RU2807819C1 - Reactor for particle coating in fluidized bed using chemical vapor deposition - Google Patents

Reactor for particle coating in fluidized bed using chemical vapor deposition Download PDF

Info

Publication number
RU2807819C1
RU2807819C1 RU2023100173A RU2023100173A RU2807819C1 RU 2807819 C1 RU2807819 C1 RU 2807819C1 RU 2023100173 A RU2023100173 A RU 2023100173A RU 2023100173 A RU2023100173 A RU 2023100173A RU 2807819 C1 RU2807819 C1 RU 2807819C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
reactor
reagent
nozzle
chemical vapor
vapor deposition
Prior art date
Application number
RU2023100173A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2807819C9 (en
Inventor
Андрей Михайлович Абызов
Original Assignee
Андрей Михайлович Абызов
Filing date
Publication date
Application filed by Андрей Михайлович Абызов filed Critical Андрей Михайлович Абызов
Application granted granted Critical
Publication of RU2807819C1 publication Critical patent/RU2807819C1/en
Publication of RU2807819C9 publication Critical patent/RU2807819C9/en

Links

Images

Abstract

FIELD: chemical vapor deposition.
SUBSTANCE: invention is related to a vacuum conical reactor for chemical vapor deposition of a coating onto powder in a fluidized bed with separate input of fluidizing gas and reagent. Said reactor contains a lid, a lower fluidizing gas input pipe configured to discharge the coated powder, a nozzle having a water jacket and passing through the reactor lid, an upper pipe for pumping out and providing flow mode in it, and a gas outlet pipe. The specified conical reactor is made with an upward opening angle of 25-40° and with the possibility of heating by an external resistive electric furnace. The nozzle is configured to be connected to an evaporator having a water jacket and providing evaporation of the reagent, or to be connected to a cylinder with said reagent. The nozzle is designed to introduce the reagent from above with respect to the upper boundary of the fluidized layer of powder particles, ensuring during the process of chemical vapor deposition a total pressure above the said layer of 1-103 Pa.
EFFECT: ensures a significant reduction in labor costs and time for cleaning the internal walls of the reactor elements from dense and loose reaction products.
2 cl, 1 dwg, 3 ex

Description

Изобретение относится к области получения материалов, а именно к устройству и условиям нанесения покрытий на порошки методом химического осаждения из газовой фазы (chemical vapor deposition, CVD) в реакторе псевдоожиженного слоя.The invention relates to the field of materials production, namely to the device and conditions for applying coatings to powders by chemical vapor deposition (CVD) in a fluidized bed reactor.

Порошковые материалы с покрытиями используются как готовый продукт для улучшения или изменения свойств дисперсных материалов (защитные, упрочняющие, износостойкие, электропроводные, диэлектрические и др. покрытия), а также как сырье в технологиях изготовления композиционных материалов с дисперсным наполнителем, керамики (например, при спекании).Powder materials with coatings are used as a finished product to improve or change the properties of dispersed materials (protective, strengthening, wear-resistant, electrically conductive, dielectric, etc. coatings), as well as raw materials in manufacturing technologies for composite materials with dispersed filler, ceramics (for example, during sintering ).

Как известно, в проточном реакторе псевдоожиженного слоя твердые частицы находятся во взвешенном состоянии и перемешиваются в потоке псевдоожижающего газа (как правило, инертный газ). Само осаждение покрытия обеспечивается вводом газообразного реагента. Теория и практика псевдожижения и химического осаждения из газовой фазы описаны, например, в монографиях [Тодес О.М., Цитович О.Б. Аппараты с кипящим зернистым слоем. Гидравлические и тепловые основы работы. - Л.: Химия, 1981. - 296 с.; Сыркин В.Г. CVD-метод. Химическая парофазная металлизация. - М.: Наука, 2000. - 476 с.]. Реагент поступает в реактор непосредственно как газ из сосуда хранения (баллона); если же реагент жидкий или твердый при условиях окружающей среды (комнатная температура и атмосферное давление), то он подается в реактор в газообразном состоянии из обогреваемого испарителя. Химические реакции в реакторе с осаждением продуктов в виде покрытия на частицах порошка-носителя происходят за счет термической активации путем нагрева стенок реактора (внешней печью, индукционно токами высокой частоты или другим способом). При этом, помимо роста покрытия на частицах носителя, имеют место побочные процессы осаждения продуктов разложения реагента на поверхностях стенок, конструктивных элементов реактора. Возникающие в связи с этим проблемы описаны, например, в [US 3605685 West et al.] и [US 4056641 Huschka et al.] на примерах пиролиза карбонилов металлов (с получением металлических покрытий) и углеводородов (с осаждением пироуглерода). Псевдоожижающий газ подается под слой частиц, поскольку поток псевдоожижающего газа (снизу вверх) должен быть противонаправлен силе тяжести. Удаление из реактора газообразных продуктов реакций (и остатков непрореагировавшего реагента, если они имеются) вместе с псевдоожижающим газом осуществляется через верхний патрубок.As is known, in a flow-through fluidized bed reactor, solid particles are suspended and mixed in a flow of fluidizing gas (usually an inert gas). The deposition of the coating itself is ensured by the introduction of a gaseous reagent. The theory and practice of fluidization and chemical vapor deposition are described, for example, in the monographs [Todes O.M., Tsitovich O.B. Devices with fluidized granular bed. Hydraulic and thermal fundamentals of work. - L.: Chemistry, 1981. - 296 p.; Syrkin V.G. CVD method. Chemical vapor phase metallization. - M.: Nauka, 2000. - 476 p.]. The reagent enters the reactor directly as gas from the storage vessel (cylinder); if the reagent is liquid or solid under ambient conditions (room temperature and atmospheric pressure), then it is supplied to the reactor in a gaseous state from a heated evaporator. Chemical reactions in the reactor with the deposition of products in the form of a coating on carrier powder particles occur due to thermal activation by heating the reactor walls (with an external furnace, high-frequency induction currents or another method). In this case, in addition to the growth of the coating on the carrier particles, side processes of deposition of the reagent decomposition products on the surfaces of the walls and structural elements of the reactor take place. The problems arising in this regard are described, for example, in [US 3605685 West et al.] and [US 4056641 Huschka et al.] using examples of the pyrolysis of metal carbonyls (to produce metal coatings) and hydrocarbons (with the deposition of pyrocarbon). The fluidizing gas is supplied under the particle bed since the fluidizing gas flow (from bottom to top) must be in the opposite direction to gravity. Removal of gaseous reaction products (and residual unreacted reagent, if any) from the reactor along with the fluidizing gas is carried out through the upper pipe.

