SE530945C2 - Cutting tools coated with laminated nanocomposite layers of metal oxides - Google Patents
Cutting tools coated with laminated nanocomposite layers of metal oxidesInfo
- Publication number
- SE530945C2 SE530945C2 SE0602193A SE0602193A SE530945C2 SE 530945 C2 SE530945 C2 SE 530945C2 SE 0602193 A SE0602193 A SE 0602193A SE 0602193 A SE0602193 A SE 0602193A SE 530945 C2 SE530945 C2 SE 530945C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- metal
- multilayer
- component
- layer
- metal oxide
- Prior art date
Links
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims description 48
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims description 48
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 title claims description 29
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 67
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 55
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 55
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 9
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 claims description 4
- 239000011195 cermet Substances 0.000 claims description 3
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010987 cubic zirconia Substances 0.000 claims description 3
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000997 High-speed steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 10
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- WRMRXPASUROZGT-UHFFFAOYSA-N monoethylglycinexylidide Chemical compound CCNCC(=O)NC1=C(C)C=CC=C1C WRMRXPASUROZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007514 turning Methods 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004035 construction material Substances 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000001678 elastic recoil detection analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011226 reinforced ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003158 γ-Al2O3 Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/87—Ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/403—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/405—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
- C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
Description
25 30 35 530 945 kan så uppnås genom optimering av en eller fler av de ovan nämnda egenskaperna. 530 945 can thus be achieved by optimizing one or more of the above-mentioned properties.
Partikelförstärkta keramer är välkända som konstruktionsmaterial i bulkform, emellertid inte som nanokompositer tills nyligen. Bulkkeramer av aluminiumoxid med olika nanodispergerade partiklar är beskrivna i J.F.Kuntz et al, MRS Bulletin Jan 2004, pp.22-27. Zirkoniumdioxid- och titanoxidhärdade aluminiumoxid-CVD-skikt är beskrivna i till exempel US 6,660,37l, US 4,702,97O och US 4,70l,384. I dessa senare beskrivningar, utfälls skikten med CVD-teknik och därför är den bildade ZrO2-fasen den termodynamiskt stabila fasen, dvs. den monoklina fasen. Dessutom, har de CVD-belagda skikten i allmänhet dragspänningar eller tryckspänningar på en låg nivå, medan PVD~ eller PECVD-skikt typiskt har en hög nivå av tryckspänningar beroende på en inneboende natur hos dessa beläggningsprocesser. I US 2005/0560432 beskrivs att blästring av CVD-skikt av aluminiumoxid+zirkoniumdioxid ger en tryckspänningsnivå.Particle-reinforced ceramics are well known as bulk construction materials, but not as nanocomposites until recently. Bulk frames of alumina with different nanodispersed particles are described in J.F. Kuntz et al, MRS Bulletin Jan 2004, pp.22-27. Zirconia and titanium oxide cured alumina CVD layers are described in, for example, US 6,660,371, US 4,702,97O and US 4,701,384. In these later descriptions, the layers are precipitated with CVD technology and therefore the ZrO2 phase formed is the thermodynamically stable phase, i.e. the monoclinic phase. In addition, the CVD coated layers generally have tensile stresses or compressive stresses at a low level, while PVD or PECVD layers typically have a high level of compressive stresses due to an inherent nature of these coating processes. US 2005/0560432 describes that blasting CVD layers of alumina + zirconia gives a compressive stress level.
Blästringsprocessen är känd för att introducera tryckspänningar i måttliga nivåer.The blasting process is known for introducing compressive stresses in moderate levels.
Metastabila faser av zirkoniumdioxid, såsom tetragonala eller kubiska faser, har visat sig ytterligare förbättra bulkkeramer genom en mekanism känd som omvandlingshärdning (Hannink et al, J.Metastable phases of zirconia, such as tetragonal or cubic phases, have been shown to further improve bulk frames by a mechanism known as conversion curing (Hannink et al, J.
