RU2782512C1 - Chamber for charged material transfer, method for manufacture of such a chamber and ion detection node containing such a chamber - Google Patents
Chamber for charged material transfer, method for manufacture of such a chamber and ion detection node containing such a chamber Download PDFInfo
- Publication number
- RU2782512C1 RU2782512C1 RU2019110729A RU2019110729A RU2782512C1 RU 2782512 C1 RU2782512 C1 RU 2782512C1 RU 2019110729 A RU2019110729 A RU 2019110729A RU 2019110729 A RU2019110729 A RU 2019110729A RU 2782512 C1 RU2782512 C1 RU 2782512C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- tube
- chamber
- resistive track
- resistive
- material transfer
- Prior art date
Links
- 239000002801 charged material Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 title claims description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 18
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 7
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 53
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000003570 air Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 6
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 5
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000000951 ion mobility spectrometry-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000001871 ion mobility spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N AI2O3 Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000001736 Capillaries Anatomy 0.000 description 1
- 210000002370 ICC Anatomy 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N Silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N Tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- LXQXZNRPTYVCNG-YPZZEJLDSA-N americium-241 Chemical compound [241Am] LXQXZNRPTYVCNG-YPZZEJLDSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 description 1
- -1 carbide Chemical compound 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 210000004027 cells Anatomy 0.000 description 1
- 230000001413 cellular Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drugs Drugs 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium(0) Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003317 industrial substance Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006011 modification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 230000003533 narcotic Effects 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-RNFDNDRNSA-N nickel-63 Chemical compound [63Ni] PXHVJJICTQNCMI-RNFDNDRNSA-N 0.000 description 1
- TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N nitride(3-) Chemical compound [N-3] TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic Effects 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003595 spectral Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000002588 toxic Effects 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
[0001] Приоритет настоящей заявки испрашивается по дате подачи предварительной заявки на патент США № 61/802928, поданной 18 марта 2013 года, озаглавленной "Спектрометр на Основе Анализа Подвижности Ионов (IMS) с Камерой Переноса Заряженных Материалов", которая включена в настоящий документ в качестве ссылки в полном объеме; и по дате подачи предварительной заявки на патент США № 61/860773, поданной 31 июля 2013 года, озаглавленной "Спектрометр на Основе Анализа Подвижности Ионов (IMS) с Камерой Переноса Заряженных Материалов".[0001] Priority of this application is claimed by the filing date of U.S. Provisional Application No. 61/802,928, filed March 18, 2013, entitled "Ion Mobility Analysis Spectrometer (IMS) with Charged Material Transfer Chamber", which is incorporated herein in as reference in its entirety; and on the filing date of U.S. Provisional Application No. 61/860773, filed July 31, 2013, entitled "Ion Mobility Based Spectrometer (IMS) with Charged Material Transfer Chamber".
ОПИСАНИЕ УРОВНЯ ТЕХНИКИDESCRIPTION OF THE PRIOR ART
[0002] Спектрометрия на основе анализа подвижности ионов относится к аналитической методике, которая может быть использована для разделения и идентификации материалов ионизированного материала, таких как молекул и атомов. Ионизированный материал может быть идентифицирован в газовой фазе на основе подвижности в буферном газе-носителе, подверженном воздействию электрического поля. Таким образом, спектрометр на основе анализа подвижности ионов (IMS) может определить материал из представляющего интерес образца путем ионизации материала и измерения времени, которое понадобится образовавшимся ионам, чтобы достичь детектора. Например, IMS-детектор использует камеру для переноса ионов, в которой ионизированные материалы переносятся электрическим полем от входа в камеру до выхода из камеры. Время пролета иона связано с его подвижностью, которая связана с массой и геометрией материала, который был ионизирован. Выход IMS-детектора может быть визуально представлен в виде спектра высоты пика в зависимости от времени дрейфа. В некоторых случаях IMS-детектирование осуществляют при повышенной температуре (например, выше ста градусов по Цельсию (+ 100°С)). В других случаях IMS-детектирование может быть выполнено без нагрева. IMS-детектирование может быть использовано в военных и охранных целях, например, для детектирования наркотиков, взрывчатых веществ, и тому подобное. IMS-детектирование может быть также использовано в лабораторных аналитических приложениях, и вместе с дополняющими способами детектирования, такими как масс-спектрометрия, жидкостная хроматография, и тому подобное. Многосекторные камеры для переноса материала часто страдают от ограничений, в том числе высокой стоимости, сложной сборки, частого и обременительного технического обслуживания и проблем, связанных с надежностью. Другие существующие цельные камеры, основанные на стеклянной или керамической трубке либо с непрерывным проводящим корпусом, либо с внутренним непрерывным проводящим покрытием, имеют неоднородное и/или нестабильное сопротивление, которое может негативно влиять на качество детектирования.[0002] Ion mobility spectrometry refers to an analytical technique that can be used to separate and identify materials of ionized material, such as molecules and atoms. Ionized material can be identified in the gas phase based on mobility in a buffer carrier gas subjected to an electric field. Thus, an ion mobility spectrometer (IMS) can detect material from a sample of interest by ionizing the material and measuring the time it takes for the generated ions to reach the detector. For example, an IMS detector uses an ion transport chamber in which ionized materials are carried by an electric field from entering the chamber to exiting the chamber. The time of flight of an ion is related to its mobility, which is related to the mass and geometry of the material that has been ionized. The output of an IMS detector can be visualized as a spectrum of peak height versus drift time. In some cases, IMS detection is carried out at an elevated temperature (for example, above one hundred degrees Celsius (+ 100°C)). In other cases, IMS detection can be performed without heating. IMS detection can be used for military and security purposes, such as detecting drugs, explosives, and the like. IMS detection can also be used in laboratory analytical applications, and in conjunction with complementary detection methods such as mass spectrometry, liquid chromatography, and the like. Multi-sector material transfer chambers often suffer from limitations, including high cost, complex assembly, frequent and cumbersome maintenance, and reliability issues. Other existing one-piece chambers based on glass or ceramic tubes, either with a continuous conductive body or with an internal continuous conductive coating, have non-uniform and/or unstable resistance, which can adversely affect the quality of detection.
СУЩНОСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯSUMMARY OF THE INVENTION
[0003] Описан узел детектирования ионов, который содержит камеру переноса заряженного материала (например, используемую для областей ионизации/реакции и/или дрейфа), приемный узел и коллекторный узел. Камера переноса заряженного материала выполнена по существу из непроводящего материала и/или полупроводящего материала. Структурированная резистивная дорожка нанесена на одну или несколько внутренних поверхностей или внешних поверхностей камеры переноса заряженного материала. Структурированная резистивная дорожка выполнена соединенной с источником электрической энергии. Приемный узел и коллекторный узел находятся в проточном сообщении с камерой переноса заряженного материала. Приемный узел содержит впускное отверстие для приема образца, область реакции для ионизации образца, и затвор для управления ведением ионизированного образца в камеру переноса заряженного материала. Коллекторный узел содержит коллекторную пластину для сбора ионизированного образца после того, как ионизированный образец прошел через камеру переноса заряженного материала.[0003] An ion detection assembly is described that includes a charged material transfer chamber (eg, used for ionization/reaction and/or drift regions), a receiving assembly, and a collector assembly. The charged material transfer chamber is made of a substantially non-conductive material and/or a semi-conductive material. The structured resistive track is applied to one or more inner surfaces or outer surfaces of the charged material transfer chamber. The structured resistive track is connected to a source of electrical energy. The receiving unit and the collector unit are in fluid communication with the charged material transfer chamber. The receiving unit includes an inlet for receiving a sample, a reaction area for ionizing the sample, and a shutter for controlling the introduction of the ionized sample into the charged material transfer chamber. The collector assembly includes a collector plate for collecting the ionized sample after the ionized sample has passed through the charged material transfer chamber.
[0004] Раздел «Сущность изобретения» представлен для введения выбора концепций в упрощенной форме, которые дополнительно описаны ниже в подробном описании. Сущность изобретения не предназначена для определения ключевых или существенных признаков заявленного объекта изобретения, и также не предназначена для использования в качестве помощи в определении объема заявленного объекта изобретения.[0004] The Summary section is provided to introduce a selection of concepts in a simplified form, which are further described below in the Detailed Description. The Summary is not intended to define key or essential features of the claimed subject matter, nor is it intended to be used as an aid in determining the scope of the claimed subject matter.
КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
[0005] Подробное описание дано со ссылкой на прилагаемые чертежи. Использование одного и того же номера позиций в различных случаях в описании и на чертежах может указывать на подобные или идентичные элементы.[0005] A detailed description is given with reference to the accompanying drawings. The use of the same reference number on different occasions in the description and drawings may indicate similar or identical elements.
[0006] Фиг.1 изображает схематическую иллюстрацию IMS-системы, которая содержит дрейфовую камеру со структурированной резистивной дорожкой, нанесенной на внутреннюю поверхность дрейфовой камеры, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения.[0006] FIG. 1 is a schematic illustration of an IMS system that includes a drift chamber with a structured resistive track applied to the inner surface of the drift chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention.
[0007] Фиг.2 изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий дрейфовую камеру со структурированной резистивной дорожкой, нанесенной на внутреннюю поверхность дрейфовой камеры, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения.[0007] FIG. 2 is a perspective partial sectional view illustrating a drift chamber with a structured resistive track applied to the inner surface of the drift chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention.
[0008] Фиг.3 изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий дрейфовую камеру со спиральной резистивной дорожкой, нанесенной на внутреннюю поверхность дрейфовой камеры, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, причем части дрейфовой камеры показаны пунктиром, чтобы проиллюстрировать спиральный характер резистивной дорожки.[0008] FIG. 3 is a perspective partial sectional view illustrating a drift chamber with a helical resistive track applied to the interior surface of the drift chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention, with portions of the drift chamber shown in dotted lines to illustrate the helical nature of the resistive track. .
[0009] Фиг. изображает схематическое изображение структуры для резистивной дорожки, нанесенной на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, такой как дрейфовая камера, показанная на Фиг.2, причем резистивная дорожка содержит несколько витков на более чем двести семьдесят градусов (270°), ориентированных по меньшей мере по существу перпендикулярно продольной оси камеры переноса заряженного материала, и причем смежные витки резистивной дорожки соединены друг с другом последовательно посредством перемычек, осажденных на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения.[0009] FIG. depicts a schematic representation of the structure for a resistive track deposited on the inner surface of a charged material transfer chamber, such as the drift chamber shown in FIG. substantially perpendicular to the longitudinal axis of the charged material transfer chamber, and wherein adjacent turns of the resistive track are connected to each other in series by bridges deposited on the inner surface of the charged material transfer chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention.