Газообразный реагент подается обычно в смеси с псевдоожижающим газом через нижний патрубок реактора. При этом обрабатываемый порошок отделен в реакторе от нижнего входного патрубка решеткой или пористой пластиной; либо газ подается через одно или несколько сопел с наконечниками (без них); либо входной патрубок имеет малое сечение, так что в нем обеспечивается унос частиц порошка газовым потоком, а реактор имеет форму сужающегося книзу конуса. Конструкции аппаратов такого рода описаны, например, в патентах [US 3398718 Pilloton, US 3636923 McCreary et al., US 3889631 Lackey et al., US 4221182 Brown, US 4262039 Gyarmati et al.]. Недостатками аппаратов такого типа является то, что в них газораспределительные устройства (решетка, пористая перегородка, сопло) постепенно зарастают, забиваются продуктами разложения реагента. Известна конструкция, когда псевдоожижающий газ, смешанный с реагентом, подается сверху через сопло, пропущенное к днищу по оси реактора (см., например, [Arrieta M.Y. et al. Fluidized bed chemical vapor deposition of zirconium nitride films // Nuclear Technology, 2017, V. 199, P. 219-226]). При этом сопло отделено от нагретого слоя частиц охлаждающей рубашкой, через которую циркулирует жидкий или газообразный теплоноситель. К недостаткам такой конструкции относятся:The gaseous reagent is usually supplied mixed with fluidizing gas through the lower nozzle of the reactor. In this case, the powder being processed is separated in the reactor from the lower inlet pipe by a grid or porous plate; or gas is supplied through one or more nozzles with tips (without them); or the inlet pipe has a small cross-section, so that it ensures the entrainment of powder particles by the gas flow, and the reactor has the shape of a cone tapering downward. The designs of devices of this kind are described, for example, in patents [US 3398718 Pilloton, US 3636923 McCreary et al., US 3889631 Lackey et al., US 4221182 Brown, US 4262039 Gyarmati et al.]. The disadvantages of devices of this type are that the gas distribution devices in them (grid, porous partition, nozzle) gradually become overgrown and clogged with reagent decomposition products. A known design is when a fluidizing gas mixed with a reagent is supplied from above through a nozzle passed to the bottom along the axis of the reactor (see, for example, [Arrieta M.Y. et al. Fluidized bed chemical vapor deposition of zirconium nitride films // Nuclear Technology, 2017, V. 199, P. 219-226]). In this case, the nozzle is separated from the heated layer of particles by a cooling jacket, through which a liquid or gaseous coolant circulates. The disadvantages of this design include:

- высокая тепловая нагрузка на охлаждающую рубашку, поскольку сопло проходит насквозь через нагретый слой частиц;- high thermal load on the cooling jacket, since the nozzle passes through the heated layer of particles;

- близость горячего днища реактора к выходу из сопла, так что в этой зоне идет интенсивное обрастание стенок.- the proximity of the hot bottom of the reactor to the nozzle exit, so that intensive fouling of the walls occurs in this zone.

Альтернативная конструкция предусматривает раздельное введение газов, когда реагент подается сверху над слоем частиц, а псевдоожижающий газ по-прежнему поступает под слой. Так, в патенте [US 4056641 Huschka et al.] описан реактор псевдоожиженного слоя для нанесения покрытий из газовой фазы, в котором реагент вдувается в слой частиц через сопло (сопла) сверху с высокой линейной скоростью - в 103…104 раз больше скорости псевдоожижающего газа в слое. Недостатком такого аппарата является то, что условие высокой скорости потока вводимого реагента накладывает дополнительное ограничение на массовый расход реагента на входе в реактор, поскольку последняя величина задается в зависимости и в связи с такими параметрами, как скорость роста покрытия, степень превращения реагента в реакторе, парциальные давления реагента и продуктов реакции в газовой фазе.An alternative design involves separate introduction of gases, where the reactant is introduced from above the particle bed, while the fluidizing gas still enters below the bed. Thus, the patent [US 4056641 Huschka et al.] describes a fluidized bed reactor for gas phase coating, in which the reagent is blown into the layer of particles through the nozzle(s) from above at a high linear speed - 10 3 ... 10 4 times the speed fluidizing gas in the bed. The disadvantage of such an apparatus is that the condition of a high flow rate of the introduced reagent imposes an additional limitation on the mass flow rate of the reagent at the inlet to the reactor, since the latter value is set depending on and in connection with such parameters as the coating growth rate, the degree of conversion of the reagent in the reactor, partial pressure of the reagent and reaction products in the gas phase.

