RU2778984C1 - Method for modifying hypereutectic silumin grade ak20 - Google Patents

Method for modifying hypereutectic silumin grade ak20 Download PDF

Info

Publication number
RU2778984C1
RU2778984C1 RU2022108420A RU2022108420A RU2778984C1 RU 2778984 C1 RU2778984 C1 RU 2778984C1 RU 2022108420 A RU2022108420 A RU 2022108420A RU 2022108420 A RU2022108420 A RU 2022108420A RU 2778984 C1 RU2778984 C1 RU 2778984C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
silumin
electron beam
silicon
modifying
surface layer
Prior art date
Application number
RU2022108420A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Мария Евгеньевна Рыгина
Юрий Федорович Иванов
Елизавета Алексеевна Петрикова
Антон Дмитриевич Тересов
Максим Сергеевич Воробьев
Камила Тахировна Ашурова
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН) filed Critical Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН)
Application granted granted Critical
Publication of RU2778984C1 publication Critical patent/RU2778984C1/en

Links

Images

Abstract

FIELD: non-ferrous alloys.
SUBSTANCE: invention relates to the field of non-ferrous alloys, in particular to methods for processing aluminum-silicon alloys (silumins). The method for modifying silumin includes irradiation with an intense pulsed electron beam of AK20 brand silumin with an electron energy of 18 keV, a pulse repetition rate ƒ=0.3 s-1, an electron beam pulse duration τ=150 mcs, an electron beam energy density ES =30-70 J/ cm2 and the number of impact pulses n=3. When this occurs, the formation of a modified surface layer with a crystallite size of up to 0.3 mcm in an argon medium at a residual pressure of 0.02 Pa.
EFFECT: invention is aimed at improving the quality of the obtained silumin alloy by improving its structure and increasing mechanical properties and increasing the modified surface layer while maintaining the percentage of silicon.
1 cl, 1 ex, 1 tbl, 2 dwg

Description

Изобретение относится к области цветных сплавов, в частности, к способам обработки бинарных алюминиевых сплавов (силуминов) и может найти свое применение для модифицирования поверхностного слоя заэвтектического силумина с целью повышения качества материала.The invention relates to the field of non-ferrous alloys, in particular, to methods for processing binary aluminum alloys (silumin) and can be used to modify the surface layer of hypereutectic silumin in order to improve the quality of the material.

Известен способ модифицирования заэвтектических силуминов при помощи циклического воздействия импульсов электрического тока на фазовый состав и свойства расплава (Пригунова А.Г., Петров С.С., Кошелев М.В. Получение мелкокристаллических заэвтектичсеких силуминов воздействием на расплав импульсным электрическим током / Металознавтство а термiчна обробка металiв. - 2017. - Т. 2. -№77. - сс. 48-57). Жидкие фазы у сплавов Al - (15,0…18,5)% Si обрабатывали импульсами электрического тока низких, средних и высоких частот, периодичность переключения импульса составляла (0,5-1) с. После обработки расплава по специально разработанным режимам его охлаждали с контролируемой скоростью 0,3 К/с. Наиболее значительные результаты достигаются при высоких частотах, при которых размер дендритов составляет 2 мкм и до 300 нм в поперечном сечении.A known method of modifying hypereutectic silumins using the cyclic effect of electric current pulses on the phase composition and properties of the melt (Prigunova A.G., Petrov S.S., Koshelev M.V. Obtaining fine-crystalline hypereutectic silumins by exposing the melt to a pulsed electric current / Metalloznavtstvo a thermal processing of metal - 2017. - V. 2. - No. 77. - pp. 48-57). Liquid phases in alloys Al - (15.0 ... 18.5)% Si were treated with electric current pulses of low, medium and high frequencies, the pulse switching frequency was (0.5-1) s. After the melt was processed according to specially developed regimes, it was cooled at a controlled rate of 0.3 K/s. The most significant results are achieved at high frequencies, at which the size of the dendrites is 2 µm and up to 300 nm in cross section.

Недостатком способа является ограничение в объеме жидкой фазы при обработке импульсным электрическим током.The disadvantage of this method is the limitation in the volume of the liquid phase in the processing of pulsed electric current.