[0010] Фиг.5 изображает схематическое изображение структуры для резистивной дорожки, нанесенной на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, такой как дрейфовая камера, показанная на Фиг.2, причем резистивная дорожка содержит несколько витков меньше чем на двести семьдесят градусов (270°), ориентированных по меньшей мере по существу перпендикулярно продольной оси камеры переноса заряженного материала, и причем смежные витки резистивной дорожки соединены друг с другом последовательно посредством перемычек, осажденных на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения.[0010] Figure 5 is a schematic diagram of a structure for a resistive a track deposited on the inner surface of a charged material transfer chamber, such as the drift chamber shown in FIG. of the charged material, and moreover, adjacent turns of the resistive track are connected to each other in series by jumpers deposited on the inner surface of the charged material transfer chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention.
[0011] Фиг.6 изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала со структурированной резистивной дорожкой, нанесенной на внешнюю поверхность камеры переноса заряженного материала и/или со структурированной резистивной дорожкой, нанесенной на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения.[0011] FIG. 6 is a perspective partial sectional view illustrating a charged material transfer chamber with a structured resistive track applied to the outer surface of the charged material transfer chamber and/or with a structured resistive track applied to the inside surface of the charged material transfer chamber, in in accordance with an exemplary embodiment of the invention.
[0012] Фиг.7 изображает блок-схему, иллюстрирующую способ изготовления камеры переноса заряженного материала со структурированной резистивной дорожкой, нанесенной на внутреннюю поверхность и/или на внешнюю поверхность камеры переноса заряженного материала, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения.[0012] FIG. 7 is a flowchart illustrating a method for manufacturing a charged material transfer chamber with a patterned resistive track applied to the inner surface and/or the outer surface of the charged material transfer chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention.
[0013] Фиг.8 изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала со спиральной резистивной дорожкой, которую наносят на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, при этом подложку продвигают в продольном направлении с первой скоростью, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, и причем часть подложки удалена для иллюстрации спиральной конфигурации резистивной дорожки.[0013] FIG. 8 is a perspective partial sectional view illustrating a charged material transfer chamber with a helical resistive track that is applied to the inside surface of the charged material transfer chamber while the substrate is advanced in the longitudinal direction at a first speed, in accordance with an illustrative embodiment. implementation of the invention, and wherein part of the substrate is removed to illustrate the helical configuration of the resistive track.
[0014] Фиг.9 изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала со спиральной резистивной дорожкой, которую наносят на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, при этом подложку продвигают в продольном направлении со второй скоростью, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, причем часть подложки удалена для иллюстрации спиральной конфигурации резистивной дорожки.[0014] FIG. 9 is a partial sectional perspective view illustrating a charged material transfer chamber with a helical resistive track being applied to the inside surface of the charged material transfer chamber while the substrate is advanced in the longitudinal direction at a second speed, in accordance with the exemplary embodiment. embodiment of the invention, with part of the substrate removed to illustrate the helical configuration of the resistive track.
[0015] Фиг.10 изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала с несколькими спиральными резистивными дорожками, осажденными на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, и причем часть подложки удалена для иллюстрации спиральной конфигурации резистивных дорожек.[0015] FIG. 10 is a perspective partial sectional view illustrating a charged material transfer chamber with multiple helical resistive tracks deposited on the inside surface of the charged material transfer chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention, with a portion of the substrate removed to illustrate the helical resistive track configurations.
[0016] Фиг.11А изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала с несколькими структурированными резистивными дорожками, осажденными на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, и причем часть подложки удалена для иллюстрации структур резистивных дорожек.[0016] FIG. 11A is a partial sectional perspective view illustrating a charged material transfer chamber with multiple patterned resistive tracks deposited on the inside surface of the charged material transfer chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention, with a portion of the substrate removed to illustrate the structures. resistive tracks.
[0017] Фиг.11В изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала с несколькими структурированными резистивными дорожками, осажденными в продольном направлении на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, и причем часть подложки удалена для иллюстрации структур резистивных дорожек.[0017] FIG. 11B is a perspective partial sectional view illustrating a charged material transfer chamber with multiple patterned resistive tracks longitudinally deposited on the inside surface of the charged material transfer chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention, with a portion of the substrate removed. to illustrate the structures of resistive tracks.
[0018] Фиг.12 изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала со структурированной резистивной дорожкой, которую наносят на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, при этом подложку продвигают в продольном направлении с двумя разными скоростями, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, и причем часть подложки удалена для иллюстрации структуры резистивной дорожки.[0018] FIG. 12 is a partial sectional perspective view illustrating a charged material transfer chamber with a patterned resistive track being applied to the inside surface of the charged material transfer chamber while the substrate is advanced in the longitudinal direction at two different speeds, in accordance with the illustrative embodiment of the invention, and moreover, part of the substrate is removed to illustrate the structure of the resistive track.
[0019] Фиг.13А изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала со структурированной резистивной дорожкой, которую наносят на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, при этом подложку продвигают в продольном направлении с двумя разными скоростями, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, и причем часть подложки удалена для иллюстрации структуры резистивной дорожки.[0019] FIG. 13A is a partial sectional perspective view illustrating a charged material transfer chamber with a patterned resistive track being applied to the inside surface of the charged material transfer chamber while the substrate is advanced in the longitudinal direction at two different speeds, in accordance with the illustrative embodiment of the invention, and moreover, part of the substrate is removed to illustrate the structure of the resistive track.
[0020] Фиг.13B изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала со структурированной резистивной дорожкой, которую наносят на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, при этом подложку продвигают в продольном направлении с двумя разными скоростями, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, и причем часть подложки удалена для иллюстрации структуры резистивной дорожки.[0020] FIG. 13B is a partial sectional perspective view illustrating a charged material transfer chamber with a patterned resistive track being applied to the inside surface of the charged material transfer chamber while the substrate is advanced in the longitudinal direction at two different speeds, in accordance with the illustrative embodiment of the invention, and moreover, part of the substrate is removed to illustrate the structure of the resistive track.
[0021] Фиг.14A изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала со структурированной резистивной дорожкой, которую наносят на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, при этом подложку продвигают в продольном направлении с двумя разными скоростями, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, и причем часть подложки удалена для иллюстрации структуры резистивной дорожки.[0021] FIG. 14A is a partial sectional perspective view illustrating a charge material transfer chamber with a patterned resistive track being applied to the inside surface of the charge material transfer chamber while the substrate is advanced in the longitudinal direction at two different speeds, in accordance with the illustrative embodiment of the invention, and moreover, part of the substrate is removed to illustrate the structure of the resistive track.
[0022] Фиг.14В изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала со структурированной резистивной дорожкой, которую наносят на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала при этом подложку продвигают в продольном направлении с двумя разными скоростями, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, и причем часть подложки удалена для иллюстрации структуры резистивной дорожки.[0022] FIG. 14B is a partially sectional perspective view illustrating a charge material transfer chamber with a structured resistive track being applied to the inside surface of the charge material transfer chamber while the substrate is advanced in the longitudinal direction at two different speeds, in accordance with the exemplary embodiment. implementation of the invention, and moreover, part of the substrate is removed to illustrate the structure of the resistive track.
[0023] Фиг.15A изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала со вторичной спиральной резистивной дорожкой, нанесенной на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, причем вторичная спиральная резистивная дорожка нанесена на первичное резистивное покрытие, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, при этом часть подложки удалена для иллюстрации структуры резистивной дорожки.[0023] FIG. 15A is a partial sectional perspective view illustrating a charged material transfer chamber with a secondary helical resistive track deposited on the inside surface of the charged material transfer chamber, wherein the secondary helical resistive track is deposited on the primary resistive coating, in accordance with the exemplary embodiment. implementation of the invention, with part of the substrate removed to illustrate the structure of the resistive track.
[0024] Фиг.15В изображает вид с торца в разрезе камеры переноса заряженного материала, изображенной на Фиг.15А.[0024] FIG. 15B is a sectional end view of the charged material transfer chamber of FIG. 15A.
[0025] Фиг.16 изображает частичный вид в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала с структурированной резистивной дорожкой, нанесенной на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, причем часть подложки удалена для иллюстрации структуры резистивной дорожки.[0025] FIG. 16 is a partial perspective view illustrating a charged material transfer chamber with a patterned resistive track applied to the inside surface of the charged material transfer chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention, with a portion of the substrate removed to illustrate the structure of the resistive track.
[0026] Фиг.17 изображает вид в частичном разрезе в аксонометрии, иллюстрирующий камеру переноса заряженного материала с рядом концентрических резистивных дорожек, нанесенных на внутреннюю поверхность камеры переноса заряженного материала и соединенных продольной резистивной дорожкой, причем продольная резистивная дорожка находится в электрическом контакте с противоположными концами камеры переноса заряженного материала, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, и причем часть подложки удалена для иллюстрации структур резистивных дорожек.[0026] Fig. 17 is a partial sectional perspective view illustrating a charged material transfer chamber with a number of concentric resistive tracks deposited on the inner surface of the charged material transfer chamber and connected by a longitudinal resistive track, the longitudinal resistive track being in electrical contact with opposite ends. a charged material transfer chamber, in accordance with an exemplary embodiment of the invention, and wherein a portion of the substrate has been removed to illustrate resistive track structures.
[0027] Фиг.18 изображает вид в аксонометрии камеры переноса заряженного материала, изображенной на Фиг.17.[0027] Fig. 18 is a perspective view of the charged material transfer chamber shown in Fig. 17.
[0028] Фиг.19 изображает вид сбоку в разрезе камеры переноса заряженного материала, изображенной на Фиг.17.[0028] FIG. 19 is a sectional side view of the charged material transfer chamber of FIG. 17. FIG.
[0029] Фиг.20 изображает схематический вид нескольких резистивных дорожек, соединенных продольной резистивной дорожкой, в соответствии с иллюстративным вариантом выполнения изобретения, дополнительно иллюстрирующий сопротивления нескольких резистивных дорожек и продольной резистивной дорожки.[0029] FIG. 20 is a schematic view of multiple resistive tracks connected by a longitudinal resistive track, in accordance with an illustrative embodiment of the invention, further illustrating the resistances of the multiple resistive tracks and the longitudinal resistive track.
ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕDETAILED DESCRIPTION
[0030] Фиг.1 изображает спектрометрическую систему, такую как Спектрометр на Основе Анализа Подвижности Ионов (IMS) 100. Несмотря на то, что в настоящем документе описаны методики IMS-детектирования, следует отметить, что большое количество различных спектрометров могут использовать преимущества конструкций, методик и подходов настоящего изобретения. Настоящее изобретения предназначено охватывать и включать все такие модификации. IMS-системы 100 могут содержать спектрометрическое оборудование, которое использует способы детектирования без нагрева (например, при температуре окружающей среды (или комнатной температуре)). Например, IMS-система 100 может быть выполнена в виде легкого детектора наличия взрывчатых веществ. Тем не менее, следует отметить, что детектор наличия взрывчатых веществ приведен исключительно в виде примера и не предназначен ограничивать настоящее изобретение. Таким образом, методики, приведенные в настоящем изобретении, могут быть использованы с другими спектрометрическими конфигурациями. Например, IMS-система 100 может быть выполнена в виде химического детектора. Кроме того, в других вариантах выполнения IMS-система 100 может использовать методы детектирования с нагревом. Например, IMS-система 100 может быть выполнена в виде слегка нагреваемого детектора, полностью нагреваемого детектора, и так далее. IMS-система 100 может содержать детекторное устройство, например, детектор 102 проб, имеющий порт для приема проб для введения материала (например, частиц) представляющей интерес пробы в реакционную область/камеру. Например, детектор 102 проб может иметь впускное отверстие 104, где предназначенный для отбора воздух поступает в детектор 102 проб.[0030] FIG. 1 depicts a spectrometric system such as the Ion Mobility Analysis Spectrometer (IMS) 100. Although IMS detection techniques are described herein, it should be noted that a large number of different spectrometers can take advantage of designs that techniques and approaches of the present invention. The present invention is intended to cover and include all such modifications.
[0031] В некоторых реализациях детектор 102 проб может иметь другое устройство, например газовый хроматограф (не показан), подсоединенный последовательно к впускному отверстию 104. Например, IMS-система 100 может быть выполнена для газовой хроматографии-спектрометрии подвижности ионов (GC-IMS), причем детектор 102 проб соединен с газовым хроматографом (GC) для общего введения пробы (например, когда капиллярная колонна GC соединена с детектором 102 проб, причем молекулы ионизируются, когда они поступают из GC). Тем не менее, газовый хроматограф приведен здесь исключительно в виде примера и не предназначен ограничивать настоящее изобретение. Таким образом, детектор 102 проб может быть использован с другими устройствами детектирования, включая, но не обязательно ограничиваясь следующими: жидкостная хроматография высокого давления (ЖХВД), спектрометрия на основе анализа подвижности ионов - масс-спектрометрия (IMS-MS) (например, с квадрупольными, времяпролетными и/или на основе преобразования Фурье методиками циклотронного резонанса), жидкостная хроматография - спектрометрия на основе анализа подвижности ионов - масс-спектрометрия (LC-MS-IMS), и так далее.[0031] In some implementations,
[0032 Как показано на Фиг.2, впускное отверстие 104 ограничено узлом 106 детектирования ионов. Узел 106 детектирования ионов содержит приемный узел 108, реакционную/ионизационную камеру (например, реакционную камеру 132), затвор 134, дрейфовую камеру (например, дрейфовую трубку 110), и коллекторный узел 112. Дрейфовая трубка 110 и/или реакционная камера 132 содержит камеру (например, трубку 114), имеющую одну или несколько стенок, выполненных по существу из непроводящего (например, изолирующего) материала, включающего, но не обязательно ограниченного этим: керамический материал (например, каолинит, оксид алюминия, кристаллический оксид, нитрид, карбид, карбид кремния, карбид вольфрама и так далее), стекло, фарфор, полимерный и/или композитный материал. Тем не менее, эти материалы приведены исключительно в виде примера и не предназначены ограничивать настоящее изобретение. Таким образом, в других вариантах выполнения трубка 114 может быть выполнена из других материалов. Например, трубка 114 изготовлена из полупроводникового материала, который может обеспечивать более однородное электрическое поле внутри трубки 114 при использовании вместе со структурированной резистивной дорожкой, нанесенной на внутреннюю сторону трубки 114 (например, по отношению к трубке, изготовленной из изолирующего материала). В вариантах выполнения изобретения как дрейфовая камера, так и реакционная/ионизационная камера выполнены в виде камеры переноса заряженного материала, содержащей трубку 114, как описано в настоящем документе. Например, в некоторых вариантах выполнения дрейфовая трубка 110 содержит трубку 114. В других вариантах выполнения реакционная камера 132 содержит трубку 114. В других вариантах выполнения как дрейфовая трубка 110, так и реакционная камера 132 содержат трубку 114 (например, каждая из них содержит отдельную трубку 114, обе используют одну и ту же трубку 114, каждая из них использует часть одной и той же трубки 114, и так далее). Тем не менее, следует отметить, что дрейфовые камеры и реакционные/ионизационные камеры приведены исключительно в виде примера и не предназначены ограничивать настоящее изобретение. В других вариантах выполнения камера переноса заряженного материала, содержащая трубку 114, выполнена по-другому.[0032 As shown in Fig.2, the
[0033] Трубка 114 имеет внутреннюю поверхность 161 и внешнюю поверхность 181. Любой или оба конца трубки 114 и/или один или несколько дрейфовых сегментов трубки 114 открыты и обеспечивают возможность прохождения материала (например, пара, частиц и т.п.) через трубку 114. Структурированная резистивная дорожка 120 нанесена на внутреннюю поверхность 116 и/или внешнюю поверхность 118 трубки 114. Например, резистивная дорожка 120 отпечатана на внутреннюю поверхность 116 трубки 114 и/или внешнюю поверхность 118 трубки 114 с помощью проводящих чернил, проводящей пасты, вакуумным осаждением, электролитическим осаждением, химической обработкой, и тому подобным. В некоторых случаях дрейфовая трубка 110 содержит более одной структурированной резистивной дорожки, например, первую резистивную дорожку 120, отпечатанную на внутренней поверхности 116 трубки 114, и вторую резистивную дорожку 120, отпечатанную на внешней поверхности 118 трубки 114. Структурированная резистивная дорожка обеспечивает электропроводность вдоль трубки 114, в том числе электропроводность на поверхности трубки 114 (например, структурированная резистивная дорожка, нанесенная вдоль внутренней поверхности 161 и/или внешней поверхности 118 трубки 114). Структурированная резистивная дорожка может быть отпечатана в различных областях узла 106 детектирования ионов, включая, но не обязательно ограничиваясь этим: в области впускного отверстия, в реакционной области и тому подобное.[0033]
[0034] Как описано в настоящем документе, резистивные дорожки 120 обеспечивают небольшие активные внутренние площади поверхности (например, по отношению к типичной составной дрейфовой трубке). Кроме того, поверхность трубки 114, на которой расположена одна или несколько резистивных дорожек 120, по меньшей мере по существу свободна от зазоров и/или полостей, в которых могут накапливаться загрязнения, которые, в противном случае, могут выступать и/или усложнять техническое обслуживание трубки 114, такое как циклы очистки и тому подобное. Резистивные дорожки 120 могут обеспечивать непрерывную, последовательную и/или по существу однородную температуру и/или электрическое поле вдоль длины трубки 114. В вариантах выполнения изобретения геометрия резистивной дорожки 120 обеспечивает более высокое полное сопротивление (например, как применяется с высоковольтными источниками питания) с проводящим материалом дорожки, который имеет сравнительно меньшее удельное сопротивление и может обеспечить лучшую стабильность поверхностного сопротивления в течение долгого времени. Кроме того, в соответствии с настоящим изобретением, конфигурации, описанные в настоящем документе, могут уменьшить и/или свести к минимуму электрические поля в направлении, обычно перпендикулярном продольной оси трубки 114, одновременно уменьшая и/или сводя к минимуму проникновение внешних электрических полей внутрь трубки 114.[0034] As described herein,
[0035] Как показано, дрейфовая трубка 110 может представлять собой цельную конструкцию, которая может обеспечивать более высокую надежность, чем, например, типичная конфигурация составной дрейфовой трубки. Кроме того, дрейфовая трубка 110 не обязательно нуждается во внешнем корпусе, потенциально снижая, тем самым, затраты, связанные с производством и/или техническим обслуживанием, например, системы 100. В иллюстративной реализации дрейфовая трубка 110 не обязательно нуждается во внешнем нагревательном элементе. Например, нагревательный элемент (например, одна или несколько резистивных дорожек 120) может быть нанесен на трубку 114 (например, осажден на внешней поверхности 118 трубки 114) и устанавливать управляемую (например, с подогревом) температуру трубки. Такие конфигурации могут дополнительно снизить стоимость и/или сложность изготовления системы 100, как описано в настоящем документе. В некоторых вариантах выполнения резистивная дорожка 120, нанесенная на наружную поверхность 118 трубки 114, выполнена с возможностью создания аналогичного электрического потенциала, что и резистивная дорожка 120, осажденная на внутреннюю поверхность 116 трубки 114 (например, чтобы обеспечивать улучшенную однородность электрического поля внутри трубки 114).[0035] As shown,
[0036] Как показано на Фиг.3, резистивная дорожка 120 может быть выполнена в виде спиральной резистивной дорожки с несколькими витками, нанесенными рядом друг с другом на внутренней поверхности 116 трубки 114. Как используется в настоящем документе, термин «виток» связан с частичным или полным движением по окружности сегмента структурированной резистивной дорожки, относительно внутренней поверхности 116 трубки 114 и/или внешней поверхности 118 трубки 114. В некоторых реализациях виток может быть ориентирован под углом от перпендикулярного направления, определенного относительно продольной оси 126 трубки 114 (например, в случае спиральных резистивных дорожек 120, показанных на Фиг.3 и 6). Кроме того, виток может быть ориентирован в целом (например, по меньшей мере по существу) перпендикулярно продольной оси 126 трубки 114. Например, как показано на Фиг.4 и 5, резистивные дорожки 120 могут быть выполнены с несколькими витками, нанесенными рядом друг с другом на внутренней поверхности 116 трубки 114, причем один или несколько витков ориентированы по меньшей мере по существу перпендикулярно продольной оси 126 трубки 114. Виток может быть связан с полным движением по окружности сегмента структурированной резистивной дорожки относительно внутренней поверхности 116 трубки 114 (например, как показано на Фиг.3) и/или наружной поверхности 118 трубки 114 (например, как показано на Фиг.6). Виток также может быть связан с частичным движением по окружности сегмента структурированной резистивной дорожки относительно внутренней поверхности 116 трубки 114 (например, как показано на Фиг.4 с витками, проходящими более чем на двести семьдесят градусов (270°), но меньше чем на триста шестьдесят градусов (360°), а на Фиг.5 с витками, проходящими менее чем на двести семьдесят градусов (270°)).[0036] As shown in Fig. 3, the