Er. Ceram. Soc 83 (3) 461-87; Er. (2) 187- 206 (1990)). Sådana metastabila faser har visat sig främjas av tillsatser av stabiliseringselement såsom Y eller Ce eller genom närvaro av en syrefattig miljö, såsom vakuum (Tomaszewski et al, J. Mater. Lett 7 (1988) 778-80), som typiskt krävs i PVD- tillämpningar. Variation av PVD-processparametrar har visat sig förorsaka variationer i syrestökiometrin och bildning av metastabila faser i zirkoniumdioxid, speciellt den kubiska zirkoniumdioxidfasen (Ben Amor et al, Mater. Sci. Eng. B57 (1998) 28).Your. Ceram. Soc 83 (3) 461-87; Your. (2) 187-206 (1990)). Such metastable phases have been found to be promoted by the addition of stabilizing elements such as Y or Ce or by the presence of an oxygen-poor environment, such as vacuum (Tomaszewski et al., J. Mater. Lett 7 (1988) 778-80), which is typically required in PVD applications. Variation of PVD process parameters has been shown to cause variations in oxygen stoichiometry and formation of metastable phases in zirconia, especially the cubic zirconia phase (Ben Amor et al., Mater. Sci. Eng. B57 (1998) 28).
PVD~multiskikt bestående av metallnitrider eller metallkarbider för skärande tillämpningar beskrivs i EP 0709483 där en symmetrisk multiskiktstruktur av metallnitrider och metallkarbider beskrivs och US 6,lO3,357 som beskriver ett aperiodiskt, laminerat, multiskikt av metallnitrider och metallkarbider.PVD multilayer consisting of metal nitrides or metal carbides for cutting applications is described in EP 0709483 where a symmetrical multilayer structure of metal nitrides and metal carbides is described and US 6,103,357 which describes an aperiodic, laminated, multilayer of metal nitrides and metal carbides.
Evans, Ceram. Soc. 73 Sci. 10 Ü 20 25 30 35 53Ü 945 Svensk patentansökan nr. SE 0500867-7 och SE 0600104-4 beskriver skär för metallbearbetning på vilket, åtminstone på de funktionella delarna av ytan därav, en tunn, vidhäftande, hård och slitstark beläggning är belagd. Beläggningen omfattar ett metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt bestående av två komponenter med en kornstorlek av l - 100 nm.Evans, Ceram. Soc. 73 Sci. 10 Ü 20 25 30 35 53Ü 945 Swedish patent application no. SE 0500867-7 and SE 0600104-4 describe inserts for metal working on which, at least on the functional parts of the surface thereof, a thin, adhesive, hard and durable coating is coated. The coating comprises a metal oxide + metal oxide nanocomposite layer consisting of two components with a grain size of 1 - 100 nm.
Det är ett ändamål med föreliggande uppfinning att tillhandahålla ett PVD- eller PECVD-belagt skärverktyg där beläggningen har förbättrad slitstyrka i kombination förbättrade vidhäftningsegenskaper.It is an object of the present invention to provide a PVD or PECVD coated cutting tool where the coating has improved wear resistance in combination improved adhesion properties.
Fig. 1 är en schematisk representation av ett tvärsnitt taget genom ett belagt skärverktyg av föreliggande uppfinning som visar ett substrat, A, belagt med ett laminerat multiskikt, B, omfattande omväxlande metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt av typ C och metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt av typ D.Fig. 1 is a schematic representation of a cross section taken through a coated cutting tool of the present invention showing a substrate, A, coated with a laminated multilayer, B, comprising alternating metal oxide + metal oxide-nanocomposite layer type C and metal oxide + metal oxide-nanocomposite layer of type D.
Enligt föreliggande uppfinning tillhandahålls ett skärverktyg för metallbearbetning såsom svarvning, fräsning och borrning omfattande ett substrat av en hård legering av hårdmetall, cermet, keramer, kubisk bornitrid eller snabbstål, företrädesvis hàrdmetall eller cermet, ovanpå vilket en slitstark, beläggning omfattande ett laminerat multiskikt har deponerats. Formen på skärverktyget omfattar vändskär såväl som skaftverktyg såsom borrar, pinnfräsar etc. Beläggningen kan dessutom omfatta, under det laminerade multiskiktet, åtminstone ett första, inre enkelskikt eller multiskikt av metallkarbider, metallnitrider eller metallkarbonitrider där metallatomerna är en eller flera av Ti, Nb, V, Mo, Zr, Cr, Al, Hf, Ta, Y eller Si med en tjocklek i området 0,2 till 20 um enligt känd teknik. Beläggningen är belagd ovanpå hela substratet eller åtminstone på de funktionella ytorna därav, t.ex. skäreggen, spànsidan, släppningssidan och andra ytor som deltar i metallbearbetningsprocessen.According to the present invention there is provided a cutting tool for metalworking such as turning, milling and drilling comprising a substrate of a hard alloy of cemented carbide, cermet, ceramics, cubic boron nitride or high speed steel, preferably cemented carbide or cermet, on top of which a durable coating has a laminated multilayer. . The shape of the cutting tool comprises indexable inserts as well as shank tools such as drills, end mills, etc. The coating may further comprise, below the laminated multilayer, at least a first, inner single layer or multilayer of metal carbides, metal nitrides or metal carbonitrides , Mo, Zr, Cr, Al, Hf, Ta, Y or Si with a thickness in the range 0.2 to 20 μm according to the prior art. The coating is coated on top of the entire substrate or at least on the functional surfaces thereof, e.g. the cutting edge, the chip side, the release side and other surfaces involved in the metalworking process.
