SU1010875A1 - Устройство дл поверхностной закалки стали - Google Patents
Устройство дл поверхностной закалки сталиInfo
- Publication number
- SU1010875A1 SU1010875A1 SU813340552A SU3340552A SU1010875A1 SU 1010875 A1 SU1010875 A1 SU 1010875A1 SU 813340552 A SU813340552 A SU 813340552A SU 3340552 A SU3340552 A SU 3340552A SU 1010875 A1 SU1010875 A1 SU 1010875A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- accelerator
- steel case
- case hardening
- hardening device
- devices
- Prior art date
Links
Landscapes
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Abstract
Применение сильно точного ускорител рел тивистских электронов в качестве устройства дл поверхностной закалки стали. (Л эо j с
Description
Изобретение относитс к области термической обработки металлов. Известны устройства дл поверхностной закалки стали, принцип деис ВИЯ которых основан на нагреве поверхностного сло детали до темпера туры аустеЕ{изации с последующим быс рым охлаждением в закалочной среде К этому классу устройств относ тс Широко распространенные устройства, использующие индукционный нагрев поверхностного сло металла (индукционна закалка) Л . Однако подобные устройства не по звол ют производить локальную обработку заданных участков детали и требуют наличи закалочной средьь Наиболее близким по технической сущности вл етс известное устройство дл термообработки стали с непользованием лазера или электронног луча 2 . и таких устройствах происходит быстрый импульсный нагрев поверхнос ного сло металла лаэером или электронным лучом, Последуйщее охлаждение поверхностного сло мета ла осуществл етс за счет теплоотвода вглубь металла, в результата чего отпадает необходимость в закалочных средах. Кроме того, подобные устройства позвол ют термообрабатывать отдельные выбранные участки поверхности детали. Недостатком таких устройств вл етс то, Что требуетс длительное врем дл термообработки больши участков поверхности детали, так как диаметр электронного луча не превышает 1 мм. Структура закаленно поверхности детали получаетс неодн родной, что снижает эффективность подобных устройств. К тому же подобные устройства обладают низким ПД, не превышающим. 10%. Известен наносекундный ускорител содержащий электронные пучки, отличающийс от известных ранее трем характерньми чертами: большой ток, недос гаема ранее плотность электpotioB в пучке, а,р следовательно, кон центраци энергии и мала длительность пучка з . Наносекундные ускорители примен ютс дл повышени эффективности ускорителей на встреч ных пучках (как форинжектора), дл создани мощных накопителей ускорен ных частиц, дл возбуждени импульс Ш 52 термо дерной реакции, дл создани активной среды в квантовых генераторах , при разработке импульсных источников рентгеновских лучей, дл стерилизации продуктов, а также в плазмогеимии и в экспериментах. Целью изобретени вл етс сокращение времени процесса облучени больших площадей термообрабатываемых деталей , получение более однородной структуры закаленного сло , а также повьш ение КПД устройства. Это достигаетс применением силь (юточного ускорител рел тивистских электронов в качестве устройства дл поверхностной закалки стали. Используетс ускоритель, работающий с широким пучком электронов диаметром 50-100 мм, в режиме отсутстви самофокусировки пучка. Такой режим работы ускорител осуществл етс при больших диаметрах катода и больших зазорах между анодом и катодом ускорител , а также при наложении продольного магнитного пол на область катод-анодного промеж тка , причем величина продольного магнитного пол должна в несколько раз превышать собственное магнитное поле пучка. Импульсньп1 пучок рел тивистских электронов с характерной длительностью С - 10 с направл етс на облучаемую стальную деталь и быстро нагревает тонкий слой металла до температуры аустенизации. В дальнейшем происходит охлаждение сло металла за счет теплоотвода выделенной энергии в глубь металла, Б результате чего осуа(ествл етс поверхностна закалка детали. На чертеже показан выходной узел ускорител , включающий проходной изол тор 1, катод 2, анодный фланец 3 и анодный узел 4 . Предлагаемое устройство работает следующимобразом. Деталь 5 помещают в анодньй узел 4 , Анодный узел 4 располагают в анодном фланце 3. После откачки выходного узла производитс пуск ускорител . Контрольные эксперименты были выполнены на сильноточном ускорителе рел тивистских электронов при следующих параметрах пучка: ток пучка J 10 А, энерги электронов Е 0,5 МэВ, длительность пучка диаметр пучка д) 50
