RU3757U1 - Вакуумная напылительная установка на крупногабаритные плоские подложки - Google Patents

Вакуумная напылительная установка на крупногабаритные плоские подложки Download PDF

Info

Publication number
RU3757U1
RU3757U1 RU96102664/20U RU96102664U RU3757U1 RU 3757 U1 RU3757 U1 RU 3757U1 RU 96102664/20 U RU96102664/20 U RU 96102664/20U RU 96102664 U RU96102664 U RU 96102664U RU 3757 U1 RU3757 U1 RU 3757U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrates
extended
chamber
cleaning
vacuum
Prior art date
Application number
RU96102664/20U
Other languages
English (en)
Inventor
В.И. Волчков
В.В. Константинов
А.М. Филачев
В.В. Шабаров
Original Assignee
Научно-исследовательский институт электронной и ионной оптики
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Научно-исследовательский институт электронной и ионной оптики filed Critical Научно-исследовательский институт электронной и ионной оптики
Priority to RU96102664/20U priority Critical patent/RU3757U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU3757U1 publication Critical patent/RU3757U1/ru

Links

Landscapes

  • Spray Control Apparatus (AREA)

Abstract

Вакуумная напылительная установка на крупногабаритные плоские подложки, содержащая вакуумную камеру, внутри которой установлены откачные средства, устройство газонапуска, устройство для очистки подложек, напылительные устройства, устройство транспортировки подложек, шлюзовые устройства, а также систему управления, отличающаяся тем, что система управления выполнена в виде компьютерного комплекса ввода и обработки технологической информации, включающего процессор, накопитель информации и блоки отображения информации, а также интерфейсную плату и блоки преобразования сигналов, вакуумная камера выполнена в виде последовательно сочлененных вертикальных щелевых проходных камер, первая из которых - загрузки-выгрузки, вторая - камера напыления, на одной стенке которой расположены протяженный ионный распылитель магнетронного типа на постоянном токе, высокочастотный протяженный ионный распылитель магнетронного типа, первый протяженный ионный источник для очистки, а на противоположной стенке установлены протяженный катодо-плазменный распылитель, второй протяженный ионный источник для очистки, устройство газонапуска и датчик толщины напыляемых покрытий, стенки камеры выполнены разборными, третья - камера разогрева подложек включает источник плазменного тлеющего разряда регулируемой мощности, при этом каждая из камер отделена от другой шлюзовым затвором, устройство транспортировки подложек выполнено в виде челнока-держателя подложек с возможностью перемещения сквозь все камеры в сканирующем режиме, причем входы всех технологических блоков соединены с входами блоков преобразования сигналов.