Beläggningen enligt uppfinningen, är fast bunden till substratet och omfattar ett laminerat multiskikt med omväxlande PVD- eller PECVD-metalloxidskikt, Me1X+Me2X+Me1X+Me2Xm, där metallatomerna Mel och Mez är en eller flera av Ti, Nb, V, Mo, Zr, 10 U 20 25 30 35 53Û 945 Cr, Al, Hf, Ta, Y och Si, företrädesvis Hf, Ta, Zr och Al, helst Zr och Al, och där åtminstone en av MeLX och Me2X är ett nanokompositskikt av en dispergerad metalloxidkomponent i en metalloxidmatris, hädanefter betecknad en metalloxid+metalloxid- nanokomposit, och vari det laminerade multiskiktet har en sammansättningsgradient, med avseende på koncentrationen av en eller flera av metallatomerna i riktningen från den yttre ytan av beläggningen mot substratet, vari gradienten är sådan att skillnaden mellan den genomsnittliga koncentrationen i det yttersta området av multiskiktet och den genomsnittliga koncentrationen i det innersta området av multiskiktet åtminstone är 5 at-% i absoluta enheter. Skikten Me1X och Me2X är olika i sammansättning eller struktur eller båda dessa egenskaper.The coating according to the invention, is firmly bonded to the substrate and comprises a laminated multilayer with alternating PVD or PECVD metal oxide layers, Me1X + Me2X + Me1X + Me2Xm, where the metal atoms Mel and Mez are one or more of Ti, Nb, V, Mo, Zr Cr, Al, Hf, Ta, Y and Si, preferably Hf, Ta, Zr and Al, more preferably Zr and Al, and wherein at least one of MeLX and Me2X is a nanocomposite layer of a dispersed metal oxide component in a metal oxide matrix, hereinafter referred to as a metal oxide + metal oxide nanocomposite, and wherein the laminated multilayer has a composition gradient, with respect to the concentration of one or more of the metal atoms in the direction from the outer surface of the coating to the substrate. the average concentration in the outermost region of the multilayer and the average concentration in the innermost region of the multilayer is at least 5 at-% in absolute units. The layers Me1X and Me2X are different in composition or structure or both of these properties.
Ordningsföljden för de individuella Me1X- eller Me2X~ skikttjocklekarna är företrädesvis aperiodisk genom hela multiskiktet. Med aperiodisk är förstått att tjockleken av ett särskilt individuellt skikt i det laminerade multiskiktet inte beror på tjockleken av ett individuellt skikt omedelbart under inte heller har den någon relation till ett individuellt skikt ovanpå det särskilda individuella skiktet. Därför har inte det laminerade multiskiktet någon repetitionsperiod i ordningsföljden för de individuella beläggningstjocklekarna. Vidare är den individuella skikttjockleken större än 0,4 nm men mindre än 50 nm, företrädesvis större än 1 nm och mindre än 30 nm, helst större än 5 nm och mindre än 20 nm. Det laminerade multiskiktet har en total tjocklek av mellan 0,2 och 20 um, företrädesvis 0,5 och 5 um.The order of the individual Me1X or Me2X layer thicknesses is preferably aperiodic throughout the multilayer. By aperiodic is meant that the thickness of a particular individual layer in the laminated multilayer does not depend on the thickness of an individual layer immediately below nor does it have any relation to an individual layer on top of the particular individual layer. Therefore, the laminated multilayer has no repetition period in the order of the individual coating thicknesses. Furthermore, the individual layer thickness is greater than 0.4 nm but less than 50 nm, preferably greater than 1 nm and less than 30 nm, more preferably greater than 5 nm and less than 20 nm. The laminated multilayer has a total thickness of between 0.2 and 20 μm, preferably 0.5 and 5 μm.