310108754
ность тока . Облу-не более 7% по диаметру образца
стальные (ст.45) Дйс-при исходной микротвердости 260 кгс/мм. ки диаметром 40 мм, толщиной Данное предложение позвол ет-под;4 мм. После однократного облу-вергать большие площади (
чени дисков оказалось, что глубина jповерхностной закалке за один выстрел
закаленного сло составл ет- 0,1 мм.ускорител с хорошей однородностью
Микроструктура упрочненного сло структуры закаленного сло , причем
мелкозерниста. Микротвердость ее ЩЦ ускорителей с плотностью тока
составл ет /у 950 кгс/мм с разбросомf 10 - 10 А/см составл ет 40-50%.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813340552A SU1010875A1 (ru) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | Устройство дл поверхностной закалки стали |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813340552A SU1010875A1 (ru) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | Устройство дл поверхностной закалки стали |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1010875A1 true SU1010875A1 (ru) | 1985-01-07 |
Family
ID=20977705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU813340552A SU1010875A1 (ru) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | Устройство дл поверхностной закалки стали |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1010875A1 (ru) |
-
1981
- 1981-09-16 SU SU813340552A patent/SU1010875A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
1, Слухоцкий Л.Е. Индукторы. М,--Л., Машиностроение, 1965, с, 12, 2,Патент JP № 30968; кл. 10А 746 (С 21 D 1/06), 19,06.68. 3,Мес ц Г.А. Генерирование мощ- ных наносекундных импульсов. М., Советское ради9, 1974, с. 201-232, * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Remnev et al. | High-power ion beam sources for industrial application | |
US6867419B2 (en) | Laser driven compact ion accelerator | |
US5900443A (en) | Polymer surface treatment with particle beams | |
Lee et al. | Generation of energetic electrons in pulsed microwave plasmas | |
Tyurin et al. | Non-equilibrium release of atomic hydrogen from metals under irradiation | |
SU1010875A1 (ru) | Устройство дл поверхностной закалки стали | |
RU2086698C1 (ru) | Способ поверхностной обработки металлической подложки | |
US6061379A (en) | Pulsed x-ray laser amplifier | |
Shchedrin et al. | Absolute negative conductivity in Xe/Cs mixture under photoionization conditions | |
Maenchen et al. | Intense electron beam sources for flash radiography | |
Monchinsky et al. | Laser ion source of Synchrophasotron and Nuclotron in Dubna | |
Mingolo et al. | Enhanced energy deposition efficiency of glow discharge electron beams for metal surface treatment | |
EP0751972A1 (en) | Polymer surface treatment with pulsed particle beams | |
Andreichik et al. | Generation of electron beam with millisecond pulse duration by plasma-cathode source based on the arc discharge in the fore-vacuum pressure range | |
Skalyga et al. | High Density ECR Discharge with Gyrotron Plasma Heating as a Multipurpose Ion Source | |
RU1670968C (ru) | Способ обработки стальных изделий | |
RU2210617C1 (ru) | Способ комбинированного борирования углеродистой стали | |
Adler et al. | Production of focused electron beams in a plasma implantation system | |
JPS5817274B2 (ja) | 電着加工方法 | |
Proskurovsky et al. | Treatment of the electrode surfaces with intense charged-particle flows as a new method for improvement of the vacuum insulation | |
Stinnett et al. | Ion beam surface treatment: A new capability for surface enhancement | |
Liberman et al. | Applications of Z Pinches | |
Kokorin et al. | The pumping of an X-ray laser by means of an optical laser | |
Andreev et al. | Influence of intense coherent electromagnetic radiation on several types of radioactive decay | |
JPH10289797A (ja) | X線発生装置 |