Известен также способ введения газообразного реагента в слой частиц через сопло сверху, когда конец сопла имеет пористую перегородку и сопло опущено ниже верхней границы слоя частиц [US 3984587 Lipp]. Очевидным недостатком такой конструкции является зарастание выхода из сопла продуктами разложения реагента в ходе рабочего процесса осаждения покрытия.There is also a known method of introducing a gaseous reagent into a layer of particles through a nozzle from above, when the end of the nozzle has a porous partition and the nozzle is lowered below the upper boundary of the layer of particles [US 3984587 Lipp]. An obvious disadvantage of this design is that the nozzle outlet becomes clogged with reagent decomposition products during the coating deposition process.

Также известен способ осаждения покрытий методом химического осаждения из газовой фазы с подачей жидкого реагента путем впрыскивания сверху в псевдоожиженный слой частиц носителя - см., например [Wood B.J. et al. Coating particles by chemical vapor deposition in fluidized bed reactors // Surface and Coatings Technology, 1991, V. 49, Р. 228-232]. Недостатком такого способа является ограничение на агрегатное состояние исходного реагента (необходимо, чтобы он был жидким), сложность технического устройства дозатора для равномерной подачи жидкости с низкой заданной скоростью.There is also a known method for depositing coatings using chemical vapor deposition with the supply of a liquid reagent by injecting carrier particles from above into a fluidized bed - see, for example, [Wood B.J. et al. Coating particles by chemical vapor deposition in fluidized bed reactors // Surface and Coatings Technology, 1991, V. 49, R. 228-232]. The disadvantage of this method is the limitation on the state of aggregation of the initial reagent (it must be liquid), the complexity of the technical device of the dispenser for uniform supply of liquid at a low specified speed.

В патенте [US 4056641 Huschka et al.], взятом как прототип, не рассмотрен вопрос о кпд реактора (степень превращения реагента в покрытие на порошке-носителе, т.е. относительная доля исходного реагента, разложившегося с образованием покрытия). Между тем очевидно, что при подаче реагента в псевдожиженный слой сверху, противотоком псевдоожижающему газу, реагент выносится из слоя встречным потоком псевдоожижающего газа, так что возможно заметное снижение кпд реактора по сравнению с вариантом, когда реагент подается в слой снизу вместе с псевдоожижающим газом.The patent [US 4056641 Huschka et al.], taken as a prototype, does not address the issue of reactor efficiency (the degree of conversion of the reagent into a coating on a carrier powder, i.e., the relative proportion of the original reagent decomposed to form the coating). Meanwhile, it is obvious that when a reagent is supplied to the fluidized layer from above, countercurrent to the fluidizing gas, the reagent is removed from the layer by a counter flow of fluidizing gas, so that a noticeable decrease in the efficiency of the reactor is possible compared to the option when the reagent is supplied to the layer from below along with the fluidizing gas.

Таким образом, технической задачей было создание химического реактора псевдожиженного слоя такой конструкции, при которой исключается или минимизируется препятствующее проходу газа зарастание места ввода реагента продуктами, оседающими на конструкционных элементах, причем без осложнения управлением технологическим процессом и обеспечивая достаточно высокий кпд реактора.Thus, the technical challenge was to create a fluidized bed chemical reactor of such a design that eliminates or minimizes the overgrowth of the reagent injection site with products deposited on the structural elements that impedes the passage of gas, without complicating the process control and ensuring a sufficiently high efficiency of the reactor.

Технический результат, достигнутый в предлагаемом изобретении: технологический процесс осаждения покрытия не прерывается по причине перекрытия входа реагента в реактор продуктами осаждения; в конце технологического цикла - после проведения осаждения покрытия на порошке и выгрузки продукта - существенно снижаются затраты труда и времени на очистку от плотных и рыхлых продуктов реакции, осевших на внутренних стенках элементов реактора, либо отпадает необходимость в такой очистке.The technical result achieved in the present invention: the technological process of coating deposition is not interrupted due to the blocking of the reagent input into the reactor by the deposition products; at the end of the technological cycle - after deposition of the coating on the powder and unloading of the product - the labor and time costs for cleaning from dense and loose reaction products deposited on the internal walls of the reactor elements are significantly reduced, or the need for such cleaning is eliminated.

Решение задачи в том, что газообразный реагент подводится к верхней границе псевдоожиженного слоя частиц по опущенному вниз соплу, а процесс осаждения покрытия осуществляется в вакууме при давлении газа над слоем 1…103 Па, предпочтительно 10…102 Па. При этом, за счет высокого коэффициента диффузии в вакууме, обеспечивается проникновение реагента в слой частиц по механизму преимущественно диффузионного, а не конвективного массопереноса, так что не накладывается каких-либо ограничений на скорость потока реагента, истекающего из сопла. Достаточная глубина проникновения реагента в псевдоожиженный слой обеспечивает приемлемый кпд реактора (десятки процентов). Глубина проникновения реагента в слой может быть меньше, чем высота слоя частиц, тем не менее, за счет интенсивного перемешивания частиц в псевдоожиженном слое, за время проведения осаждения покрытие распределяется равномерно по всем частицам порошка.The solution to the problem is that the gaseous reagent is supplied to the upper boundary of the fluidized layer of particles through a nozzle lowered down, and the coating deposition process is carried out in a vacuum at a gas pressure above the layer of 1...10 3 Pa, preferably 10...10 2 Pa. At the same time, due to the high diffusion coefficient in a vacuum, the penetration of the reagent into the layer of particles is ensured by the mechanism of predominantly diffusion rather than convective mass transfer, so that no restrictions are imposed on the flow rate of the reagent flowing from the nozzle. A sufficient depth of penetration of the reagent into the fluidized bed ensures acceptable reactor efficiency (tens of percent). The depth of penetration of the reagent into the layer may be less than the height of the layer of particles; however, due to the intensive mixing of particles in the fluidized layer, during deposition the coating is distributed evenly over all particles of the powder.