Ett individuellt metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt är sammansatt av åtminstone två komponenter med olika sammansättning och olika struktur. Varje komponent är en oxid av en fas med ett metallelement eller en fast lösning av två eller flera metalloxider. Mikrostrukturen för materialet karakteriseras av korn eller kolonner i nanostorlek av en komponent A med en medelkorn- eller kolonnstorlek av l - 100 nm, företrädesvis 1 - 70 nm, helst 1 - 20 nm, omgivna av en komponent B. Det genomsnittliga linjära medelvärdet av interceptlängden för komponent B är 0,5 - 200 nm, företrädesvis 0,5 - 50 nm, helst 0,5 - 20 nm.An individual metal oxide + metal oxide nanocomposite layer is composed of at least two components with different composition and different structure. Each component is an oxide of a phase with a metal element or a solid solution of two or more metal oxides. The microstructure of the material is characterized by nano-sized grains or columns of a component A with an average grain or column size of 1 - 100 nm, preferably 1 - 70 nm, preferably 1 - 20 nm, surrounded by a component B. The average linear average of the intercept length for component B is 0.5 - 200 nm, preferably 0.5 - 50 nm, most preferably 0.5 - 20 nm.
Metalloxid+metalloxid-nanokompositskiktet kan vara understökiometriskt i syreinnehåll med ett syrezmetall- 10 20 25 30 35 53Ü 945 atomförhållande som är 85-99 %, företrädesvis 90-97 %, av det stökiometriska syre:metall-atomförhållandet.The metal oxide + metal oxide nanocomposite layer may be sub-stoichiometric in oxygen content with an oxygen-metal atomic ratio of 85-99%, preferably 90-97%, of the stoichiometric oxygen: metal-atom ratio.
Volymsinnehållet av komponenterna A och B är 40-95 % respektive 5-60 %.The volume content of components A and B is 40-95% and 5-60%, respectively.
I en exemplifierad utföringsform av uppfinningen är det laminerade multiskiktet utfällt direkt ovanpå ett första, inre enkelskikt eller multiskikt av metallkarbider, metallnitrider eller metallkarbonitrider där metallatomerna är en eller flera av Ti, Nb, v, M0, zr, cr, A1, Hf, fra, Y och si med en tjocklek i området 0,2 till 20 um, där en eller flera av metallatomerna av åtminstone ett metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt är en starkare karbid- eller nitridbildare än en eller flera av metallatomerna i det första, inre enkelskiktet eller multiskiktet.In an exemplary embodiment of the invention, the laminated multilayer is deposited directly on top of a first, inner single layer or multilayer of metal carbides, metal nitrides or metal carbonitrides where the metal atoms are one or more of Ti, Nb, v, M0, zr, cr, A1, Hf, fra , Y and si with a thickness in the range 0.2 to 20 μm, where one or more of the metal atoms of at least one metal oxide + metal oxide nanocomposite layer is a stronger carbide or nitride former than one or more of the metal atoms in the first, inner single layer or multilayer.
Dessutom är det föredraget, i det laminerade multiskiktet, att koncentrationen av metallatomerna som är de starkare karbid- eller nitridbildarna i åtminstone ett metalloxid+metalloxid- nanokompositskikt ökar i riktningen från den yttre ytan av beläggningen mot substratet.In addition, it is preferred, in the laminated multilayer, that the concentration of the metal atoms which are the stronger carbide or nitride formers in at least one metal oxide + metal oxide nanocomposite layer increase in the direction from the outer surface of the coating to the substrate.
I en exemplifierad utföringsform av föreliggande uppfinning är Megx ett metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt innehållande korn eller kolonner av komponent A och en omgivande komponent B, och Me2X är ett metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt innehållande korn eller kolonner av komponent A och en omgivande komponent B.In an exemplary embodiment of the present invention, Megx is a metal oxide + metal oxide nanocomposite layer containing grains or columns of component A and a surrounding component B, and Me2X is a metal oxide + metal oxide nanocomposite layer containing grains or columns of component A and a surrounding component B.