Description

Вакуумная напь1яительная установка плоокие подложки на кш-пногабаритные
Полезная модель относится к ионношгазменным приборам и может быть использована для высокопроизводительного нанесения на крупногабаритные плоские подяожки сложнокомпозиодонных многослойных тонкопленочньк покрытий из различных материлов.
Известна вакуумная установка периодического действия для ионного распыления (I), содержащая вакуумную камеру, откачные средства, систему газоналуска, два ионных распылителя, систему транспортировки подложек, систему управления.
Эта установка предназначена для нанесения пленок из металлов и окислов методом ионно-плазменного распыления. Однако аксиально-симметричное расположение системы транспортировки подложек и соответствующее этому расположение напылительных устройств ограничивают предельный размер подложек, а также равномерность по толщине напыляемых покрытий, затрудняют автоматизацию управления и контроля за технологическим процессом.
Наиболее близким технологическим решением к предложенному является установка для нанесения покрытий на фасонные детали с вертикальным транспортом подложки и вертикальным позиционированием мимишени (2), содержащее вертикально расположенную прямоугольную камеру, состоящую из камеры загрузки-выгрузки и камеры напшения.жестко соединенных между собой, откачные средства, ионные распылители магнетронного типа на постоянном токе, систему транпортировки подложек и систему управления.
Установка производит напшгение тонкошгеночных покрытий из одного фиксированного материала, периодически, с поштучной загрузкой подложек. Подложки загружаются в камеру со стороны торцевого открывающегося фланп а. Однако поштучная загрузка резко снижает производительность установки, а отсутствие сканирования подложек относительно распылителя ограничивает равномерность наносимых покрытий, а также снижает возможность контроля и управления технологическим процессом.
Наличие одного распылителя предполагает для нанесения многослойных покрытий из различных материалов неоднократное повторение процесса, связанное с разгерметизацией установки, ту же операцию приходится производить и для напыления двусторонних покрытий.
- 2
Достигаемый при использовалии, предложенной вакуумной ншшлительной установки на крупногабаритные плоские подложки технический результат заключается в повышении производительности за счет автоматизации процессов подготовки поверхности крупногабаритных подложек и процесса напыления, а также одновременной загрузки и обработки нескольких подложек, возможность нанесения нескольких слоев из различных материалов на обе стороны подложки в едином вакуумном цикле, а также в повышении качества за счет использования ионной очистки подложек перед и во время напыления, создание многослойных структур с сохранением стехиометрии пленок, их высокой однородности по толщине, а также эффективным контролем и управлением за счет применения сканирования подложек относительно напылительных устройств и систем очистки. Применение плазменного разогрева подложек с последующей ионной очисткой существенно повышает структурные и отгезионные свойства напыляемых пленок.
Указанные технические результаты достигаются тем, что в вакуумной напылительной установке на крупногабаритные плоские подложки, содержащей вакуумную камеру, откачные средства, устройство газонапуска, устройство для очистки подложек, напылительные устройства, устройство транспортировки подложек, шлюзовые устройства, а также систему управления, отличающаяся тем, что система управления выполнена в виде компьютерного комплекса ввода и обработки технологической информации, включающего процессор, накопитель информации и блоки отображения информации, а также интерфейсную плату и блоки преобразования сигналов, вакуумная камера выполнена в виде последовательно сочлененных вертикальных щелевых проходных камер, первая из которых - загрузки-выгрузки, вторая - камера нашшения, на одной стенке которой расположены протяженный ионный распылитель магнетронного типа на постоянном токе, высокочастотный протяженный ионный распылитель магнетронного типа, первый протяженный ионный источник для ОЧИО-Т1СИ, а на противоположной стенке установлены протяженный катодо-шгазменный распылитель, второй протяженный ионный источник для очистки, устройство газонапуска и датчик толщины напыляемых покрытий, стенки камеры выполнены разборными, третья - камера разогрева подложек включает источник плазменного тлеющего разряда регулируемой мощности, при этом каждая из камер отделена от другой шлюзовым затвором, устройство транспортировки подложек выполнено в виде челнока-держателя подаожек с возможностью перемещения сквозь все камеры в сканирующем режиме, причем входы всех технологических блоков соединены с входами блоков преобразования сигналов.
Сущность предяоженной полезной модели поясняется чертежом, на котором изображена блок-схема вакуумной напылительной установки на крупногабаритные плоские подложки.
Установка содержит компьютерный комплекс А ввода и обработки технологической информации, устройство связи Б с вакуумной напылительной установкой на крупногабаритные плоские подложки В.
В состав компьютерного комплекса А входит клавиатура с мышью I, принтер ( HPLa2er jet 4 ) 2, накопитель на магнитном диске 3, монитор SVGA 4, компьютер 6 с процессором IBM PC ЛТ 486 и программным обеспечением 5. Устройство связи Б с вакуумной напылительной установкой содержит плату интерфейсную 7, блок управления устройством плазменного разогрева подложек 8, блоки управления пшюзовым вакуумным затвором 9;18, блоки управления протяженным ионным распылителем магнетронного типа на постоянном токе 10;12, блок управления протяженным катодо-плазменным распылителем II, блоки управления протяженным ионным источником 13;14, блок управления устройством автоматического газонапуска 15, блок управления протяженным высокочастотным ионным распылителем магнетронного типа 16, блок управления датчиком толщины напыляемых покрытий 17, блок управления сканирующим челноком-держателем подложек 19, блок управления устройством открытия-закрытия камеры загрузки-выгрузки подложек 20,