Лазерное легирование - один из известных способов модификации (Kisina Yu.В., Barsukov A.D, Shlyapina I.R. Laser surface alloying of silumin // Metal Science and Heat Treatment. - 1995. - V. 37. - pp. 59-61). При легировании заэвтектического силумина Al30 (содержание кремния 11,23 вес.%) сплавом PG-12N-01 и железом, в виде порошка (размер частиц 40 мкм), происходит увеличение твердости до 160±10 Н и 180±12 Н, соответственно, что больше в 1,8 и 1,6 раза по сравнению с исходным.Laser alloying is one of the known modification methods (Kisina Yu.V., Barsukov A.D., Shlyapina I.R. Laser surface alloying of silumin // Metal Science and Heat Treatment. - 1995. - V. 37. - pp. 59-61). When alloying hypereutectic silumin Al30 (silicon content 11.23 wt%) with PG-12N-01 alloy and iron, in the form of a powder (particle size 40 μm), the hardness increases to 160±10 N and 180±12 N, respectively, which is 1.8 and 1.6 times more than the original.

Недостатком данного способа является необходимость использования легирующих материалов, приводящая к увеличению стоимости конечного изделия.The disadvantage of this method is the need to use alloying materials, leading to an increase in the cost of the final product.

Известно получение заэвтектического силумина методом закалочного затвердевания (Gusakova O.V., Shepelevich V.G., Alexandrov D.V., Starodumov I.О. Structure Formation in the Melt-Quenched Al-12.2Si-0.2Fe Alloys // Russian Metallurgy (Metally). - 2020. - V. - No. 8. - pp. 885-892). Объемные образцы эвтектического состава Al-12,2 Si-0,2 Fe были получены методом кристаллизации в графитовой изложнице 3×6 мм2. Скорость охлаждения составила 102 K/с. Фольга была получена распылением на внутреннюю поверхность полого медного цилиндра. Толщина фольги составляла 50-60 мкм. Скорость охлаждения составила 105 K/с. Структура объемных образцов имеет зоны неоднородного состава. Структурные элементы фольги лежат в микронном диапазоне размера и характеризуются равномерным распределением элементов. В результате разложения перенасыщенного твердого раствора образуются нановключения кремния и фазы Al-FeSi, в слое, прилегающем к пресс-форме. Затвердевание в слое на свободной стороне образца протекает с образованием дендритов, богатых кремнием (0,4 ат.%), твердого раствора α-Al и эвтектической смеси в междендритном пространстве. Размеры дендритов не превышают 3 мкм.It is known to obtain hypereutectic silumin by the quenching solidification method (Gusakova OV, Shepelevich VG, Alexandrov DV, Starodumov I.O. Structure Formation in the Melt-Quenched Al-12.2Si-0.2Fe Alloys // Russian Metallurgy (Metally). - 2020. - V - No. 8. - pp. 885-892). Bulk samples of the eutectic composition Al-12.2 Si-0.2 Fe were obtained by crystallization in a graphite mold 3×6 mm 2 . The cooling rate was 10 2 K/s. The foil was obtained by spraying onto the inner surface of a hollow copper cylinder. The foil thickness was 50–60 µm. The cooling rate was 105 K/s. The structure of bulk samples has zones of inhomogeneous composition. The structural elements of the foil lie in the micron size range and are characterized by a uniform distribution of elements. As a result of the decomposition of the supersaturated solid solution, nanoinclusions of silicon and the Al-FeSi phase are formed in the layer adjacent to the mold. Solidification in the layer on the free side of the sample proceeds with the formation of dendrites rich in silicon (0.4 at.%), a solid solution of α-Al, and a eutectic mixture in the interdendritic space. The sizes of dendrites do not exceed 3 μm.

Недостатком данного способа является ограничение по размерам получаемых образцов.The disadvantage of this method is the limitation on the size of the resulting samples.