Komponent A i Me1X är densamma som komponent A i Me¿X som är komponent B i Me1X och Me2X, men metallatomerna i komponent A är olika metallatomerna i komponent B. Volyminnehållet av komponent A i Me1X är > volyminnehàllet av komponent A i Me2X, företrädesvis är volyminnehàllet av komponent A i Me1X är åtminstone 2,5 % mer än volyminnehàllet av komponent A i Me2X i absoluta enheter, helst är volyminnehàllet av komponent A i Me1X åtminstone 5 % mer än volyminnehàllet av komponent A i Me2X i absoluta enheter. Det laminerade multiskiktet har en sammansättningsgradient av metallatomerna i komponent A, såväl som en sammansättningsgradient av metallatomerna i komponent B, riktningen av ett ökande metallatominnehàll i det laminerade multiskiktet är motsatt för komponent A och komponent B, beroende på en förändring i relationen av de genomsnittliga Me1X- och/eller Me2X- skikttjocklekarna genom multiskiktet. 10 20 25 30 35 530 545 I en annan exemplifierad utföringsform av föreliggande uppfinning är MegX ett metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt och Me2X är ett metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt. Metallatomerna i komponent A i Me1X är olika metallatomerna i komponent A i Me2X.Component A in Me1X is the same as component A in Me3X which is component B in Me1X and Me2X, but the metal atoms in component A are different metal atoms in component B. The volume content of component A in Me1X is> the volume content of component A in Me2X, preferably is the volume content of component A in Me1X is at least 2.5% more than the volume content of component A in Me2X in absolute units, most preferably the volume content of component A in Me1X is at least 5% more than the volume content of component A in Me2X in absolute units. The laminated multilayer has a composition gradient of the metal atoms in component A, as well as a composition gradient of the metal atoms in component B, the direction of an increasing metal atom content in the laminated multilayer is opposite for component A and component B, due to a change in the ratio of the average Me1X and / or the Me2X layer thicknesses through the multilayer. In another exemplary embodiment of the present invention, MegX is a metal oxide + metal oxide nanocomposite layer and Me2X is a metal oxide + metal oxide nanocomposite layer. The metal atoms in component A of Me1X are different metal atoms in component A of Me2X.
Komponent B i Me1X är densamma som komponent B i Me2X. Ö Volyminnehàllet av komponent A i Me1X är lika som volyminnehållet av komponent A i Me2X. Det laminerade multiskiktet har en sammansättningsgradient av metallatomer i komponent A, beroende på en förändring i relationen av de genomsnittliga Me1X- och/eller Me2X- skikttjocklekarna genom multiskiktet. Det genomsnittliga innehållet av metallatomer i komponent A av Me1X kan t.ex. vara nära noll procent i den innersta delen av multiskiktet, dvs. den genomsnittliga Me1X-skikttjockleken är nära noll, därför maximeras det genomsnittliga innehållet av metallatomer i komponent A i Me2X.Component B in Me1X is the same as component B in Me2X. Ö The volume content of component A in Me1X is equal to the volume content of component A in Me2X. The laminated multilayer has a composition gradient of metal atoms in component A, due to a change in the ratio of the average Me1X and / or Me2X layer thicknesses through the multilayer. The average content of metal atoms in component A of Me1X can e.g. be close to zero percent in the innermost part of the multilayer, ie. the average Me1X layer thickness is close to zero, therefore the average content of metal atoms in component A of Me2X is maximized.
Det genomsnittliga innehållet av metallatomer i komponent A i Me1X kan öka till ett maximalt innehåll mot den yttersta delen av multiskiktet beroende på en gradvis ökad genomsnittlig Me1X- skikttjocklek mot den yttersta delen av multiskiktet.The average content of metal atoms in component A of Me1X may increase to a maximum content towards the outermost part of the multilayer due to a gradually increasing average Me1X layer thickness towards the outermost part of the multilayer.
I en annan exemplifierad utföringsform av föreliggande uppfinning omfattar det första, inre enkelskiktet eller multiskiktet en Ti-baserad karbid, nitrid eller karbonitrid. Me1X är ett metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt innehållande korn eller kolonner av komponent A, företrädesvis i formen av tetragonal eller kubisk zirkoniumdioxid, och en omgivande komponent B, företrädesvis i form av amorf eller kristallin aluminiumoxid som är en eller båda av alfa-(d)- och gamma-(y)- faserna, och Me2X är en A120; skikt, företrädesvis varande en eller båda av alfa-(d)~ och gamma-(V)-faserna. Det laminerade multiskiktet har en sammansättningsgradient av metallatomer i komponent A, beroende på en förändring i relationen av genomsnittliga Me1X- och/eller Me2X- skikttjocklekar genom multiskiktet.In another exemplary embodiment of the present invention, the first, inner single layer or multilayer comprises a Ti-based carbide, nitride or carbonitride. Me1X is a metal oxide + metal oxide nanocomposite layer containing grains or columns of component A, preferably in the form of tetragonal or cubic zirconia, and a surrounding component B, preferably in the form of amorphous or crystalline alumina which is one or both of alpha- (d) and the gamma (y) phases, and Me2X is an Al2 O; layer, preferably being one or both of the alpha (d) and gamma (V) phases. The laminated multilayer has a composition gradient of metal atoms in component A, due to a change in the ratio of average Me1X and / or Me2X layer thicknesses through the multilayer.