Поскольку коэффициент диффузии в газе обратно пропорционален давлению, то при давлении более 102 (103) Па существенно снижается глубина проникновения реагента в слой частиц и соответственно кпд реактора.Since the diffusion coefficient in a gas is inversely proportional to pressure, at a pressure of more than 10 2 (10 3 ) Pa the depth of penetration of the reagent into the layer of particles and, accordingly, the efficiency of the reactor are significantly reduced.

Особенностью гидродинамического режима в рассматриваемом реакторе является высокий перепад Δр на слое по вертикали сравнительно с давлением над слоем (давление снижается снизу вверх по слою). Величина Ар оценивается по формулеA feature of the hydrodynamic regime in the reactor under consideration is the high vertical difference Δр across the layer compared to the pressure above the layer (pressure decreases from bottom to top along the layer). The value of Ap is estimated using the formula

где ρтв - плотность твердых частиц порошка-носителя, g=9,81 м/с2 - ускорение свободного падения, Н - высота неподвижного слоя частиц. Например, при значениях ρтв=3 г/см3 и Н - 3 см перепад давления на слое Δр составляет порядка 103 Па. Учитывая высокий градиент давления вглубь слоя от его верхней границы, не имеет смысла уменьшать давление над слоем ниже 10(1) Па, поскольку вакуумирование ниже 1…10 Па означает переход в область из среднего в высокий вакуум, что требует существенного технического усложнения и повышения стоимости аппаратуры (вакуумный насос, уплотнения, вентили и т.п.), в том числе требуются трубопроводы большего диаметра и с высокой чистотой внутренней поверхности. Кроме того, снижение давления в реакторе приводит, как правило, к уменьшению скорости реакций, т.е. к снижению скорости осаждения покрытий и соответственно к увеличению времени получения покрытий необходимой толщины. Компенсировать влияние снижения давления на скорость роста покрытия можно, увеличивая температуру, но значительное расширение температурного диапазона рабочего процесса (на сотни °С при снижении давления до 0,1 Па и ниже) сопряжено с необходимостью использования более жаростойких материалов для реактора и печи и/или изменения конструкции печи, принципа нагрева.where ρ TV is the density of solid particles of the carrier powder, g = 9.81 m/s 2 is the acceleration of free fall, H is the height of the stationary layer of particles. For example, with values of ρ TV = 3 g/cm 3 and N - 3 cm, the pressure drop across the layer Δр is about 10 3 Pa. Considering the high pressure gradient deep into the layer from its upper boundary, it makes no sense to reduce the pressure above the layer below 10(1) Pa, since evacuation below 1...10 Pa means a transition to the region from medium to high vacuum, which requires significant technical complexity and increased cost equipment (vacuum pump, seals, valves, etc.), including requiring pipelines of larger diameter and with a high cleanliness of the internal surface. In addition, a decrease in pressure in the reactor leads, as a rule, to a decrease in the reaction rate, i.e. to a decrease in the deposition rate of coatings and, accordingly, to an increase in the time for obtaining coatings of the required thickness. It is possible to compensate for the effect of a decrease in pressure on the coating growth rate by increasing the temperature, but a significant expansion of the temperature range of the working process (by hundreds of °C when the pressure is reduced to 0.1 Pa and below) is associated with the need to use more heat-resistant materials for the reactor and furnace and/or changes in the design of the furnace, the heating principle.

С перепадом давления газа на слое частиц связано еще одно преимущество предложенного реактора. Известно, что при снижении общего давления газа ослабевают (подавляются) процессы гомогенного разложения реагента в объеме газа, которые могут приводить к формированию нежелательных продуктов (аэрозоли, вязкие полимерные отложения и т.п.) и наоборот, усиливаются процессы гетерогенного разложения реагента на поверхности носителя с образованием качественных покрытий (высокой чистоты, адгезии и т.п.). Поэтому верхний подвод реагента в псевдоожиженный слой имеет то преимущество по сравнению с традиционным подводом реагента снизу, что покрытие наносится в условиях более низких давлений газа, что способствует гетерогенному механизму роста покрытия.Another advantage of the proposed reactor is associated with the difference in gas pressure across the layer of particles. It is known that when the total gas pressure decreases, the processes of homogeneous decomposition of the reagent in the gas volume are weakened (suppressed), which can lead to the formation of undesirable products (aerosols, viscous polymer deposits, etc.) and, conversely, the processes of heterogeneous decomposition of the reagent on the surface of the carrier are enhanced with the formation of high-quality coatings (high purity, adhesion, etc.). Therefore, the top supply of the reagent into the fluidized bed has the advantage over the traditional supply of the reagent from below that the coating is applied under conditions of lower gas pressures, which promotes a heterogeneous growth mechanism of the coating.