Вакуумная напылительная установка на крупногабаритные плоские подложки В содержит камеру загрузки-выгрузки 21 со сканирующим челноком-держателем подложек 22, камеру напыления 23 с протяженными . ионными распылителями магнетронного типа на постоянном токе 24 и 25, протяженными ионными источниками 26 и 29, протяженным высокочастотные ионным распылителем магнетронного типа 27, протяженным катодо-плазменным распылителем 28, устройством автоматического газонапуска 30, датчиком толпщны напыляемых покрытий 31, камеру разогрева подаожек с устройством плазменного разогрева подложек, откачные средства 34 и шлюзовые вакуумные затворы 35 v 36, 37 и 38.
Отредактированная информация поступает в устройство связи с вакуумной напылительной установкой В,через интерфейсную плату 7 поступает в блоки управления и преобразования сигналов, где она преобразуется в электрические сигналы, управляющие исполнительными органами установки В. После загрузки челнока-держателя подложек 22 камеры загрузки-выгрузки 21 управляющий сигнал от блока управления
20 поступает на устройство закрытия камеры 21 пшюзовым затвором 37, одновременно включаются откачные средства 34. После достижения необходимого парциального давления рабочих газов, обеспечиваемого устройством автоматизированного газонапуска 30, камеры напыления 23 и блоком управления 15, поступают управляющие сигналы от блоков управления 9,18 на открытие вакуумных шлюзовых затворов 35,36. Вслед за этим от блока управления 19 управляющий сигнал подается на сканирующий челнок-держатель подложек 22 камеры загрузки-выгрузки 21, после чего он перемещается в камеру разогрева подложек 32. В камере 32 с помощью сигнала от блока управления 8 включается устройство плазменного разогрева подложек 33. После разогрева подложек начинается технологический процесс заданный системой управления. Челнок-держатель подложек начинает осуществлять перемещение от камеры разогрева подложек 32 через кагиеру напыления 23 до камеры загрузки-выгрузки 21 и обратно. Количество циклов сканирования и последовательность включения протяженных ионных источников для очистки подложек 26,29 и протяженных ионных распылителей магнетронного типа на постоянном токе 24,25 и протяженного высокочастотного ионного распылителя 27, а также протяженного катодо-плазменного распылителя 28 с помощью управляющих сигналов от блоков управления 10,11,12,13,14,16 и сигналов от датчика толщины (покрытий 31, осуществляющего обратную связь с системой управления через блок 17. Таким образом системой управления задается полный цикл технологического режима, определяющего структуру, состав, количество и толщину напыляемых покрытий. После этого управляющий сигнал поступает от блока 20 на открытие шлюзового вакуумного затвора 38 и напыленное стекло выгружается.
Проведенные исследования качества получаемых сложнокомпозиционных покрытий и автоматизированного напылительного процесса на предлагаемой вакуумной напылительной установке на крупногабаритные плоские подложки подтвердили возможность получения вышеуказанных оригинальных технических результатов.
Предложенная полезная модель может быть использована в различных отраслях техники, где требуется получение высококачественных многослойных сложнокомпозиционных покрытий с высокими адгезионными и функциональными характеристиками. Например, установка может быть использована для производства архитектурных стекол с анизотропией пропускания в видшой и инфракрасной областях спектра, крупногабаритных плоских газоразрядных экранов отображения информации, а также сложнокомпозиционных фильтров ионизирующих излучений.
Источники информации:
1.Л.Н.Розанов Вакуумные машины и установки. Ленинград Маищностоение, Ленинградское отделение, 1975г., 6.290.
2.Проспект фирмы
Вакуумная техника. Вакуумная технология. Измерительная и аналитическая техника 1987г., с,14. 5 - --ёВОО 2БРАБдТМ 1 РОГРАШ§,ТШОЛОШЕСКОГд 1РОШССА
1.Клавиатура + Шшь.
2.Принтер (HP Lazep jet4).
3.Накопитель на магнитном диске.
4.Монитор
5.Програмное обеспечение.
6.IBM PC АТ486
Б « СТЮЙСТВО СВЯЗИ С АШШОЙ НАШЖташдЙ УСТАНОВКО
f 7. Плата интерфейсная.
8. Блок управления устройством плазменного разогрева подложек.
9,18..Блок управления шлюзовым вакуумным затвором. 10,12. Блок управления протяженным ионным распылителем магнетронного типа на.постоянном токе.
II. Блок управления протяженным катодо-плазменным распылителем. 13,14. Блок управления протяженным ионным источником.
15.Блок управления устройством автоматического газонапуска.
16.Блок управления протяженньш высокочастотным ионным распылителем - магнетронного типа.
М7. Блок управления датчиком толщины напыляемых покрытий.
19.Блок управления сканирующим челноком-держателем подложек.
20.Блок управления устройством открытия-закрытия камеры загрузки- выгрузки.
-В ВАГОШМ ММИТШЬЩ гаАНОВ1т М №тОГАБАгаТШЕ
йдсшГподлош
21.Камера загрузки-выгрузки подложек.
22.Сканирующий челнок-держатель.
23.Камера напыления.
24,25. Протяженный ионный распылитель магнетронного типа на постоянном токе.
/
26,29. Протяженный ионный источник.
27.Протяженный высокочастотный ионный распылитель магнетронного типа.
28.Протяженный катодо-плазменный распылитель.
30.Устройство автоматического газоналуска.
31.Датчик толщины напыляемых покрытий.
32.Камера разогрева подложек.
33.Устройство плазменного разогрева подложек.
34.Откачные средства.
35,36,37,38. Ьлюзовые вакуумные затворы. у /X V / i у I 1. I Л л