[0037] В вариантах выполнения изобретения число витков может меняться (например, в зависимости от геометрии конкретной камеры, требований рабочего напряжения, требуемой равномерности генерируемого электрического поля, и т.п.). Например, зазор между смежными витками резистивной дорожки 120 может быть ограничен напряжением пробоя. Кроме того, ширина резистивной дорожки 120 может быть определена на основании угла между резистивной дорожкой 120 и продольной осью 126 трубки 114. Например, резистивная дорожка 120 с большей шириной может иметь больший угол между резистивной дорожкой 120 и продольной осью 126, и может создавать большее отклонение траекторий материала. Таким образом, зазоры между витками / кольцами или их перекрывающимися группами могут быть выбраны на основе минимального расстояния, чтобы уверенно выдерживать рабочее напряжение, а ширины витков / колец или их перекрывающихся групп могут быть выбраны на основании максимальной ширины, способной поддерживать по существу перпендикулярность витков / колец или их перекрывающихся групп относительно оси камеры. В одной конфигурации резистивная дорожка 120 может содержать восемнадцать (18) витков. В другой конфигурации резистивная дорожка 120 может содержать тридцать шесть (36) витков. В еще одной конфигурации резистивная дорожка 120 может содержать семьдесят два (72) витка. Тем не менее, эти конфигурации проиллюстрированы исключительно в виде примера и не предназначены ограничивать настоящее изобретение. Таким образом, в других конфигурациях резистивная дорожка 120 может содержать меньше, чем восемнадцать (18) витков, от восемнадцати (18) до тридцати шести (36) витков, от тридцати шести (36) витков до семидесяти двух (72) витков, больше семидесяти двух (72) витков, и так далее.[0037] In embodiments of the invention, the number of turns may vary (eg, depending on the geometry of the particular chamber, operating voltage requirements, desired uniformity of the generated electric field, etc.). For example, the gap between adjacent turns of
[0038] В некоторых реализациях каждый виток структурированной резистивной дорожки электрически последовательно соединен с соседним витком. Например, как показано на Фиг.3, смежные витки спиральной резистивной дорожки 120 соединены друг с другом на внутренней поверхности 116 трубки 114. Со ссылкой на Фиг.4 и 5, соседние витки резистивной дорожки 120 также могут быть соединены вместе с помощью одной или нескольких перемычек 128. Как показано на Фиг.4 и 5, соседние витки резистивной дорожки 120 могут быть соединены вместе с помощью перемычек 128, осажденных на внутреннюю поверхность 116 трубки 114.[0038] In some implementations, each turn of the structured resistive track is electrically connected in series with an adjacent turn. For example, as shown in FIG. 3, adjacent turns of helical
[0039] Со ссылкой в целом на Фиг.8 - 15В, чтобы нанести различные структуры резистивной дорожки на внутренние и/или внешние поверхности непроводящей или полупроводящей трубки, может быть использован инструмент для нанесения. В вариантах выполнения изобретения относительное перемещение трубки и инструмента для нанесения может изменяться для создания различных резистивных структур. Например, как показано на Фиг.8, резистивная дорожка 120 из проводящих чернил или пленки нанесена на внутреннюю поверхность 116 и/или внешнюю поверхность 118 трубки 114 путем вращения трубки 114 с контролируемой (например, по меньшей мере по существу постоянной) скоростью, одновременно продвигая трубку 114 в продольном направлении (например, по горизонтали) относительно неподвижного, или по меньшей мере по существу неподвижного инструмента для нанесения, такого как перо 122 для нанесения чернил. Перемещение трубки 114 относительно пера 122 для нанесения чернил создает структуру на внутренней поверхности 116 и/или на внешней поверхности 118 трубки 114.[0039] Referring generally to FIGS. 8-15B, a deposition tool can be used to deposit various resistive track patterns on the inner and/or outer surfaces of a non-conductive or semi-conductive tube. In embodiments of the invention, the relative movement of the tube and application tool can be varied to create different resistive structures. For example, as shown in FIG. 8, a
[0040] Как описано в настоящем документе, термины, которые относятся к перемещению трубки 114 и/или пера 122 для нанесения чернил, такие как «вращающаяся», «продвигающаяся» и тому подобные, используются для описания относительного перемещения трубки 114 относительно пера 122 для нанесения чернил. Таким образом, в некоторых вариантах выполнения трубка 114 вращается с одновременным продвижением пера 122 для нанесения чернил. В других вариантах выполнения перо 122 для нанесения чернил вращается с одновременным продвижением трубки 114. В других вариантах выполнения как трубка 114, так и перо 122 для нанесения чернил вращается при одновременном продвижении одного или обоих из них. В других вариантах выполнения как трубка 114, так и перо 122 для нанесения чернил продвигаются при одновременном вращении одного или обоих из них. В других вариантах выполнения перо 122 для нанесения чернил вращается и продвигается, тогда как трубка 114 остается неподвижной, или по меньшей мере по существу неподвижной, и так далее.[0040] As described herein, terms that refer to the movement of
[0041] Различные скорости и/или последовательности перемещений трубки 114 и/или пера 122 для нанесения чернил используются для создания различных структур на трубке 114. Со ссылкой на Фиг.9, структурированная резистивная дорожка, содержащая непрерывное проводящее покрытие 124, формируется между противоположными концами трубки 114 при вращении трубки 114 с контролируемой скоростью, а продольное перемещение трубки 114 происходит очень медленно, по сравнению с вращательным движением трубки 114. Эта разница в относительных скоростях вращения и продольного перемещения создает плотно намотанную проводящую спираль. В некоторых вариантах выполнения смежные сегменты резистивной дорожки 120 перекрываются, в результате чего на внутренней поверхности 116 и/или на внешней поверхности 118 трубки 114 образуется непрерывное проводящее покрытие 124. Проводящие чернила и/или пленки с достаточно высоким сопротивлением могут быть нанесены в этой конфигурации для достижения заданного полного сопротивления дрейфовой трубки.[0041] Different speeds and/or sequences of movements of the
[0042] Как показано на Фиг.10, несколько спиральных резистивных дорожек 120 могут быть сформированы на трубке 114 путем переустановки инструмента для нанесения на конце трубки 114 на девяносто градусов (90°), или на другой кратный триста шестидесяти градусам (360°) угол относительно начала координат предшествующей резистивной дорожки 120 на конце трубки 114. Это методика может быть использована, чтобы создавать несколько резистивных дорожек 120 по существу параллельных друг другу. В вариантах выполнения изобретения по существу параллельные резистивные дорожки 120 используются для обеспечения большей симметрии на концах трубки 114 (например, относительно одной единственной резистивной дорожки 120).[0042] As shown in FIG. 10, multiple helical
[0043] Со ссылкой на Фиг.11А и 11B, между концами трубки 114 может быть выполнено несколько резистивных дорожек 120. Как показано на Фиг.11A, вращение трубки 114 с контролируемой (например, по меньшей мере по существу постоянной) скоростью, с продольным перемещением с относительно более высокой скоростью в первом направлении, создает между противоположными концами трубки 114 слегка изогнутую резистивную дорожку 120. Затем продольное перемещение трубки 114 во втором, противоположном, направлении используется для формирования другой последовательной и слегка параллельной резистивной дорожки 120 между противоположными концами трубки 114. Таким образом между концами трубки 114 наносят ряд в целом параллельных резистивных дорожек 120. В других вариантах выполнения параллельные резистивные дорожки 120 формируются между противоположными концами трубки 114 (например, как показано на Фиг.11В). В вариантах выполнения изобретения эти методики могут быть использованы для получения более надежного электрического соединения между концами трубки 114 (например, по сравнению с одной единственной резистивной дорожкой 120).[0043] Referring to FIGS. 11A and 11B, multiple
[0044] Как показано на Фиг.12, вместе могут быть реализованы различные структуры конфигураций дорожек, такие как структуры дорожек, показанные на Фиг.8 - 11. В этих конфигурациях вращение трубки 114 с контролируемой (например, по меньшей мере по существу постоянной) скоростью с относительно более медленным продольным перемещением в течение первого периода времени дает в результате один виток резистивной дорожки 120. Продольное перемещение трубки 114 также может быть остановлено в течение первого периода времени. За этим перемещением следует продолженное вращение трубки 114 с контролируемой скоростью с относительно более быстрым продольным перемещением для второго (например, меньшего) периода времени, в результате чего формируется одна слегка изогнутая перемычка 128. Вращение трубки 114 также может быть остановлено в течение второго периода времени, в результате чего формируется по существу линейная перемычка 128. Затем вращение трубки 114 с контролируемой скоростью, с продольным перемещением с относительно более медленной скоростью приводит к формированию другого витка резистивной дорожки 120. Опять же, это перемещение сопровождается созданием другой перемычки 128, другим витком резистивной дорожки 120, и так далее. Таким образом, чередование последовательности медленного и/или остановленного и относительно быстрого продольного перемещения трубки 114 приводит к формированию ряда витков резистивной дорожки 120, соединенных друг с другом вдоль продольной оси 126 трубки 114 с помощью перемычек 128. В некоторых вариантах выполнения коаксиальные части резистивных витков резистивной дорожки 120 наносят с помощью других способов, включая, но не обязательно ограничиваясь вакуумным осаждением, перед использованием пера 122 для нанесения чернил для нанесения одного или нескольких перемычек 128 вдоль длины трубки 114 для соединения коаксиальных частей витков и увеличения однородности полного сопротивления поперек трубки 114.[0044] As shown in FIG. 12, various track configuration structures can be implemented together, such as the track structures shown in FIGS. 8-11. In these configurations, the rotation of
[0045] Как показано на Фиг.13А и 13В, дополнительные комбинации вышеуказанных подходов могут быть реализованы в виде плотно намотанной структурированной резистивной дорожки, содержащей непрерывное проводящее покрытие 124, нанесенной при сравнительно более медленной продольной скорости, чередующейся с соединительными перемычками 128, нанесенными при сравнительно более высокой продольной скорости. На Фиг.13А изображены две непрерывно покрытые части, соединенные одной проводящей перемычкой 128. На Фиг.13В изображено несколько коротких непрерывно покрытых частей, соединенных несколькими перемычками 128. В некоторых вариантах выполнения, например, для достижения по меньшей мере по существу однородного поля, ширина непрерывно покрытой части и/или ширины зазора между непрерывно покрытой частью выполнены такими, чтобы приблизительно соответствовать конкретной структуре, например структуре, описанной со ссылкой на Фиг.12. В вариантах выполнения изобретения структурированные резистивные дорожки, изображенные на Фиг.13А и 13В, могут быть использованы для создания ступенчатого электрического поля для перемещения ионов, причем каждая перемычка 128 создает перепад в сопротивлении между соседними участками непрерывного проводящего покрытия 124. Например, за счет более высокого сопротивления перемычки 128 между соседними участками непрерывного покрытия относительно непрерывного проводящего покрытия 124 может быть создан перепад напряжения (например, из-за уменьшенной площади поперечного сечения перемычки 128 относительно непрерывного проводящего покрытия 124). Кроме того, структурированные резистивные дорожки могут быть нанесены с помощью резистивных чернил путем доставки под высоким давлением инструментом для нанесения, таким как игла из нержавеющей стали. Перемещением трубки 114 и/или инструмента для нанесения можно управлять с помощью, например, одного или несколько шаговых двигателей.[0045] As shown in FIGS. 13A and 13B, additional combinations of the above approaches can be implemented as a tightly wound patterned resistive track comprising a continuous