I en annan utföringsform omfattar det första, inre enkelskiktet eller multiskiktet en Ti-baserad karbid, nitrid eller karbonitrid. Me1X är ett metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt innehållande korn eller kolonner av komponent A i formen av en oxid av hafnium och en omgivande komponent B i form av amorf eller kristallin aluminiumoxid som är en eller båda av alfa-(d)- och 10 20 25 30 35 530 945 gamma-(Y)-faserna, och Me2X är ett A120;-skikt, som företrädesvis är en eller båda av alfa-(d)- och gamma-(Y)-faserna. Det laminerade multiskiktet har en sammansättningsgradient av metallatomer i komponent A, beroende på en förändring i relationen av de genomsnittliga Me1X- och/eller Me2X-skikttjocklekarna genom multiskiktet.In another embodiment, the first, inner single layer or multilayer comprises a Ti-based carbide, nitride or carbonitride. Me1X is a metal oxide + metal oxide nanocomposite layer containing grains or columns of component A in the form of an oxide of hafnium and a surrounding component B in the form of amorphous or crystalline alumina which is one or both of alpha- (d) - and 530 945 the gamma (Y) phases, and Me 2 X is an Al 2 O 3 layer, which is preferably one or both of the alpha (d) and gamma (Y) phases. The laminated multilayer has a composition gradient of metal atoms in component A, due to a change in the ratio of the average Me1X and / or Me2X layer thicknesses through the multilayer.
Beläggningen kan dessutom omfatta, ovanpå det laminerade multiskiktet, åtminstone ett yttre enkelskikt eller multiskikt av metallkarbider, metallnitrider eller metallkarbonitrider där metallatomerna är en eller flera av Ti, Nb, V, Mo, Zr, Cr, Al, Hf, Ta, Y och Si. Tjockleken av detta skikt är 0,2-5 um.The coating may further comprise, on top of the laminated multilayer, at least one outer single layer or multilayer of metal carbides, metal nitrides or metal carbonitrides where the metal atoms are one or more of Ti, Nb, V, Mo, Zr, Cr, Al, Hf, Ta, Y and Si . The thickness of this layer is 0.2-5 μm.
Skiktet enligt föreliggande uppfinning är tillverkat med PVD- teknik, PECVD-teknik eller en hybrid av sådan tekniker. Exempel på sådana tekniker är RF-(”Radio Frequency”)-magnetronsputtring, DC- magnetronsputtring och pulsad dubbel (”Dual”) magnetronsputtring (DMS). Skiktet är bildat vid en substrattemperatur av 200 - 850°C.The layer of the present invention is made by PVD technology, PECVD technology or a hybrid of such techniques. Examples of such techniques are RF ("Radio Frequency") - magnetron sputtering, DC magnetron sputtering and pulsed double ("Dual") magnetron sputtering (DMS). The layer is formed at a substrate temperature of 200 - 850 ° C.
När typen av PVD-process tillåter, deponeras ett metalloxid+metalloxid-nanokompositskikt med användning av ett kompositoxidkällmaterial. En reaktiv process med användning av metalliska källor i en omgivande reaktiv gas är en alternativ processväg..I fallet där metalloxidskiktet produceras med en magnetronsputtringsmetod, kan två eller flera enkelmetallkällor användas där sammansättningen av metalloxid+metalloxid- nanokompositen styrs genom att slå av och på separata källor. I en föredragen metod är källan en förening med en sammansättning som reflekterar den önskade skiktsammansättningen. I fallet för RF- sputtring, kontrolleras sammansättningen genom att använda oberoende kontrollerade effektnivåer till de separata källorna.When the type of PVD process allows, a metal oxide + metal oxide nanocomposite layer is deposited using a composite oxide source material. A reactive process using metallic sources in an ambient reactive gas is an alternative process. In the case where the metal oxide layer is produced by a magnetron sputtering method, two or more single metal sources can be used where the composition of the metal oxide + metal oxide nanocomposite is controlled by turning on and off separate sources. In a preferred method, the source is a compound having a composition that reflects the desired layer composition. In the case of RF sputtering, the composition is controlled by using independently controlled power levels to the separate sources.