Claims (1)

  1. Вакуумная напылительная установка на крупногабаритные плоские подложки, содержащая вакуумную камеру, внутри которой установлены откачные средства, устройство газонапуска, устройство для очистки подложек, напылительные устройства, устройство транспортировки подложек, шлюзовые устройства, а также систему управления, отличающаяся тем, что система управления выполнена в виде компьютерного комплекса ввода и обработки технологической информации, включающего процессор, накопитель информации и блоки отображения информации, а также интерфейсную плату и блоки преобразования сигналов, вакуумная камера выполнена в виде последовательно сочлененных вертикальных щелевых проходных камер, первая из которых - загрузки-выгрузки, вторая - камера напыления, на одной стенке которой расположены протяженный ионный распылитель магнетронного типа на постоянном токе, высокочастотный протяженный ионный распылитель магнетронного типа, первый протяженный ионный источник для очистки, а на противоположной стенке установлены протяженный катодо-плазменный распылитель, второй протяженный ионный источник для очистки, устройство газонапуска и датчик толщины напыляемых покрытий, стенки камеры выполнены разборными, третья - камера разогрева подложек включает источник плазменного тлеющего разряда регулируемой мощности, при этом каждая из камер отделена от другой шлюзовым затвором, устройство транспортировки подложек выполнено в виде челнока-держателя подложек с возможностью перемещения сквозь все камеры в сканирующем режиме, причем входы всех технологических блоков соединены с входами блоков преобразования сигналов.
RU96102664/20U 1996-02-19 1996-02-19 Вакуумная напылительная установка на крупногабаритные плоские подложки RU3757U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU96102664/20U RU3757U1 (ru) 1996-02-19 1996-02-19 Вакуумная напылительная установка на крупногабаритные плоские подложки

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU96102664/20U RU3757U1 (ru) 1996-02-19 1996-02-19 Вакуумная напылительная установка на крупногабаритные плоские подложки

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU3757U1 true RU3757U1 (ru) 1997-03-16

Family

ID=48265984

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU96102664/20U RU3757U1 (ru) 1996-02-19 1996-02-19 Вакуумная напылительная установка на крупногабаритные плоские подложки

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU3757U1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4728529A (en) Method of producing diamond-like carbon-coatings
US20080210550A1 (en) Vacuum Coating System and Method for Vacuum Coating
US5993614A (en) Method of manufacturing substrate with thin film, and manufacturing apparatus
EP0632847B2 (de) Verfahren zum beschichten eines substrats mit einem eine glanzwirkung hervorrufenden material
US3925182A (en) Method for continuous production of sputter-coated glass products
US5215638A (en) Rotating magnetron cathode and method for the use thereof
CN108570651A (zh) 一种多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线及其镀膜方法
CN101629277A (zh) 真空镀膜方法、真空镀膜设备以及镀膜元件和外壳
EP0261245B1 (en) Process for producing transparent conductive film
EA034967B1 (ru) Технологическая линия для формирования тонкопленочных покрытий в вакууме (варианты)
CN112159967B (zh) 一种用于红外金属膜的离子束沉积设备及薄膜沉积方法
CN109338320B (zh) 一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺
RU3757U1 (ru) Вакуумная напылительная установка на крупногабаритные плоские подложки
US4424103A (en) Thin film deposition
US5466296A (en) Thin film deposition apparatus, mainly dedicated to PECVD and sputtering techniques and respective processes
CA2525061C (en) Process for applying in particular optical coatings
CN101988187B (zh) 一种真空磁控溅射彩镀设备
CN111621761A (zh) 一种磁控溅射镀膜装置及方法
RU2287610C2 (ru) Установка для вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий
TW201712136A (zh) 成膜裝置及層疊體
CN207016847U (zh) 柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置
JPH06279998A (ja) 円筒内面のドライコーティング方法
CN113584448B (zh) 一种光学滤光片镀膜方法
CN201442976U (zh) 一种带有补偿斜靶的真空磁控溅射镀膜机
JP4766821B2 (ja) 基板にコーティングを施すための真空モジュール(及びその変形)とモジュールシステム