Известен способ нанесения износостойких покрытий на основе алюминия и оксида иттрия на силумин (RU 2727376 С1, 21.07.2020). На первом этапе композиционное покрытие Y2O3-Al наносится методом электровзрывного легирования. Второй этап обработки заключается в воздействии интенсивным импульсным электронным пучком на получившееся многокомпонентное покрытие. Поверхность модифицирована по режиму с энергией электронов 17 кэВ, количеством импульсов N=3 имп, с длительностью импульса пучка электронов τ=140-160 мкс, с плотностью энергии пучка электронов ES=25-35 Дж/см2. Что приводит к легированию поверхности материала и увеличению механических характеристик.A known method of applying wear-resistant coatings based on aluminum and yttrium oxide on silumin (RU 2727376 C1, 21.07.2020). At the first stage, the Y 2 O 3 -Al composite coating is deposited by electroexplosive alloying. The second stage of processing consists in the impact of an intense pulsed electron beam on the resulting multicomponent coating. The surface is modified according to the mode with an electron energy of 17 keV, the number of pulses N=3 pulses, with an electron beam pulse duration τ=140-160 μs, with an electron beam energy density E S =25-35 J/cm 2 . This leads to alloying of the surface of the material and an increase in mechanical characteristics.

Основным недостатком данной технологии является использование легирующего элемента и метод его напыления, что добавляет дополнительную технологическую операцию и приводит к удорожанию технологии.The main disadvantage of this technology is the use of an alloying element and the method of its deposition, which adds an additional technological operation and leads to an increase in the cost of technology.

Известен способ модификации структуры заэвтектического силумина (Al-44Si) путем воздействия компрессионными плазменными потоками (В.И. Шиманский, А. Евдокимов, В.В. Углов, Н.Н. Черенда, В.М. Асташинский, A.M. Кузьмицкий, Н.В. Бибик, Е.А. Петрикова. Модификация структуры заэвтектического сплава силумина Al-44Si при воздействии компрессионных плазменных потоков // Плазмохимические способы получения и обработки материалов. - 2021. - №1. - С. 40-50). Образцы заэвтектического силумина, с содержанием кремния 44 ат.% обрабатывались с помощью магнитоплазменного компрессора компактной геометрии в остаточной атмосфере азота (давление остаточной атмосферы 400 Па). Размер кристаллитов кремния составлял 0,3 мкм.A known method of modifying the structure of hypereutectic silumin (Al-44Si) by exposure to compression plasma flows (V.I. Shimansky, A. Evdokimov, V.V. Uglov, N.N. Cherenda, V.M. Astashinsky, A.M. Kuzmitsky, N. V. Bibik, E. A. Petrikova Modification of the structure of the hypereutectic alloy of silumin Al-44Si under the influence of compression plasma flows // Plasma-chemical methods for obtaining and processing materials. - 2021. - No. 1. - P. 40-50). Samples of hypereutectic silumin with a silicon content of 44 at.% were processed using a magnetoplasma compressor of compact geometry in a residual nitrogen atmosphere (pressure of the residual atmosphere 400 Pa). The size of silicon crystallites was 0.3 μm.

Толщина переплавленного слоя составила до 60 мкм. Выявлено снижение содержания кремния в поверхностном слое до 15-16 ат.%.The thickness of the remelted layer was up to 60 µm. A decrease in the silicon content in the surface layer to 15-16 at.% was revealed.

Недостатком способа является низкий уровень повторяемости результатов модифицирования, являющийся следствием слабо контролируемого изменения параметров плазмы при данном способе обработки.The disadvantage of this method is the low level of repeatability of the results of the modification, which is the result of poorly controlled changes in plasma parameters with this method of processing.

Прототипом изобретения является способ модифицирования силумина марки АК12 импульсным электронным пучком с энергией 18 кэВ, частотой следования импульсов 0,3 Гц, длительностью импульса пучка электронов 150 мкс, плотностью энергии пучка электронов 10-25 Дж/см2 и количеством импульсов воздействия 1-5, при этом цель является обработка трещин (RU 2666817 С1, 10.04.2018).The prototype of the invention is a method of modifying silumin brand AK12 with a pulsed electron beam with an energy of 18 keV, a pulse repetition rate of 0.3 Hz, an electron beam pulse duration of 150 μs, an electron beam energy density of 10-25 J/cm 2 and the number of exposure pulses 1-5, while the goal is the treatment of cracks (RU 2666817 C1, 04/10/2018).