[0046] Со ссылкой теперь на Фиг.14А и 14B, дополнительные комбинации описанных выше подходов могут быть реализованы в виде структурированной резистивной дорожки, содержащей широко намотанные спиральные резистивные дорожки 120, которые могут быть нанесены с умеренной продольной скоростью, чередующиеся с перемычками 128. На Фиг.14А изображены две большие спиральные резистивные дорожки, соединенные с помощью перемычек 128. На Фиг.14В изображены несколько коротких спиральных резистивных дорожек, соединенных с помощью перемычек 128.[0046] With reference now to FIGS. 14A and 14B, additional combinations of the approaches described above may be implemented as a patterned resistive track comprising widely wound helical
[0047] Как показано на Фиг.15А и 15В, трубка 114 может также иметь первичное непрерывное проводящее покрытие 140, нанесенное на ее внутреннюю поверхность 116 и/или внешнюю поверхность 118, на которое может быть нанесена вторичная резистивная дорожка 120. Вторичная резистивная дорожка 120 может представлять собой спираль или любую комбинацию структур, показанных, например, на предыдущих чертежах. В этой конфигурации одна или несколько резистивных дорожек 120 могут уменьшить и/или свести к минимуму искажения электрического поля, вызванные резистивными и/или физическими дефектами однородности первичного непрерывного проводящего покрытия 140. Кроме того, первичное непрерывное проводящее покрытие 140 может уменьшить и/или минимизировать влияние внешних электрических полей на внутреннюю часть трубки 114, которая действует в качестве дрейфовой области 136. В некоторых вариантах выполнения общее сопротивление первичного непрерывного проводящего покрытия 140 по всей трубке 114 больше, чем сопротивление вторичной резистивной дорожки 120. Например, сопротивление первичного непрерывного проводящего покрытия 140 может иметь значение приблизительно пятьсот Мегом (500 МОм), а сопротивление резистивной дорожки 120 может составлять приблизительно от двадцати Мегом (20 МОм) до двухсот Мегом (200 МОм).[0047] As shown in FIGS. 15A and 15B,
[0048] Со ссылкой теперь на Фиг.16, в некоторых вариантах выполнения трубка 114 содержит структурированный резистивный слой 142, содержащий одно или несколько отверстий (например, пазов 144), ориентированных в направлении, как правило (например, по меньшей мере по существу) перпендикулярно продольной оси 126 трубки 114. В вариантах выполнения изобретения отверстия выполнены так, чтобы уменьшить или свести к минимуму радиальное электрическое поле, вызванное потенциальной электрической асимметрией, например, непрерывного слоя. В конфигурации, показанной на Фиг.16, пазы 144 чередуются в осевом направлении. Тем не менее, эта конфигурация представлена исключительно в виде примера и не предназначена ограничивать настоящее изобретение. В других вариантах выполнения пазы 144 могут иметь другую форму и/или быть направлены по-другому.[0048] Referring now to FIG. 16, in some embodiments,
[0049] В некоторых вариантах выполнения трубка 114 имеет несколько резистивных дорожек 120 (например, проводящих колец), нанесенных на ее внутреннюю поверхность 116 и/или внешнюю поверхность 118, причем резистивные дорожки 120 связаны (например, соединены) с помощью одной или нескольких продольных резистивных дорожек 146. Например, как показано на Фиг.17 - 20, резистивные дорожки 120 выполнены в виде ряда концентрических колец из резистивных чернил, нанесенных на внутреннюю поверхность 116 трубки 114. Резистивные дорожки 120 затем соединяют продольной резистивной дорожкой 146, выполненной в виде, как правило, прямой продольной дорожки из резистивных чернил, соединяющей, например, два соединителя 130, расположенных на трубке 114. Например, продольная резистивная дорожка 146 находится в электрическом контакте с металлизированными концами трубки 114. Однако, следует отметить, что концентрические кольца из резистивных чернил и в целом прямая продольная дорожка из резистивных чернил приведены исключительно в виде примера и не предназначены ограничивать настоящее изобретение. В других вариантах выполнения используются иначе выполненные резистивные дорожки 120 и/или продольные резистивные дорожки 146. Например, продольная резистивная дорожка 146 может быть слегка искривлена, быть синусоидальной, и тому подобное. Кроме того, одна или несколько резистивных дорожек 120 могут быть спиральными, или представлять собой любую комбинацию изображенных структур, как показано, например, на предшествующих чертежах.[0049] In some embodiments, the
[0050] В некоторых вариантах выполнения, удельное сопротивление чернил, составляющих концентрические кольца, больше чем (например, значительно больше чем) удельное сопротивление чернил, составляющих прямую непрерывную дорожку. Например, само по себе полное сопротивление в целом прямой продольной дорожки из резистивных чернил составляет около ста Мегом (100 МОм). Эта конфигурация может быть использована для уменьшения (например, сведения к минимуму) воздействия дополнительного параллельного сопротивления, нанесенного поперек в целом прямой продольной дорожки из резистивных чернил (например, как показано на Фиг.20). Тем не менее, это значение сопротивления приведено исключительно в виде примера и не предназначено ограничивать настоящее изобретение. В других вариантах выполнения полное сопротивление как правило прямой продольной дорожки из резистивных чернил может быть больше или меньше, чем приблизительно сто Мегом.[0050] In some embodiments, the resistivity of the ink constituting the concentric rings is greater than (eg, significantly greater than) the resistivity of the ink constituting a straight continuous track. For example, the impedance itself of a generally straight longitudinal track of resistive ink is about one hundred Megohms (100 MΩ). This configuration can be used to reduce (eg, minimize) the impact of additional parallel resistance applied across a generally straight longitudinal resistive ink track (eg, as shown in FIG. 20). However, this resistance value is provided by way of example only and is not intended to limit the present invention. In other embodiments, the impedance of the typically straight longitudinal track of resistive ink may be greater or less than about one hundred Meg.
[0051] В некоторых конфигурациях одна или несколько структурированных резистивных дорожек, нанесенных на внешнюю поверхность 118 трубки 114, электрически соединены с одной или несколькими структурированными резистивными дорожками, нанесенными на внутреннюю поверхность 116 трубки 114. Например, перемычки 128 могут быть использованы для соединения резистивной дорожки 120, нанесенной на внутреннюю поверхность 116 трубки 114, с одной или несколькими резистивными дорожками 120, нанесенными на наружную поверхность 118 трубки 114 (например, соединены последовательно). Тем не менее, эта конфигурация приведена исключительно в виде примера и не предназначена ограничивать настоящее изобретение. В других реализациях одна или несколько резистивных дорожек 120, нанесенных на наружную поверхность 118 трубки 114, и одна или несколько резистивных дорожек 120, нанесенных на внутреннюю поверхность 116 трубки 114, соединены по-отдельности (например, соединены параллельно).[0051] In some configurations, one or more patterned resistive tracks deposited on the
[0052] В некоторых конфигурациях длина трубки 114 имеет значение между по меньшей мере приблизительно двумя сантиметрами (2 см) и пятнадцатью сантиметрами (15 см). Диаметр внутренней поверхности 116 трубки 114 может иметь значение по меньшей мере приблизительно между двумя с половиной миллиметрами (2,5 мм) и двадцатью пяти миллиметрами (25 мм). Кроме того, диаметр внешней поверхности 118 трубки 114 может иметь значение по меньшей мере приблизительно между тремя миллиметрами (3 мм) и тридцатью миллиметрами (30 мм). Тем не менее, эти размеры приведены исключительно в виде примера и не предназначены ограничивать настоящее изобретение. Таким образом, в других конфигурациях длина трубки 114 может быть меньше чем по меньшей мере приблизительно два сантиметра (2 см) или больше чем по меньшей мере приблизительно пятнадцать сантиметров (15 см). Диаметр внутренней поверхности 161 трубки 114 может быть меньше чем по меньшей мере приблизительно два с половиной миллиметра (2,5 мм) или больше чем по меньшей мере приблизительно двадцать пять миллиметров (25 мм). Кроме того, диаметр внешней поверхности 118 трубки 114 может быть меньше чем по меньшей мере приблизительно три миллиметра (3 мм) или больше чем по меньшей мере приблизительно тридцать миллиметров (30 мм).[0052] In some configurations, the length of
[0053] Ширина структурированной резистивной дорожки (например, как измерено в целом в продольном направлении, параллельном продольной оси 126 трубки 114) может иметь значение по меньшей мере приблизительно между одной десятой миллиметра (0,1 мм) и одним миллиметром (1 мм). Например, ширина резистивной дорожки 120 может иметь значение по меньшей мере приблизительно двадцать одна тысячная дюйма (0,020''(0,508 мм)). В некоторых конфигурациях резистивная дорожка 120 имеет по меньшей мере приблизительно два витка на сантиметр. Например, шаг структурированной резистивной дорожки, который может быть определен как расстояние между осями осажденного материала, образующего соседние витки структурированной резистивной дорожки, может иметь значение по меньшей мере между приблизительно одной десятой миллиметра (0,1 мм) и одним миллиметром (1 мм). Например, шаг резистивной дорожки 120 может иметь значение по меньшей мере приблизительно двадцать восемь тысячных дюйма (0,028" (0,71 мм)). Тем не менее, эти размеры приведены исключительно в виде примера и не предназначены ограничивать настоящее изобретение. Таким образом, в других конфигурациях ширина структурированной резистивной дорожки может быть меньше, чем по меньшей мере приблизительно одна десятая миллиметра (0,1 мм), или больше, чем один миллиметр (1 мм). Резистивная дорожка 120 может иметь больше или меньше, чем по меньшей мере приблизительно два витка на сантиметр. Кроме того, шаг структурированной резистивной дорожки может быть меньше, чем по меньшей мере приблизительно одна десятая миллиметра (0,1 мм), или больше, чем по меньшей мере приблизительно один миллиметр (1 мм).[0053] The width of the patterned resistive track (e.g., as measured generally in a longitudinal direction parallel to the
[0054] В некоторых случаях одна или несколько характеристик резистивной дорожки 120 могут в целом быть постоянными по всей длине трубки 114. Например, шаг резистивной дорожки 120 может в целом быть постоянным по всей длине трубки 114. В других случаях одна или несколько характеристик резистивной дорожки 120 могут изменяться по всей длине трубки 114. Например, шаг между соседними витками структурированной резистивной дорожки может изменяться вдоль трубки 114 (например, увеличиваться и/или уменьшаться). Ширина и/или толщина структурированной резистивной дорожки также может изменяться по всей длине трубки 114.[0054] In some cases, one or more characteristics of the
[0055] Одна или несколько резистивных дорожек 120 выполнены с возможностью соединения с источником электрической энергии для подачи питания к резистивной дорожке и создания электрического поля. Например, одну или несколько резистивных дорожек 120 формируют с нанесением толстой пленки, образующей электрически резистивный проводник. В некоторых реализациях, при подаче напряжения внутри трубки 114 устанавливается по существу однородное электрическое поле. В реализациях электрическое поле представляет собой электрическое поле высокого напряжения (ВН), которое может быть использовано для управления перемещением ионизированных материалов через трубку 114 (например, как в дрейфовой области / камере). Тем не менее, по существу однородное электрическое поле приведено исключительно в виде примера и не предназначено ограничивать настоящее изобретение. Например, внутри трубки 114 может быть установлено профилированное электрическое поле. В иллюстративной реализации изменяется интенсивность (например, изменяется от низкой интенсивности до высокой интенсивности) профилированного электрического поля по длине трубки 114. В некоторых реализациях одна или несколько резистивных дорожек 120 могут представлять собой модификатор ионов, который может быть использован для разделения ионов, которые в ином случае имеют аналогичную подвижность. Например, одна или несколько резистивных дорожек 120, выполненных в виде модификатора ионов, могут быть использованы для фрагментации ионов и изменения подвижности ионов, соотношения массы и заряда ионов, и тому подобное.[0055] One or more