Предпочтительная конструкция реактора изображена схематически на чертеже, где 1 - реактор, 2 - патрубок ввода псевдоожижающего газа; 3 -сопло ввода реагента; 4 - крышка реактора; 5 - патрубок выхода газов; 6 -фонтанирующий слой частиц. Сопло проходит через крышку реактора. Если реагент подается из испарителя, сопло стыкуется с испарителем. Если реагент подается газообразным непосредственно из баллона, испаритель отсутствует .Сопло термостатируется путем циркуляции теплоносителя через рубашку сопла.The preferred reactor design is shown schematically in the drawing, where 1 is the reactor, 2 is the fluidizing gas input pipe; 3 - reagent injection nozzle; 4 - reactor cover; 5 - gas outlet pipe; 6 - gushing layer of particles. The nozzle passes through the reactor cover. If the reagent is supplied from the evaporator, the nozzle is connected to the evaporator. If the reagent is supplied in gaseous form directly from the cylinder, there is no evaporator. The nozzle is thermostatically controlled by circulating coolant through the nozzle jacket.

Для конфигурации реактора с испарителем возможны два варианта:For the reactor configuration with evaporator, two options are possible:

а) без подачи газа-носителя в испаритель, когда реагент поступает в реактор только за счет термостатирования испарителя и сопла (поддерживается температура, ниже температуры начала разложения реагента, но настолько высокая, чтобы обеспечить испарение реагента и достаточное давление пара реагента, и соответственно поступление реагента в реактор с нужным расходом).a) without supplying a carrier gas to the evaporator, when the reagent enters the reactor only due to thermostatting of the evaporator and nozzle (the temperature is maintained below the temperature at which the reagent begins to decompose, but so high as to ensure evaporation of the reagent and sufficient vapor pressure of the reagent, and accordingly the supply of the reagent into the reactor with the required flow rate).

б) с дополнительной подачей в испаритель газа-носителя для транспортировки реагента в реактор.b) with an additional supply of carrier gas to the evaporator for transporting the reagent to the reactor.

Проточный режим в реакторе обеспечивается откачкой газов через верхний патрубок при помощи вакуумного насоса.Flow mode in the reactor is ensured by pumping gases through the upper pipe using a vacuum pump.

Предпочтительно проведение осаждения покрытия в фонтанирующем слое частиц. В отличие от обычного псевдоожиженного слоя, когда частицы движутся хаотически, при фонтанировании структура слоя и характер движения частиц упорядочены: отсутствуют пузыри газа, идет циркуляция по контуру ядро потока - пристеночная область, что положительно сказывается на процессе нанесения покрытия.It is preferable to carry out the deposition of the coating in a flowing layer of particles. Unlike a conventional fluidized bed, when the particles move chaotically, during gushing, the structure of the layer and the nature of the movement of the particles are ordered: there are no gas bubbles, circulation occurs along the contour of the flow core - the near-wall region, which has a positive effect on the coating process.

Предпочтительно реактор имеет форму расширяющегося кверху конуса с нижним патрубком малого диаметра. В нижнем патрубке в рабочем режиме обеспечивается унос частиц в коническую часть реактора, так что отпадает необходимость в установке на нижнем входе в реактор газораспределительных устройств (решетка, сопло с наконечником и т.п.), которые удерживают частицы от попадания в нижний патрубок.Preferably, the reactor has the shape of a cone expanding upward with a lower nozzle of small diameter. In the lower nozzle, in operating mode, particles are carried away into the conical part of the reactor, so there is no need to install gas distribution devices (grid, nozzle with tip, etc.) at the lower entrance to the reactor, which keep particles from entering the lower nozzle.

Во избежание поршневания и для хорошей циркуляции частиц наилучшие результаты достигаются, когда полный угол конуса реактора составляет 25…40°.To avoid pistoning and for good particle circulation, the best results are achieved when the full angle of the reactor cone is 25...40°.

Если химическое осаждение из газовой фазы осуществляется с участием двух (или более) реагентов, то ввод второго реагента (дополнительных реагентов) может осуществляться его (их) подачей как вместе с первым реагентом из верхнего сопла, так и вместе с псевдожижающим газом из нижнего патрубка. Примером может служить осаждение покрытий оксидов, когда в качестве исходных реагентов выступают металлоорганическое соединение и кислород О2.If chemical vapor deposition is carried out with the participation of two (or more) reagents, then the introduction of the second reagent (additional reagents) can be carried out by supplying it (their) both together with the first reagent from the upper nozzle, and together with the fluidizing gas from the lower nozzle. An example is the deposition of oxide coatings, when the starting reagents are an organometallic compound and oxygen O2 .

При необходимости возможна установка двух или более верхних сопел ввода реагента (реагентов) в реактор.If necessary, it is possible to install two or more upper nozzles for introducing the reagent(s) into the reactor.

Вакуумный реактор псевдоожиженного слоя описанной конструкции может использоваться для проведения не только химического осаждения из газовой фазы, но и других реакций взаимодействия газ - твердое. К таким процессам относятся, например, реакции на поверхности частиц катализатора; газификация материала частиц; химическое модифицирование поверхности частиц из газовой фазы путем формирования определенных функциональных групп, в том числе по реакции хемосорбции, включая многократную циклическую обработку - молекулярное наслаивание (atomic layer deposition, ALD).A vacuum fluidized bed reactor of the described design can be used to carry out not only chemical vapor deposition, but also other gas-solid interaction reactions. Such processes include, for example, reactions on the surface of catalyst particles; gasification of particle material; chemical modification of the surface of particles from the gas phase by the formation of certain functional groups, including chemisorption reactions, including multiple cyclic processing - molecular layering (atomic layer deposition, ALD).