Den aperiodiska skiktstrukturen kan bildas genom multipelrotation av substraten i storskaliga PVD- eller PECVD- PJCOCSSSGIÉ .The aperiodic layer structure can be formed by multiple rotation of the substrates in large-scale PVD or PECVD-PJCOCSSSGIÉ.
Exempel 1 Ett aperiodiskt laminerat multiskikt bestående av omväxlande metalloxid+metalloxid-nanokomposit Al2O3 + ZrO2-skikt och Al2O3- skikt, utfälldes på ett substrat med användning av en RF- sputtrings-PVD-metod.Example 1 An aperiodic laminated multilayer consisting of alternating metal oxide + metal oxide nanocomposite Al 2 O 3 + ZrO 2 layer and Al 2 O 3 layer, was deposited on a substrate using an RF sputtering PVD method.
N U 20 25 30 35 530 945 Nanokompositskiktet utfälldes med oxidkällor av hög renhet med användning av olika processbetingelser med avseende på temperatur och kvoten zirkoniumdioxid till aluminiumoxid. Innehållet av de två oxiderna i det bildade nanokompositskiktet kontrollerades genom att använda en effektnivå på zirkoniumdioxidkällan och en separat effektnivå på aluminiumoxidkällan. Aluminiumoxid tillsattes till zirkoniumdioxidflödet med avsikt att bilda ett kompositmaterial med metastabila ZrO2-faser. Källornas effektnivå i detta fall var 80 W på varje oxidkälla. Sputterhastigheterna reglerades så att en tvâ gànger högre at-% av zirkonium erhölls jämfört med aluminium. Syre:metall-atomförhållandet var 94 % av det stökiometriska syre:metall-atomförhållandet.Nanocomposite layer was precipitated with high purity oxide sources using different process conditions with respect to temperature and the ratio of zirconia to alumina. The content of the two oxides in the formed nanocomposite layer was controlled by using a power level on the zirconia source and a separate power level on the alumina source. Alumina was added to the zirconia stream with the intention of forming a composite material with metastable ZrO 2 phases. The power level of the sources in this case was 80 W on each oxide source. The sputtering speeds were regulated so that a twice as high% of zirconium was obtained compared to aluminum. The oxygen: metal atom ratio was 94% of the stoichiometric oxygen: metal atom ratio.
Al2O3-skiktet utfälldes med användning av aluminiumoxidkällor i en argonatmosfär.The Al 2 O 3 layer was precipitated using alumina sources in an argon atmosphere.
Sputtringstiderna för respektive omväxlande skikt valdes för att efter hand öka Al2O3-skiktets tjocklek mot beläggningens yta.The sputtering times for each alternating layer were chosen to gradually increase the thickness of the Al2O3 layer against the surface of the coating.
De resulterande skikten analyserades med XRD och TEM.The resulting layers were analyzed by XRD and TEM.
Röntgendiffraktionanalysen visade inga spår av kristallin Al2O3 i nanokompositskiktet, medan Al$b~skikten huvudsakligen bestod av gamma-Al2O3.The X-ray diffraction analysis showed no traces of crystalline Al2O3 in the nanocomposite layer, while the Al2b layers consisted mainly of gamma Al2O3.
TEM-undersökningen visade att den utfällda beläggningen bestod av ett laminerat multiskikt av omväxlande metalloxid+metalloxid- nanokompositskikt, omfattande korn med en medelkornstorlek av 4 nm (komponent A) omgivna av en amorf fas med ett genomsnittligt linjärt medelvärde av interceptlängden av 2 nm (komponent B), och gamma-Al2O3-skikt. Kornen i nanokompositskiktet var kubisk ZrO2 medan den omgivande fasen hade högt aluminium innehåll. De individuella skikttjocklekarna sträckte sig från 4 till 20 nm och den totala multiskikttjockleken var omkring l um. Den successiva ökningen i Al2O3-skikttjockleken mot beläggningsytan resulterade i en Zr~gradient sådan att det genomsnittliga Zr-innehållet var omkring 30 at-% högre, i absolut enheter, i det innerst området än i det yttersta området av multiskiktet, mätt som ett genomsnittligt Zr-innehåll över flera pà varandra följande skikt i de respektive områdena med användning av EDS.The TEM study showed that the precipitated coating consisted of a laminated multilayer of alternating metal oxide + metal oxide nanocomposite layer, comprising grains with an average grain size of 4 nm (component A) surrounded by an amorphous phase with an average linear average of the intercept length of 2 nm (component B), and gamma-Al2O3 layers. The grains in the nanocomposite layer were cubic ZrO2 while the surrounding phase had a high aluminum content. The individual layer thicknesses ranged from 4 to 20 nm and the total multilayer thickness was about 1 μm. The successive increase in Al 2 O 3 layer thickness against the coating surface resulted in a Zr gradient such that the average Zr content was about 30 at-% higher, in absolute units, in the innermost region than in the outermost region of the multilayer, measured as an average Zr content over several consecutive layers in the respective areas using EDS.