[0056] Один или оба конца дрейфовой трубки 110 могут содержать соединитель 130. Например, конец дрейфовой трубки 110 может быть закрыт фланцем, имеющим покрытие из проводящего материала (например, металлизированным проводящим фланцем). Одна или несколько резистивных дорожек 120 могут быть электрически соединены с соединителем 130, который может быть подсоединен к источнику электрической энергии (например, источнику питания), чтобы подводить энергию к резистивной дорожке и создавать электрическое поле. Тем не менее, проводящий фланец приведен исключительно в виде примера и не предназначен ограничивать настоящее изобретение. В других реализациях одна или несколько резистивных дорожек 120 могут быть соединены с источником электрической энергии с использованием других соединителей, включая, но не обязательно ограничиваясь, проводящей крышкой, проводящим покрытием, и тому подобное. При подаче питания на дрейфовую трубку 110 последняя может быть использована для обеспечения управляемого переноса заряженных материалов (например, ионов) с одного конца дрейфовой трубки 110 к другому концу дрейфовой трубки 110.[0056] One or both ends of the
[0057] Впускное отверстие 104 может использовать различные подходы по введению проб. В некоторых может быть использован случаях поток воздуха. В других случаях IMS-системы 100 для доставки материала во впускное отверстие 104 могут использовать различные жидкости и/или газы. Различные подходы по доставке материала во впускное отверстие 104 включают использование вентиляторов, сжатых газов, вакуума, создаваемого дрейфовым газом, протекающим через дрейфовую область / камеру, и тому подобное. Например, детектор 102 проб может быть подсоединен к пробоотборной линии, где воздух из окружающей среды (например, воздух в помещении) доставляется в пробоотборную линию с использованием вентилятора. IMS-системы 100 могут работать по существу при давлении окружающей среды, хотя для введения материала пробы в реакционную область может быть использован поток воздуха или другой текучей среды. В других случаях IMS-системы 100 могут работать при более низких давлениях (т.е. давления, которые меньше, чем давление окружающей среды). Кроме того, IMS-системы 100 могут содержать другие элементы, способствующие введению материала из источника проб. Например, чтобы вызвать испарение по меньшей мере части пробы (например, перевода ее в газовую фазу), так чтобы часть пробы могла войти во впускное отверстие 104, в IMS-системы 100 может быть включен десорбер, такой как нагреватель. Например, для получения представляющей интерес пробы с поверхности могут быть использованы пробоотборник, тампон, протирка, или тому подобное. Пробоотборник может затем быть использован для доставки пробы к впускному отверстию 104 IMS-системы 100. IMS-система 100 может также содержать предварительный концентратор для концентрации или обеспечения ввода болюса материала в реакционную область.[0057] The
[0058] Часть образца может быть доставлена через впускное отверстие 104, выполненное как впускное отверстие с малой апертурой (например, точечное отверстие) в детекторе 102 проб с использованием, например, диафрагмы, находящейся в проточном сообщении с внутренним объемом детектора 102 проб. Например, когда внутреннее давление во внутреннем объеме уменьшается за счет перемещения диафрагмы, часть образца переносится из впускного отверстия 104 в детектор 102 проб через точечное отверстие. После прохождения через точечное отверстие, часть пробы поступает в приемный узел 108. Приемный узел 108 может содержать реакционную камеру 132, где образец ионизируют с использованием источника ионизации, например, ионизатора коронного разряда (например, имеющего острие коронного разряда) и, возможно, модифицированного (например, с использованием одного или нескольких реагентов). Тем не менее, ионизатор коронного разряда приведен исключительно в виде примера и не предназначен ограничивать настоящее изобретение. Другие иллюстративные источники ионизации включают, но не обязательно ограничиваются этим: радиоактивные и электрические источники ионизации, такие как источник фотоионизации, электрораспылительный источник, источник матрично-активированной лазерной десорбции/ионизации (MALDI), источник никель-63 (63Ni), источник америций-241 (241Am), и тому подобное. В некоторых случаях источник ионизации может ионизировать материал из представляющей интерес пробы в несколько стадий. Например, источник ионизации может генерировать коронный разряд, который ионизирует газы в реакционной камере 132, которые впоследствии используют для ионизации представляющего интерес материала. Иллюстративные газы включают, но не обязательно ограничиваются этим: азот, водяной пар, газы, содержащиеся в воздухе, и тому подобное.[0058] A portion of the sample may be delivered through an
[0059] При реализации приемный узел 108 может работать в положительном режиме, отрицательном режиме, переключаться между положительным и отрицательным режимами, и так далее. Например, в положительном режиме источник ионизации может генерировать положительные ионы из представляющей интерес пробы, тогда как в отрицательном режиме источник ионизации может генерировать отрицательные ионы. Работа впускного узла 108 в положительном режиме, отрицательном режиме или переключаясь между положительным и отрицательным режимами может зависеть от предпочтений реализации, предсказанного типа пробы (например, взрывчатое вещество, наркотическое вещество, токсический промышленный химикат), и тому подобное. Кроме того, источник ионизации может работать в периодическом импульсном режиме (в зависимости от, например, введения пробы, открытия затвора, наступления события, и так далее).[0059] When implemented, the receiving
[0060] Ионы пробы могут быть направлены в узел затвора с помощью электрического поля (например, генерируемого точно таким же или подобным образом, как и в дрейфовой камере, см. как описано выше). Узел затвора содержит одну или несколько (например, две) сетки и может быть на мгновение открыт, чтобы ввести в дрейфовую область небольшие кластеры ионов пробы. Например, на впускном конце в дрейфовую область 136 приемный узел 108 может содержать электронный вентиль или затвор 134. При реализации затвор 134 управляет поступлением ионов в дрейфовую область 136. Например, затвор 134 может содержать сетку из проволок, к которым прикладывают или снимают электрическую разность потенциалов. Дрейфовая область 136 имеет электроды (например, фокусирующие кольца, образованные одной или несколькими резистивными дорожками 120), расположенные вдоль ее длины для получения электрического поля, необходимого для протягивания ионов вдоль дрейфовой области 136 и/или для направления ионов к детектору, расположенному, как правило, напротив затвора 134 в дрейфовой области 136. Например, дрейфовая область 136, включая электроды, может создавать в дрейфовой области 136 по существу однородное поле. Ионы пробы могут быть собраны на коллекторе электрода, который может быть подсоединен к анализатору для анализа времен пролета различных ионов пробы. Например, коллекторная пластина 138 в дальнем конце дрейфовой области 136 может собирать ионы, которые проходят вдоль дрейфовой области 136.[0060] Sample ions can be directed to the gate assembly using an electric field (eg, generated in exactly the same or similar manner as in a drift chamber, see as described above). The gate assembly contains one or more (eg, two) grids and can be momentarily opened to introduce small clusters of sample ions into the drift region. For example, at the inlet end to drift
[0061] Дрейфовая трубка 110 может быть использована для разделения ионов, достигших дрейфовую область 136, на основании подвижности отдельных ионов. Подвижность ионов определяется зарядом иона, массой иона, геометрией иона, и так далее. Таким образом, IMS-системы 100 могут разделять ионы, основываясь на их времени пролета. Дрейфовая область 136 может иметь по существу однородное электрическое поле, которое проходит от затвора 134 до коллектора. Коллектор может представлять собой коллекторную пластину 138 (например, пластину Фарадея), которая обнаруживает ионы в зависимости от их заряда, когда они контактируют с коллекторной пластиной 138. В реализациях дрейфовый газ можно подавать через дрейфовую область 136 в направлении, в целом противоположном траектории движения ионов к коллекторной пластине 138. Например, дрейфовый газ может течь из места, смежного с коллекторной пластиной 138, к затвору 134. Иллюстративные дрейфовые газы включают, но не обязательно ограничены ими: азот, гелий, воздух, рециркулированный воздух (например, воздух, который очищен и/или осушен) и тому подобное. Например, для циркуляции воздуха вдоль дрейфовой области 136 против направления потока ионов, может быть использован насос. Воздух может быть высушен и очищен с использованием, например, стопки молекулярных сит.[0061]
[0062] В реализациях детектор 102 проб может содержать различные элементы, чтобы способствовать идентификации представляющего интерес материала. Например, детектор 102 проб может иметь одну или несколько ячеек, содержащих калибрующее вещество и/или компонент легирующей примеси. Калибрующее вещество может быть использовано для калибровки измерения подвижности ионов. Легирующая примесь может быть использована для селективной ионизации молекул. Легирующая примесь также может быть объединена с материалом пробы и ионизирована с образованием иона, который может быть более эффективно детектирован, чем ион, который соответствует одному только материалу пробы. Легирующая примесь может быть направлена в одно или несколько из: впускного отверстия 104, реакционной камеры 132 и/или дрейфовой области 136. Детектор 102 проб может быть выполнен с возможностью направления легирующей примеси в различные места, возможно, в разное время во время работы детектора 102 проб. Детектор 102 проб может быть выполнен с возможностью координации доставки легирующей примеси с работой других элементов IMS-системы 100.[0062] In implementations, the
[0063] Контроллер может детектировать изменение заряда на коллекторной пластине 138, когда ионы достигают ее. Таким образом, контроллер может идентифицировать материалы из их соответствующих ионов. В реализациях контроллер также может быть использован для управления открытием затвора 134 для получения спектра времени пролета различных ионов вдоль дрейфовой области 136. Например, контроллер может быть использован для управления напряжениями, приложенными к затвору 134. Работой затвора 134 можно управлять периодически, при наступлении события, и так далее. Например, контроллер может периодически регулировать, как долго затвор 134 открыт и/или закрыт, основываясь на наступлении события (например, коронного разряда), и так далее. Кроме того, контроллер может переключать электрический потенциал, приложенный к затвору 134, основываясь на режиме источника ионизации (например, находится ли приемный узел 108 в положительном или отрицательном режиме). В некоторых случаях контроллер может быть выполнен с возможностью детектирования наличия взрывчатых веществ и/или химических агентов и обеспечения предупреждения или указания таких агентов на индикаторе.[0063] The controller can detect a charge change on the