Ниже представлены примеры реализации технического решения изобретения. В примерах проводится осаждение металло-карбидных покрытий субмикронной толщины на частицы алмаза. В качестве исходного реагента используются порошки карбонилов хрома, молибдена и вольфрама Ме(СО)6 (Me - Cr, Мо или W). Покрытие образуется в результате реакции разложения карбонила металлаBelow are examples of implementation of the technical solution of the invention. In the examples, metal-carbide coatings of submicron thickness are deposited on diamond particles. Powders of chromium, molybdenum and tungsten carbonyls Me(CO) 6 (Me - Cr, Mo or W) are used as the starting reagent. The coating is formed as a result of the decomposition reaction of metal carbonyl

Осаждаемый металл может взаимодействовать с углеродом частиц, на которых наносится покрытие, с образованием карбидов:The deposited metal can react with the carbon of the particles being coated to form carbides:

Исходные реагенты - карбонилы Ме(СО)6 - представляют собой твердые вещества, так что реагент подается в реактор из испарителя. Ввод газа-носителя в испаритель не осуществляется. Псевдоожижающим газом служит водород Н2. Полученные порошки алмаза с покрытием используются как наполнитель для изготовления композитов на металлической связке.The starting reagents - carbonyls Me(CO) 6 - are solids, so the reagent is supplied to the reactor from the evaporator. No carrier gas is introduced into the evaporator. The fluidizing gas is hydrogen H2 . The resulting coated diamond powders are used as a filler for the manufacture of metal bonded composites.

В приведенных примерах расчеты технологических параметров выполнены по следующим соотношениям.In the examples given, calculations of technological parameters are performed using the following relationships.

Удельная геометрическая поверхность порошка рассчитана по формулеThe specific geometric surface of the powder is calculated by the formula

где ρтв - плотность частиц, d - средний размер частиц (середина диапазона зернистости), ср - фактор формы частиц (принято ϕ=0,7).where ρ TV is the particle density, d is the average particle size (the middle of the grain size range), cp is the particle shape factor (accepted ϕ=0.7).

Толщина покрытия h рассчитана в предположении, что покрытие состоит из металла:The coating thickness h is calculated on the assumption that the coating consists of metal:

где Δm - масса покрытия (привес на порошке после осаждения), m0 -исходная масса порошка-носителя, ρMc - плотность металла покрытия.where Δm is the mass of the coating (weight gain on the powder after deposition), m 0 is the initial mass of the carrier powder, ρ Mc is the density of the coating metal.

Кпд реактора рассчитан по формулеThe reactor efficiency is calculated using the formula

где Мк - молярная масса карбонила, MMe - молярная масса металла, mк - исходная масса карбонила, загруженного в испаритель.where M k is the molar mass of carbonyl, M Me is the molar mass of the metal, m k is the initial mass of carbonyl loaded into the evaporator.

Пример 1. Example 1 .

Процесс химического осаждения покрытия из газовой фазы на порошке носителя проводится при пониженном давлении в фонтанирующем слое частиц в коническом реакторе (см. чертеж). Внутренний диаметр нижнего патрубка входа псевдоожижающего газа 4 мм, диаметр цилиндрической обечайки над конусом реактора 80 мм, растр конуса 30°. Испаритель и сопло имеют водяную рубашку и термостатируются. Внутренний диаметр сопла 5 мм. Реактор обогревается внешней резистивной электропечью.The process of chemical vapor deposition of a coating from a gas phase on a carrier powder is carried out at reduced pressure in a gushing layer of particles in a conical reactor (see drawing). The internal diameter of the lower branch pipe of the fluidizing gas inlet is 4 mm, the diameter of the cylindrical shell above the reactor cone is 80 mm, the cone raster is 30°. The evaporator and nozzle have a water jacket and are thermostatically controlled. The inner diameter of the nozzle is 5 mm. The reactor is heated by an external resistive electric furnace.

