. At the end of the stroke, the protrusion 11 meets the stop 13 and the camera stops cutting. Due to the inertia of the substrate, they continue to move along the Rus, while a part of the substrates wakes up from the upper Rus to the lower through the notches 7. The speed of movement of the substrates through the Rus, is controlled by the rotational speed of the cam 10,. and also by changing the angle of rotation of the reaction chamber 3. With an increase in the angle of rotation of the chamber and the frequency of rotation of the cam 10, the speed of movement of the substrates through the reaction chamber 3 increases. When moving down the chamber 3, the substrates are heated. Under the action of temperature in the reaction zone (vapor-gas mixture of felts, forming a film coating on the surface of the substrates. Finished products from the reaction chamber enter the collection. Uniform deposition of the film is ensured by the fact that the substrates continuously change their position during processing. 3 is suspended on an AND bearing bearing; in this case, the lower end of the chamber receives the possibility of oscillatory movement along a straight line (Fig. 2) or a movement along the circumference (Fig. 3). The chamber 3 to the left (Fig. 2) of the substrate from Russ 5 is poured onto Russ 6, when the lower end of the chamber is deflected to the right of the substrate from Rus 6 it is collapsed onto Russ 5, thus moving the substrates down the reaction chamber. 3 circumferentially (Fig. 3), the substrates move as in the device shown in Fig. 1. In the proposed device, the substrates are processed in several parallel streams at high speeds, since for one heater length of one substrate residence time in the treatment area Odesch on the trajectory. Excellent from the right. 77 can be performed at a faster rate than the movement of the substrates along a straight line. This provides increased productivity. In this case, substrates of any shape and size can be processed. The device allows simultaneous processing of substrates of various sizes. The device allows for high costs of the gas-vapor mixture, which makes it possible to obtain nominal resistances of products with a value of up to 5 ohms,. Due to more efficient use of the working area, the device is more economical. Toeo is characterized by lower power consumption per unit of production.
5 фиг25 fig2
/4/four
фие.Зfie.Z