[0064] В реализациях IMS-система 100, содержащая все или некоторые из своих элементов, может работать под управлением компьютера. Например, процессор может быть включен в IMS-системе 100 или содержаться в этой системе для управления элементами и функциями IMS-системы 100, описанными в настоящем документе, с использованием программного обеспечения, программно-аппаратных средств, аппаратных средств (например, схемы с фиксированными логическими функциями), ручного управления или их комбинации. Термины «контроллер», «функциональность», «сервис» и «логический», используемые в настоящем документе, как правило, представляют собой программное обеспечение, программно-аппаратные средства, аппаратные средства, или комбинации программного обеспечения, программно-аппаратных средств и аппаратных средств, в сочетании с управлением IMS-системой 100. В случае программной реализации, модуль, функциональность или логика представляют собой программный код, который выполняет поставленные задачи при выполнении процессором (например, ЦПУ или несколькими ЦПУ). Программный код может храниться в одном или нескольких машиночитаемых устройствах памяти (например, встроенной памяти и/или в одном или нескольких материальных носителях), и так далее. Конструкции, функции, подходы и способы, описанные в настоящем документе, могут быть реализованы на разнообразных коммерческих вычислительных платформах, имеющих разнообразные процессоры.[0064] In implementations, the
[0065] Например, детектор 102 проб может быть соединен с контроллером для управления энергией, подаваемой к резистивным дорожкам 120. Контроллер может содержать модуль обработки данных, модуль обмена данными и модуль памяти. Модуль обработки данных обеспечивает функции обработки для контроллера и может содержать любое количество процессоров, микроконтроллеров или других систем обработки данных, а также резидентную или внешнюю память для хранения данных и другой информации, к которой имеется доступ контроллером или которые генерируются контроллером. Модуль обработки данных может выполнять одну или несколько компьютерных программ, которые реализуют способы, описанные в настоящем документе. Модуль обработки данных не ограничивается материалами, из которых он выполнен, или используемыми в нем механизмами обработки, и, таким образом, может быть реализован с помощью полупроводников и/или транзисторов (например, с помощью элементов электронных интегральных схем (ИС), и тому подобного. Модуль обмена данными функционально выполнен с возможностью обмена данными с элементами детектора 102 проб. Модуль обмена данными также с возможностью обмена данными соединен с модулем обработки данных (например, для обмена входными сигналами детектора 102 проб с модулем обработки данных). Модуль обмена данными и/или модуль обработки данных также может быть выполнен с возможностью обмена данными с большим количеством различных сетей, в том числе, но не обязательно ограничиваясь следующими: интернетом, сотовой телефонной сетью, локальной сетью (LAN), глобальной сетью (WAN), беспроводной сетью, телефонной сетью общего пользования, интранетом, и тому подобное.[0065] For example, the
[0066] Модуль памяти является примером материальных машиночитаемых носителей, которые обеспечивает функциональность хранения для хранения различных данных, связанных с работой контроллера, такие как компьютерные программы и/или сегменты кода или другие данных для указания модулю обработки данных и, возможно, другим элементам контроллера, выполнять операции, описанные в настоящем документе. Таким образом, память может хранить данные, такие как программы или инструкции по работе IMS-системы 100 (включая его элементы), спектральные данные, и тому подобное. Несмотря на то, что показан один модуль памяти, может быть использовано широкое разнообразие типов и комбинаций памяти (например, материальная энергонезависимая память). Модуль памяти может быть объединен с процессорным модулем, может содержать автономную память, или может быть комбинацией того и другого.[0066] A memory module is an example of a tangible computer-readable media that provides storage functionality for storing various data associated with the operation of the controller, such as computer programs and/or code segments or other data to indicate to the data processing module and possibly other elements of the controller, perform the operations described in this document. Thus, the memory can store data such as programs or instructions for operating the IMS system 100 (including its elements), spectral data, and the like. While a single memory module is shown, a wide variety of types and combinations of memory (eg, tangible non-volatile memory) may be used. The memory module may be integrated with the processor module, may contain self-contained memory, or may be a combination of both.
[0067] Модуль памяти может содержать, но не обязательно ограничивается этим: съемные и несъемные компоненты памяти, такие как оперативная память (RAM), постоянная память (ROM), флэш-память (например, карты памяти с защищенным доступом (SD-карты), мини-SD карты памяти и/или микро-SD карты памяти), магнитная память, оптическая память, устройства памяти USB-устройств, память жесткого диска, внешняя память и другие типы читаемых компьютерами носителей информации. В реализациях детектор 102 проб и/или модуль памяти может содержать съемную смарт-карту памяти (ICC), например, память, предоставляемую модулем идентификации абонента (SIM-картой), универсальным модулем идентификации абонента (USIM-картой), универсальной картой на интегральной схеме (UICC), и тому подобное.[0067] A memory module may include, but is not necessarily limited to: removable and non-removable memory components such as random access memory (RAM), read only memory (ROM), flash memory (e.g., secure access memory cards (SD cards) , mini SD memory cards and/or micro SD memory cards), magnetic memory, optical memory, USB memory devices, hard disk memory, external memory, and other types of computer-readable storage media. In implementations, the
[0068] В реализациях различные аналитические устройства могут использовать конструкции, способы, подходы и т.д., описанные в настоящем документе. Таким образом, несмотря на то, что в настоящем документе описаны IMS-системы 100, различные аналитические устройства могут использовать описанные способы, подходы, конструкции и тому подобное. Эти устройства могут быть выполнены с ограниченной функциональностью (например, тонкие устройства) или с полноценной функциональностью {например, толстые устройства). Таким образом, функциональность устройства может относиться к программным или аппаратным ресурсам устройства, например, производительности, памяти (например, возможности хранения данных), аналитической способности, и так далее.[0068] In implementations, various analytical devices may use the designs, methods, approaches, etc. described herein. Thus, while
ИЛЛЮСТРАТИВНЫЙ ПРОЦЕССILLUSTRATIVE PROCESS
[0069] Ниже описаны иллюстративные методики для изготовления камеры переноса заряженного материала путем нанесения одной или нескольких структурированных резистивных дорожек на одну или несколько из внутренней поверхности или внешней поверхности непроводящей или полупроводящей трубки. На Фиг.7 изображен способ 700, в иллюстративной реализации, изготовления камеры переноса заряженного материала, такой как иллюстративная дрейфовая трубка 10, изображенная на Фиг.1 - 6 и описанная выше.[0069] Described below are exemplary techniques for fabricating a charged material transfer chamber by depositing one or more patterned resistive tracks on one or more of the inner surface or outer surface of a non-conductive or semi-conductive tube. FIG. 7 depicts a
[0070] В способе, обозначенным номером позиции 700, структурированную резистивную дорожку наносят на одну или несколько из внутренней поверхности или внешней поверхности трубки, выполненной по существу из непроводящего материала и/или полупроводящего материала (блок 710). Например, со ссылкой на Фиг.1 - 6, резистивную дорожку 120 наносят на внутреннюю поверхность 116 трубки 114 и/или наружную поверхность 118 трубки 114. Резистивная дорожка 120 может быть нанесена (например, напечатана) на внутренней поверхности 116 трубки 114 и/или внешней поверхности 118 трубки 114, как описано в публикации заявки на патент США №2008/0278278, поданной 21 июля 2008 года, озаглавленной «Контурные Толстопленочные Резисторы посредством Фотолитографии»; в патенте США №7224258, выданном 29 мая 2007 года, озаглавленном «Контурные Толстопленочные Резисторы посредством Фотолитографии»; в публикации заявки на патент США №2007/0262846, поданной 4 мая 2007, озаглавленной «Контурные Толстопленочные Резисторы посредством Фотолитографии»; в публикации заявки на патент США №2010/0209318, поданной 28 апреля 2010 года, озаглавленной «Микрожидкостные Устройства, Изготовленные Прямой Записью Толстой Пленки и Способы их Изготовления»; в патенте США №7736592, выданном 15 июня 2010, озаглавленном «Микрожидкостные Устройства, Изготовленные Прямой Записью Толстой Пленки и Способы их Изготовления»; в публикации заявки на патент США №2011/0277803, поданной 18 марта 2011 года, озаглавленной «Термопары» и/или в патенте США №4485387, выданном 27 ноября 1984 года, озаглавленном «Система Прокладки для Получения Рисунков Схем», которые включены в настоящее описание во всей полноте посредством ссылки.[0070] In the
[0071] В некоторых реализациях перемычку наносят на одну или несколько из внутренней поверхности или внешней поверхности трубки для соединения вместе смежных витков структурированных резистивных дорожек (блок 712). Например, все также со ссылкой на Фиг.1 - 6, перемычки 128 могут быть использованы для соединения вместе смежных витков резистивной дорожки 120. В некоторых реализациях другую структурированную резистивную дорожку наносят на одну или несколько из внутренней поверхности или внешней поверхности трубки (этап 720). Например, все также со ссылкой на Фиг.1 - 6, вторую резистивную дорожку 120 наносят на наружную поверхность 118 трубки 114. Как описано выше, резистивные дорожки 120 выполнены с возможностью соединения с источником электрической энергии, чтобы установить электрическое поле (например, по существу однородное электрическое поле, электрическое поле определенной формы, и так далее) в трубке 114 при подаче напряжения. В некоторых реализациях структурированная резистивная дорожка соединена с соединителем трубки, который выполнен с возможностью соединения структурированной резистивной дорожки с источником электрической энергии (блок 730). Например, все также со ссылкой на Фиг.1 - 6, соединитель 130 может быть выполнен с возможностью соединения с резистивной дорожкой 120. Как описано выше, соединитель 130 может быть выполнен в виде проводящего фланца, проводящей крышки, проводящего покрытия, и так далее. Соединитель 130 может быть соединен с источником электрической энергии (например, источником питания), чтобы активизировать структурированную резистивную дорожку и создать электрическое поле.[0071] In some implementations, a jumper is applied to one or more of the inner surface or outer surface of the tube to connect adjacent turns of structured resistive tracks together (block 712). For example, still with reference to FIGS. 1-6,
[0072] Несмотря на то, что изобретение было описано с использованием языка, характерного для конструктивных признаков и/или действий способа, должно быть понятно, что предмет изобретения, определенный в прилагаемой формуле изобретения, не обязательно ограничен конкретными описанными признаками или действиями. Несмотря на то, что были раскрыты различные конфигурации, устройства, системы, подсистемы, компоненты и т.д. могут быть выполнены различными способами без отступления от этого раскрытия. Напротив, конкретные признаки и действия раскрыты в виде примеров реализации формулы изобретения.[0072] While the invention has been described using language specific to the design features and/or acts of the method, it should be understood that the subject matter defined in the appended claims is not necessarily limited to the specific features or acts described. While various configurations, devices, systems, subsystems, components, etc. have been disclosed. may be performed in various ways without departing from this disclosure. Rather, specific features and actions are disclosed as exemplary embodiments of the claims.