В испаритель загружают 20 г порошка карбонила молибдена Мо(СО)6, в реактор - 50 г синтетического алмаза АС-50 250/200 (зернистость 200 - 250 мкм, расчетная удельная геометрическая поверхность sуд 0,011 м2/г). Через верхний патрубок реактор откачивают до остаточного давления 3 Па. В реактор через нижний патрубок подают водород с расходом 2,0 см3/с (объем газа приведен к атмосферному давлению и комнатной температуре). В реакторе над слоем давление возрастает до 27 Па. Нагревают реактор до 600°С, испаритель до 48°С. Карбонил поступает в реактор, где разлагается; вследствие выделения монооксида углерода СО (см. уравн. (2)) давление над слоем возрастает в среднем до 36 Па. Испарение реагента до момента его израсходования и осаждение покрытия продолжаются 5,3 ч, после чего давление над слоем падает до прежнего значения 27 Па. Охлаждают испаритель - до комнатной температуры, реактор - до ≈70°С. Прекращают подачу водорода и откачку реактора; после напуска воздуха порошок с покрытием выгружают через нижний патрубок. По данным рентгеновской дифракции полученное покрытие состоит из молибдена Мо и карбида молибдена Мo2С. Массовая доля покрытия Δm/m0=8,9%, расчетная толщина покрытия h=0,81 мкм; кпд реактора α=60%. Согласно расчету, проведенному исходя из расходов карбонила и водорода, а также площади сечений сопла и реактора, на выходе из сопла линейная скорость потока реагента превышает линейную скорость потока псевдоожижающего газа в 10 раз.20 g of molybdenum carbonyl powder Mo(CO) 6 are loaded into the evaporator, and 50 g of synthetic diamond AS-50 250/200 (grain size 200 - 250 μm, calculated specific geometric surface ssp 0.011 m 2 /g) is loaded into the reactor. Through the upper pipe, the reactor is pumped out to a residual pressure of 3 Pa. Hydrogen is supplied to the reactor through the lower pipe at a flow rate of 2.0 cm 3 /s (the volume of gas is reduced to atmospheric pressure and room temperature). In the reactor above the layer, the pressure increases to 27 Pa. Heat the reactor to 600°C, the evaporator to 48°C. The carbonyl enters the reactor where it decomposes; due to the release of carbon monoxide CO (see equation (2)), the pressure above the layer increases to an average of 36 Pa. The evaporation of the reagent until it is consumed and the deposition of the coating continues for 5.3 hours, after which the pressure above the layer drops to the previous value of 27 Pa. Cool the evaporator to room temperature, the reactor to ≈70°C. Stop the hydrogen supply and reactor pumping; After air is released, the coated powder is discharged through the lower pipe. According to X-ray diffraction data, the resulting coating consists of molybdenum Mo and molybdenum carbide Mo 2 C. Mass fraction of coating Δm/m 0 = 8.9%, calculated coating thickness h = 0.81 μm; reactor efficiency α=60%. According to calculations based on the consumption of carbonyl and hydrogen, as well as the cross-sectional area of the nozzle and reactor, at the exit from the nozzle the linear flow rate of the reagent exceeds the linear flow rate of the fluidizing gas by 10 times.

Пример 2.Example 2.

Аналогичен примеру 1, с той разницей, что в реактор загружают алмаз SDB 1100 35/45 (зернистость 350-500 мкм, расчетная удельная поверхность 0,0057 м2/г), а в испаритель - 24 г карбонила вольфрама W(СО)6, задают расход водорода 4,3 см3/с, испаритель нагревают до 64°С, давление водорода над слоем до и после осаждения составляет 43 Па, давление во время осаждения в среднем 50 Па. Покрытие состоит из металлического вольфрама W, массовая доля покрытия 10,7%, толщина покрытия 0,99 мкм, кпд реактора 43%.Similar to example 1, with the difference that diamond SDB 1100 35/45 (grain size 350-500 microns, calculated specific surface area 0.0057 m 2 /g) is loaded into the reactor, and 24 g of tungsten carbonyl W(CO) 6 is loaded into the evaporator , set the hydrogen flow rate to 4.3 cm 3 /s, the evaporator is heated to 64°C, the hydrogen pressure above the layer before and after deposition is 43 Pa, the pressure during deposition is on average 50 Pa. The coating consists of metal tungsten W, the mass fraction of the coating is 10.7%, the coating thickness is 0.99 microns, the reactor efficiency is 43%.

Пример 3.Example 3.

Аналогичен примеру 1, с той разницей, что используется алмаз MBG 610 80/100 (зернистость 150-180 мкм, расчетная удельная поверхность 0,015 м2/г), масса исходного порошка алмаза составляет 35 г; исходный реагент -карбонил хрома Cr(СО)6 массой 5,3 г. Расход водорода 1,4 см3/с, давление водорода до и после осаждения 21 Па. При осаждении покрытия температура испарителя 40°С, температура реактора 400°С, общее давление над слоем в среднем 27 Па, продолжительность осаждения 3,2 ч. В результате получено покрытие из карбида хрома Cr7C3, массовая доля покрытия 2,5%, расчетная толщина покрытия 0,23 мкм, кпд реактора 71%.Similar to example 1, with the difference that MBG 610 80/100 diamond is used (grain size 150-180 microns, calculated specific surface area 0.015 m 2 /g), the mass of the initial diamond powder is 35 g; the starting reagent is chromium carbonyl Cr(CO) 6 weighing 5.3 g. Hydrogen consumption is 1.4 cm 3 /s, hydrogen pressure before and after deposition is 21 Pa. During coating deposition, the evaporator temperature is 40°C, the reactor temperature is 400°C, the total pressure above the layer is on average 27 Pa, the deposition duration is 3.2 hours. The result is a coating of chromium carbide Cr 7 C 3 , the mass fraction of the coating is 2.5% , estimated coating thickness 0.23 microns, reactor efficiency 71%.

Claims (2)