Недостатком данного способа является малая толщина модифицированного слоя, которая составляет до 50 мкм, что не дает возможность устранения микротрещин, залегающих на более глубоких толщинах поверхностного слоя. Нет возможности спрогнозировать сохранения эффекта при увеличении содержания кремния.The disadvantage of this method is the small thickness of the modified layer, which is up to 50 μm, which makes it impossible to eliminate microcracks occurring at deeper thicknesses of the surface layer. There is no way to predict the preservation of the effect with increasing silicon content.

Задачей изобретения является повышение качества силуминового сплава за счет улучшения структуры поверхностного слоя.The objective of the invention is to improve the quality of the silumin alloy by improving the structure of the surface layer.

Техническим результатом предлагаемого изобретения является увеличение модифицированного поверхностного слоя заэвтектического силумина с конечной целью повышения его твердости, износостойкости и снижения коэффициента трения при сохранении процентного содержания кремния.The technical result of the invention is to increase the modified surface layer of hypereutectic silumin with the ultimate goal of increasing its hardness, wear resistance and reducing the coefficient of friction while maintaining the percentage of silicon.

Заявленное технологическое решение осуществляется за счет обработки поверхности заэвтектического силумина марки АК20 импульсным электронным пучком субмиллисекундной длительности воздействия с энергией ускоренных электронов 18 кэВ плотностью энергии пучка электронов 30-70 Дж/см2, частотой следования импульсов 0,3 с-1, длительностью импульсов воздействия пучка электронов 150 мкс, количеством импульсов облучения 3, в остаточной атмосфере аргона при давлении 0,02 Па.The claimed technological solution is carried out by treating the surface of hypereutectic silumin grade AK20 with a pulsed electron beam of submillisecond duration of exposure with an energy of accelerated electrons of 18 keV, an energy density of an electron beam of 30-70 J/cm 2 , a pulse repetition rate of 0.3 s -1 , and a pulse duration of the beam exposure electrons 150 μs, the number of irradiation pulses 3, in the residual atmosphere of argon at a pressure of 0.02 Pa.

Обработка импульсным электронным пучком приводит к высокоскоростному плавлению поверхностного слоя, формированию, на стадии охлаждения, структуры высокоскоростной кристаллизации ячеистого типа, размер ячеек соответствует размеру кристаллитов до 0,3 мкм, изменению морфологии кремния от хрупкой пластинчатой к глобулярной, а также позволяет достигнуть толщину модифицированного слоя до 130 мкм.Processing with a pulsed electron beam leads to high-speed melting of the surface layer, the formation, at the cooling stage, of a structure of high-speed crystallization of a cellular type, the cell size corresponds to a crystallite size of up to 0.3 μm, a change in silicon morphology from brittle lamellar to globular, and also makes it possible to achieve the thickness of the modified layer up to 130 microns.

Пример выполнения заявленного изобретения.An example of the claimed invention.

В качестве испытуемого материала был выбран заэвтектический силумин АК20 (Al-20 вес.% Si). В качестве источника генерации электронов был предложен плазменный катод с сеточной стабилизацией. Облучение поверхности силумина АК20 происходило при энергии ускоренных электронов 18 кэВ, плотности энергии пучка электронов 30-70 Дж/см2, частоте следования импульсов 0,3 с-1, длительности воздействия пучка электронов 150 мкс, количестве импульсов облучения 3. Облучение производили в аргоне при остаточном давлении 0,02 Па.Hypereutectic silumin AK20 (Al-20 wt.% Si) was chosen as the test material. A grid-stabilized plasma cathode was proposed as a source of electron generation. The surface of silumin AK20 was irradiated at an accelerated electron energy of 18 keV, an electron beam energy density of 30–70 J/cm 2 , a pulse repetition rate of 0.3 s -1 , an electron beam exposure duration of 150 μs, and a number of irradiation pulses of 3. Irradiation was performed in argon at a residual pressure of 0.02 Pa.

После обработки поверхности силумина импульсным электронным пучком субмиллисекундной длительности воздействия за счет высоких скоростей нагрева и охлаждения происходит измельчение первичных зерен кремния и их переплав, структура становиться однородной. Содержание кремния в поверхностном слое остается постоянным и составляет 20 вес.%.After processing the surface of silumin with a pulsed electron beam of submillisecond exposure due to high heating and cooling rates, primary silicon grains are crushed and remelted, the structure becomes homogeneous. The silicon content in the surface layer remains constant and amounts to 20 wt.%.

На фиг. 1 показано электронно-микроскопическое изображение структуры включений кремния силумина в литом состоянии (а, б) и после облучения импульсным электронным пучком (30 Дж/см2, 150 мкс, 0,3 с-1, 3 имп) (в); б, в - изображения, полученные в характеристическом рентгеновском излучении атомов кремния. Просвечивающая электронная микроскопия (метод STEM анализа). Выявлено преобразование кремния пластинчатой морфологии в глобулярную, образование структуры ячеистой кристаллизации твердого раствора на основе алюминия (размер ячеек до 300 нм). По границам ячеек располагаются частицы наноразмерного кремния.In FIG. 1 shows an electron microscopic image of the structure of silumin silicon inclusions in the cast state (a, b) and after irradiation with a pulsed electron beam (30 J/cm 2 , 150 μs, 0.3 s -1 , 3 pulses) (c); b, c - images obtained in the characteristic X-ray radiation of silicon atoms. Transmission electron microscopy (STEM analysis method). The transformation of silicon of lamellar morphology into globular morphology, the formation of a structure of cellular crystallization of an aluminum-based solid solution (cell size up to 300 nm) is revealed. At the boundaries of the cells, particles of nanosized silicon are located.

На фиг. 2 показано изменение толщины модифицированного слоя в зависимости от плотности энергии электронов. Толщина модифицированного слоя изменяется от 40 до 130 мкм.In FIG. 2 shows the change in the thickness of the modified layer depending on the electron energy density. The thickness of the modified layer varies from 40 to 130 µm.

Элементный анализ участка фольги показал, что химический состав модифицируемого материала остается постоянным до и после обработки импульсным электронным пучком (таблица 1).Elemental analysis of the foil section showed that the chemical composition of the material being modified remains constant before and after treatment with a pulsed electron beam (Table 1).

Таким образом, предложенный способ позволяет получить субмикрокристаллическую структуру поверхностного слоя с размером кристаллитов не более 300 нм, увеличить толщину модифицированного слоя до 130 мкм с сохранением концентрации кремния.Thus, the proposed method makes it possible to obtain a submicrocrystalline structure of the surface layer with a crystallite size of no more than 300 nm, to increase the thickness of the modified layer to 130 μm while maintaining the silicon concentration.

Figure 00000001
Figure 00000001

Claims (1)

Способ модифицирования заэвтектического силумина марки АК20, включающий высокоскоростное плавление поверхностного слоя образца импульсным электронным пучком энергией ускоренных электронов 18 кэВ, частотой следования импульсов 0,3 с-1 и длительностью воздействия импульса пучка электронов 150 мкс, в количестве импульсов облучения 3 в остаточной атмосфере аргона при давлении 0,02 Па, отличающийся тем, что плавление проводят пучком электронов с плотностью энергии пучка 30-70 Дж/см2.A method for modifying hypereutectic silumin grade AK20, including high-speed melting of the surface layer of the sample by a pulsed electron beam with an energy of accelerated electrons of 18 keV, a pulse repetition rate of 0.3 s -1 and an exposure duration of an electron beam pulse of 150 μs, in the number of irradiation pulses 3 in a residual argon atmosphere at pressure of 0.02 Pa, characterized in that the melting is carried out by an electron beam with a beam energy density of 30-70 J/cm 2 .
RU2022108420A 2022-03-29 Method for modifying hypereutectic silumin grade ak20 RU2778984C1 (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2778984C1 true RU2778984C1 (en) 2022-08-29