[0073] Раскрытая в настоящем описании камера переноса заряженного материала содержит камеру, выполненную из по существу непроводящего материала, или из полупроводящего материала, или из обоих указанных материалов и имеющую внутреннюю поверхность и внешнюю поверхность, и структурированную резистивную дорожку, нанесенную на внутреннюю или внешнюю поверхность камеры или на обе указанные поверхности и выполненную с возможностью соединения с источником электрической энергии.[0073] A charged material transfer chamber disclosed herein comprises a chamber made of a substantially non-conductive material, or a semi-conductive material, or both, having an inner surface and an outer surface, and a patterned resistive track deposited on the inner or outer surface. chamber or both of these surfaces and made with the possibility of connection with a source of electrical energy.
Структурированная резистивная дорожка может быть выполнена с возможностью соединения с источником электрической энергии для установления, при включении питания, электрического поля внутри камеры.The structured resistive track may be configured to be connected to an electrical power source to establish, upon power up, an electrical field within the chamber.
Структурированная резистивная дорожка может быть выполнена с возможностью соединения с источником электрической энергии для нагревания камеры при включении питания.The structured resistive track may be configured to be connected to an electrical power source to heat the chamber when the power is turned on.
Структурированная резистивная дорожка может содержать виток, нанесенный на внутреннюю или внешнюю поверхность камеры или на обе указанные поверхности, причем виток ориентирован по меньшей мере по существу перпендикулярно продольной оси камеры.The structured resistive track may comprise a coil applied to the inner or outer surface of the chamber, or both of these surfaces, the coil being oriented at least substantially perpendicular to the longitudinal axis of the chamber.
Виток может проходить по меньшей мере на двести семьдесят градусов (270°).The coil can extend at least two hundred and seventy degrees (270°).
Структурированная резистивная дорожка может быть выполнена в виде модификатора ионов.The structured resistive track can be made in the form of an ion modifier.
Камера может дополнительно содержать соединитель, соединенный со структурированной резистивной дорожкой и выполненный с возможностью ее соединения с источником электрической энергии.The chamber may further comprise a connector connected to the structured resistive track and configured to connect it to an electric power source.
Камера может дополнительно содержать продольную резистивную дорожку, выполненную с возможностью соединения структурированной резистивной дорожки с по меньшей мере второй структурированной резистивной дорожкой и соединителем.The chamber may further comprise a longitudinal resistive track configured to connect the structured resistive track to at least the second structured resistive track and a connector.
[0074] Раскрытый в настоящем описании способ изготовления камеры переноса заряженного материала включает нанесение структурированной резистивной дорожки на внутреннюю или внешнюю поверхность камеры или на обе указанные поверхности, причем камера выполнена из по существу непроводящего материала, или из полупроводящего материала, или из обоих указанных материалов, при этом структурированную резистивную дорожку выполняют с возможностью соединения с источником электрической энергии, и соединение структурированной резистивной дорожки с соединителем камеры, который выполнен с возможностью соединения структурированной резистивной дорожки с источником электрической энергии.[0074] Disclosed in the present description, the method of manufacturing a charged material transfer chamber includes applying a structured resistive track on the inner or outer surface of the chamber, or on both of these surfaces, and the chamber is made of a substantially non-conductive material, or of a semi-conductive material, or of both of these materials, wherein the structured resistive track is configured to be connected to an electric power source, and the structured resistive track is connected to a chamber connector, which is configured to connect the structured resistive track to an electric power source.
При выполнении способа структурированную резистивную дорожку могут выполнять с возможностью соединения с источником электрической энергии для установления, при включении питания, электрического поля внутри камеры.In carrying out the method, the structured resistive track may be configured to be connected to an electrical power source to establish, upon power up, an electrical field within the chamber.
При выполнении способа структурированную резистивную дорожку могут выполнять с возможностью соединения с источником электрической энергии для нагревания камеры при включении питания.In carrying out the method, the structured resistive track may be configured to be connected to an electrical power source to heat the chamber when the power is turned on.
При выполнении способа структурированная резистивная дорожка может содержать виток, нанесенный на внутреннюю или внешнюю поверхность камеры или на обе указанные поверхности, причем виток ориентируют по меньшей мере по существу перпендикулярно продольной оси камеры.In carrying out the method, the structured resistive track may comprise a coil applied to the inner or outer surface of the chamber, or both of these surfaces, the coil being oriented at least substantially perpendicular to the longitudinal axis of the chamber.
При выполнении способа виток может проходить по меньшей мере на двести семьдесят градусов (270°).When performing the method, the coil can be at least two hundred and seventy degrees (270°).
При выполнении способа структурированную резистивную дорожку могут выполнять в виде модификатора ионов.When performing the method, the structured resistive track can be made in the form of an ion modifier.
При выполнении способа при соединении структурированной резистивной дорожки с соединителем камеры также могут соединять структурированную резистивную дорожку с по меньшей мере второй структурированной резистивной дорожкой и соединителем с использованием продольной резистивной дорожки.When performing the method, when connecting the structured resistive track to the camera connector, it is also possible to connect the structured resistive track to at least the second structured resistive track and the connector using a longitudinal resistive track.
[0075] Раскрытый в настоящем описании узел детектирования ионов содержит камеру переноса заряженного материала, содержащую камеру, выполненную из по существу непроводящего материала, или из полупроводящего материала, или из обоих указанных материалов, причем камера имеет внутреннюю поверхность и внешнюю поверхность, при этом на внутреннюю или внешнюю поверхность камеры, или на обе указанные поверхности нанесена структурированная резистивная дорожка, выполненная с возможностью соединения с источником электрической энергии, приемный узел, проточно сообщающийся с камерой переноса заряженного материала и содержащий порт для приема пробы, реакционную область для ионизации пробы и затвор для управления введением ионизированной пробы в камеру переноса заряженного материала, и коллекторный узел, проточно сообщающийся с камерой переноса заряженного материала и содержащий коллекторную пластину для сбора ионизированной пробы после ее прохождения через камеру переноса заряженного материала.[0075] The ion detection assembly disclosed herein comprises a charged material transfer chamber comprising a chamber made of a substantially non-conductive material, or a semi-conductive material, or both, wherein the chamber has an inner surface and an outer surface, with the inner or the outer surface of the chamber, or both of these surfaces, there is a structured resistive track made with the possibility of connecting to a source of electrical energy, a receiving unit that is in fluid communication with the charged material transfer chamber and contains a sample receiving port, a reaction area for sample ionization, and a shutter for controlling introducing the ionized sample into the charged material transfer chamber, and a collector assembly in fluid communication with the charged material transfer chamber and containing a collector plate for collecting the ionized sample after it has passed through the charged material transfer chamber.
В узле структурированная резистивная дорожка может быть выполнена с возможностью соединения с источником электрической энергии для установления, при включении питания, электрического поля внутри камеры.At the node, the structured resistive track may be configured to be connected to an electrical power source to establish, upon power up, an electrical field within the chamber.
В узле структурированная резистивная дорожка может быть выполнена с возможностью соединения с источником электрической энергии для нагревания камеры при включении питания.At the node, the structured resistive track may be configured to be connected to an electrical power source to heat the chamber when the power is turned on.
В узле структурированная резистивная дорожка может содержать виток, нанесенный на внутреннюю или внешнюю поверхность камеры или на обе указанные поверхности, причем виток ориентирован по меньшей мере по существу перпендикулярно продольной оси камеры.At the assembly, the structured resistive track may comprise a coil applied to the inner or outer surface of the chamber, or both, the coil being oriented at least substantially perpendicular to the longitudinal axis of the chamber.
В узле виток может проходить по меньшей мере на двести семьдесят градусов (270°).At the knot, the coil can extend at least two hundred and seventy degrees (270°).
В узле структурированная резистивная дорожка может быть выполнена в виде модификатора ионов.In the node, the structured resistive track can be made in the form of an ion modifier.
В узле камера может дополнительно содержать соединитель, соединенный со структурированной резистивной дорожкой и выполненный с возможностью соединения структурированной резистивной дорожки с источником электрической энергии.In the node, the camera may further comprise a connector connected to the structured resistive track and configured to connect the structured resistive track to an electric power source.
В узле камера переноса заряженного материала может дополнительно содержать продольную резистивную дорожку, выполненную с возможностью соединения структурированной резистивной дорожки с по меньшей мере второй структурированной резистивной дорожкой и соединителем.In the assembly, the charged material transfer chamber may further comprise a longitudinal resistive a track configured to connect the structured resistive track to at least the second structured resistive track and a connector.
Claims (19)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US61/802,928 | 2013-03-18 | ||
US61/860,773 | 2013-07-31 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2015141390A Division RU2686319C2 (en) | 2013-03-18 | 2014-03-18 | Ion mobility spectrometry (ims) device with charged material transportation chamber |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2782512C1 true RU2782512C1 (en) | 2022-10-28 |
Family
ID=
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2208874C2 (en) * | 2000-12-05 | 2003-07-20 | Брукер Саксония Аналитик Гмбх | Method and device for ionizing materials in ionization chamber of composition analyzer |
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2208874C2 (en) * | 2000-12-05 | 2003-07-20 | Брукер Саксония Аналитик Гмбх | Method and device for ionizing materials in ionization chamber of composition analyzer |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11307172B2 (en) | Ion mobility spectrometry (IMS) device with charged material transportation chamber | |
CN101384339B (en) | Ion mobility spectrometer apparatus and methods | |
US9523657B2 (en) | Practical ion mobility spectrometer apparatus and methods for chemical and/or biological detection | |
US11054391B2 (en) | Ion mobility spectrometer | |
WO2019016571A1 (en) | Mobility and mass measurement using time-varying electric fields | |
US9734998B2 (en) | AC gate ion filter method and apparatus | |
US10794862B2 (en) | Practical ion mobility spectrometer apparatus and methods for chemical and/or biological detection | |
EP2898321B1 (en) | Cleaning of corona dischage ion source | |
US10309929B2 (en) | Practical ion mobility spectrometer apparatus and methods for chemical and/or biological detection | |
US20200203140A1 (en) | Chemically modified ion mobility separation apparatus and method | |
RU2016123078A (en) | SOURCE OF IONIZATION BASED ON DIELECTRIC BARRIER DISCHARGE FOR SPECTROMETRY | |
US20190272988A1 (en) | Ion transport device and ion mobility spectrometer | |
RU2782512C1 (en) | Chamber for charged material transfer, method for manufacture of such a chamber and ion detection node containing such a chamber | |
JP2019211440A (en) | Ion mobility analyzer | |
Dayon et al. | Multitrack electrospray chips | |
CN112601957A (en) | Method and apparatus for identifying species using ion mobility based ion separation techniques | |
Reginskaya | Experimental and theoretical investigations of the dielectric barrier electrospray in respect to μ-chip development |