1. Вакуумный конический реактор для химического осаждения из газовой фазы покрытия на порошок в псевдоожиженном слое с раздельным вводом псевдоожижающего газа и реагента, содержащий крышку, нижний патрубок ввода псевдоожижающего газа, сопло, имеющее водяную рубашку и проходящее через крышку реактора, и патрубок выхода газов, отличающийся тем, что указанный конический реактор выполнен с углом раскрытия вверх 25-40° с возможностью обогрева внешней резистивной электропечью и дополнительно содержит верхний патрубок для откачки упомянутого реактора и обеспечения в нем проточного режима, а нижний патрубок ввода псевдоожижающего газа выполнен с возможностью выгрузки покрытого порошка, причем указанное сопло выполнено с возможностью соединения с испарителем, имеющим водяную рубашку и обеспечивающим испарение реагента, или с возможностью соединения с баллоном с указанным реагентом, и при этом упомянутое сопло выполнено с возможностью ввода реагента сверху по отношению к верхней границе псевдоожиженного слоя частиц порошка с обеспечением в процессе химического осаждения из газовой фазы общего давления над упомянутым слоем 1-103 Па. 1. A vacuum conical reactor for chemical vapor deposition of a coating onto a powder in a fluidized bed with separate input of fluidizing gas and reagent, containing a lid, a lower fluidizing gas inlet pipe, a nozzle having a water jacket and passing through the reactor cover, and a gas outlet pipe, characterized in that the said conical reactor is made with an upward opening angle of 25-40° with the possibility of heating by an external resistive electric furnace and additionally contains an upper pipe for pumping out the said reactor and ensuring flow-through mode in it, and a lower pipe for introducing fluidizing gas is made with the possibility of unloading the coated powder , wherein said nozzle is configured to be connected to an evaporator having a water jacket and providing evaporation of the reagent, or to be connected to a cylinder with said reagent, and wherein said nozzle is configured to introduce the reagent from above relative to the upper boundary of the fluidized layer of powder particles with ensuring, during the process of chemical vapor deposition, a total pressure above the said layer of 1-10 3 Pa. 2. Реактор по п.1, отличающийся тем, что он выполнен с обеспечением упомянутого общего давления 10-100 Па.2. The reactor according to claim 1, characterized in that it is designed to provide the said total pressure of 10-100 Pa.
RU2023100173A 2023-01-09 Reactor for particle coating in fluidized bed using chemical vapor deposition RU2807819C9 (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2807819C1 true RU2807819C1 (en) 2023-11-21
RU2807819C9 RU2807819C9 (en) 2023-12-15

Family

ID=

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4056641A (en) * 1973-08-27 1977-11-01 Hobeg Hochtemperaturreaktor-Brennelement G.M.B.H. Process and apparatus for coating fuel fertile or absorber material containing particles for high temperature fuel elements
WO1994028192A1 (en) * 1993-06-01 1994-12-08 Advanced Ceramics Corporation Fluidized bed reactor arrangement and method for forming a metal carbide coating on a substrate containing graphite or carbon
US9404177B2 (en) * 2014-08-18 2016-08-02 Rec Silicon Inc Obstructing member for a fluidized bed reactor
RU2728343C1 (en) * 2016-09-16 2020-07-29 Пикосан Ой Coating on particles by atomic layer deposition
RU2741556C1 (en) * 2020-07-20 2021-01-26 Пикосан Ой Precipitation reactor for coating particles and corresponding method
RU2747204C1 (en) * 2020-05-28 2021-04-29 Общество с ограниченной ответственностью "Имхотеп" Installation for application of metal coatings on powder materials

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4056641A (en) * 1973-08-27 1977-11-01 Hobeg Hochtemperaturreaktor-Brennelement G.M.B.H. Process and apparatus for coating fuel fertile or absorber material containing particles for high temperature fuel elements
WO1994028192A1 (en) * 1993-06-01 1994-12-08 Advanced Ceramics Corporation Fluidized bed reactor arrangement and method for forming a metal carbide coating on a substrate containing graphite or carbon
US9404177B2 (en) * 2014-08-18 2016-08-02 Rec Silicon Inc Obstructing member for a fluidized bed reactor
RU2728343C1 (en) * 2016-09-16 2020-07-29 Пикосан Ой Coating on particles by atomic layer deposition
RU2747204C1 (en) * 2020-05-28 2021-04-29 Общество с ограниченной ответственностью "Имхотеп" Installation for application of metal coatings on powder materials
RU2741556C1 (en) * 2020-07-20 2021-01-26 Пикосан Ой Precipitation reactor for coating particles and corresponding method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Vahlas et al. Principles and applications of CVD powder technology
US4746547A (en) Method and apparatus for circulating bed coater
Longrie et al. Reactor concepts for atomic layer deposition on agitated particles: A review
RU2600042C2 (en) Application of coating on fine particles using atomic deposition unit
US7632355B2 (en) Apparatus and method of treating fine powders
US9845532B2 (en) Apparatus and process for atomic or molecular layer deposition onto particles during pneumatic transport
US5198029A (en) Apparatus for coating small solids
EP1936006B1 (en) Pressure swing CVI/CVD
US4650657A (en) Method for making carbonaceous materials
US8343583B2 (en) Method for vaporizing non-gaseous precursor in a fluidized bed
KR102647546B1 (en) Solids container and solids product having solids filled in the solids container
US4990371A (en) Process for coating small solids
US4767737A (en) Method for making carbonaceous materials
JP2001115263A (en) Bubbler having two frits
US5498442A (en) Fluidized bed reactor and method for forming a metal carbide coating on a substrate containing graphite or carbon
RU2807819C1 (en) Reactor for particle coating in fluidized bed using chemical vapor deposition
RU2807819C9 (en) Reactor for particle coating in fluidized bed using chemical vapor deposition
TW201246290A (en) Methods and apparatus for the production of high purity silicon
Wood et al. Coating particles by chemical vapor deposition in fluidized bed reactors
Abyzov Chemical vapor deposition from metal (Cr, Mo, W) carbonyls in a conical spouted bed vacuum reactor with a downflow reactant feeding
US3399980A (en) Metallic carbides and a process of producing the same
US4890574A (en) Internal reactor for chemical vapor deposition
CN114269466B (en) Fluidized bed reactor system allowing particle sampling during ongoing reactions
US11802336B2 (en) Apparatus for fluidized-bed chemical vapour deposition
Sathiyamoorthy Plasma spouted/fluidized bed for materials processing