Family

ID=

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009510256A (en) * 2005-09-23 2009-03-12 ユー.アイ.ティー., エル.エル.シー. Method of improving metal performance and protecting from deterioration and its suppression by ultrasonic impact
RU2666817C2 (en) * 2016-10-10 2018-09-12 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский государственный индустриальный университет" Method for modifying silumins
RU2746265C1 (en) * 2020-11-18 2021-04-12 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН) Electron beam generation method for electron beam treatment of metal materials surface
WO2021168068A1 (en) * 2020-02-19 2021-08-26 Novelis Inc. Metal alloy surface modification methods and related metal alloy products with improved bond durability

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009510256A (en) * 2005-09-23 2009-03-12 ユー.アイ.ティー., エル.エル.シー. Method of improving metal performance and protecting from deterioration and its suppression by ultrasonic impact
RU2666817C2 (en) * 2016-10-10 2018-09-12 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский государственный индустриальный университет" Method for modifying silumins
WO2021168068A1 (en) * 2020-02-19 2021-08-26 Novelis Inc. Metal alloy surface modification methods and related metal alloy products with improved bond durability
RU2746265C1 (en) * 2020-11-18 2021-04-12 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН) Electron beam generation method for electron beam treatment of metal materials surface

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Zheng et al. Microstructure and wear property of laser cladding Al+ SiC powders on AZ91D magnesium alloy
Uglov et al. Formation of hardened layer in WC–TiC–Co alloy by treatment of high intensity pulse ion beam and compression plasma flows
Hiraga et al. Fabrication of NiTi intermetallic compound coating made by laser plasma hybrid spraying of mechanically alloyed powders
Mahanty Surface modification of Al–Si alloy by excimer laser pulse processing
Nikolenko et al. Nanostructuring a steel surface by electrospark treatment with new electrode materials based on tungsten carbide
Krishtal et al. Effects of silica nanoparticles addition on formation of oxide layers on AlSi alloy by plasma electrolytic oxidation: The origin of stishovite under ambient conditions
Zhang et al. Microstructures and properties in surface layers of Mg-6Zn-1Ca magnesium alloy laser-clad with Al-Si powders
RU2778984C1 (en) Method for modifying hypereutectic silumin grade ak20
Nikolenko Surface nanostructuring of steel 35 by electrospark machining with electrodes based on tungsten carbide and added Al2O3 nanopowder
RU2621198C2 (en) Production method of reinforced nanocomposit material based on magnesium
Pyachin et al. Formation of intermetallic coatings by electrospark deposition of titanium and aluminum on a steel substrate
Konovalov et al. Dispersion of al-si alloy structure by intensive pulsed electron beam
Chen et al. The effect of ultrasonic treatment on microstructural and mechanical properties of cast magnesium alloys
Ivanov et al. Structural-phase state and the properties of silumin after electron-beam surface treatment
Bannaravuri et al. Effect of laser surface melting on surface integrity of Al− 4.5 Cu composites reinforced with SiC and MoS2
Abboud et al. Microstructures of titanium-aluminides produced by laser surface alloying
Gromov et al. Evolution of the structure and properties of AK10M2N silumin under irradiation with a high-intensity pulsed electron beam
Ivanov et al. Surface layer of commercially pure VT1-0 titanium after electric-explosion alloying and subsequent treatment by a high-intensity pulsed electron beam
Zhang et al. Selective laser melting of Al6061 alloy: Processing, microstructure, and mechanical properties
Rygina et al. Strength characteristics of hypereutectic silumin after electron beam modification
Gabriel et al. Cavitation erosion of laser quenched Fe-aluminum bronze
Sari et al. Alloying of carbon steel surface by tantalum using compression plasma flow
Mola et al. Microstructure and properties of AZ31 with an Al/Si-enriched surface layer fabricated through thermochemical treatment
Ashurova et al. Surface modification of hypereutectic silumin subjected to a millisecond modulated electron beam treatment
RU2762446C1 (en) Method for treatment of silumin ak5m2 surface layer