Det relativa volymsinnehållet av de två komponenterna A och B i nanokompositskiktet var ungefär 70 % respektive 30 %, som bestämts genom ERDA-analys och EDS-linjeskanning från TEM-bilder.The relative volume contents of the two components A and B in the nanocomposite layer were approximately 70% and 30%, respectively, as determined by ERDA analysis and EDS line scanning from TEM images.
Claims (10)
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE0602193A SE530945C2 (en) | 2006-01-19 | 2006-10-18 | Cutting tools coated with laminated nanocomposite layers of metal oxides |
US11/905,166 US8119226B2 (en) | 2006-10-18 | 2007-09-27 | Coated cutting tool |
US11/905,171 US8119227B2 (en) | 2006-10-18 | 2007-09-27 | Coated cutting tool |
EP07117460.1A EP1918422B1 (en) | 2006-10-18 | 2007-09-28 | Coated cutting tool |
IL186534A IL186534A0 (en) | 2006-10-18 | 2007-10-10 | Coated cutting tool |
JP2007268850A JP4949991B2 (en) | 2006-10-18 | 2007-10-16 | Coated cutting tools |
KR1020070105190A KR101359254B1 (en) | 2006-10-18 | 2007-10-18 | Coated cutting tool |
CN200710167115XA CN101164772B (en) | 2006-10-18 | 2007-10-18 | Coated cutting tool |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE0600104A SE529144C2 (en) | 2005-04-18 | 2006-01-19 | Cut coated with composite oxide layer |
SE0602193A SE530945C2 (en) | 2006-01-19 | 2006-10-18 | Cutting tools coated with laminated nanocomposite layers of metal oxides |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE0602193L SE0602193L (en) | 2007-07-20 |
SE530945C2 true SE530945C2 (en) | 2008-10-28 |
Family
ID=38370544
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE0602193A SE530945C2 (en) | 2006-01-19 | 2006-10-18 | Cutting tools coated with laminated nanocomposite layers of metal oxides |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SE (1) | SE530945C2 (en) |
-
2006
- 2006-10-18 SE SE0602193A patent/SE530945C2/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE0602193L (en) | 2007-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE529144C2 (en) | Cut coated with composite oxide layer | |
KR101444460B1 (en) | Coated cutting tool | |
JP4949991B2 (en) | Coated cutting tools | |
US8119227B2 (en) | Coated cutting tool | |
JP5896918B2 (en) | Coated cutting tool | |
EP2247772B1 (en) | Multilayered coated cutting tool | |
CN100500347C (en) | Coated insert | |
SE518134C2 (en) | Multilayer coated cutting tool | |
EP2446066A1 (en) | Nanolaminated coated cutting tool | |
JP2006297588A5 (en) | ||
WO2013131961A1 (en) | Nanolaminated coated cutting tool | |
CN106191772B (en) | A kind of high rigidity CrAlN coatings and preparation method thereof containing AlCrN nanometers of insert layers of multiphase | |
KR101050014B1 (en) | Wear-resistant member with hard coating | |
JP6417969B2 (en) | Titanium aluminum nitride film, hard film coated tool, and manufacturing method thereof | |
SE530945C2 (en) | Cutting tools coated with laminated nanocomposite layers of metal oxides | |
JP5400692B2 (en) | Wear-resistant member provided with hard coating and method for producing the same | |
SE530515C2 (en) | Cutting tool for metal machining such as turning, milling and drilling, comprises substrate of cemented carbide, cermet, ceramics, cubic boron nitride or high speed steel on which thin, adherent, hard and wear resistant coating is applied | |
Onoprienko et al. | Solid solutions in films of ternary carbides and nitrides of groups IV–VI transition metals: Structure and properties | |
JP2006334720A (en) | Coated tool member |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |