RU2650090C1 - Фотопреобразователь ультрафиолетового диапазона - Google Patents
Фотопреобразователь ультрафиолетового диапазона Download PDFInfo
- Publication number
- RU2650090C1 RU2650090C1 RU2016142211A RU2016142211A RU2650090C1 RU 2650090 C1 RU2650090 C1 RU 2650090C1 RU 2016142211 A RU2016142211 A RU 2016142211A RU 2016142211 A RU2016142211 A RU 2016142211A RU 2650090 C1 RU2650090 C1 RU 2650090C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- temperature
- diamond
- photoconverter
- converter
- type
- Prior art date
Links
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/09—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области преобразования вакуумного ультрафиолетового излучения (ВУФ) в электричество и регистрации ВУФ излучения. Предложен высокотемпературный фотопреобразователь ультрафиолетового диапазона, содержащий чувствительный элемент на основе синтетического алмаза, при этом конструкция преобразователя содержит гомоэпитаксиальную структуру, представляющую собой подложку из НРНТ алмаза р-типа, сильно легированного бором, с нанесенной алмазной CVD-пленкой типа IIa толщиной ~10 мкм, и дополнительно введенный нагревающий элемент для обеспечения рабочей температуры УФ преобразователя до температуры 300°C. Изобретение обеспечивает расширение УФ-диапазона фотовольтаического преобразователя в сторону коротких волн до 170 нм. 1 ил.
Description
Изобретение относится к полупроводниковым приборам, а именно к области преобразования ВУФ (вакуумного ультрафиолетового излучения) в электричество, и может быть использовано для измерения ВУФ излучения в диапазоне длин волн 170-200 нм.
Известен полупроводниковый фотопреобразователь [1]. Недостатком этого фотопреобразователя является невозможность его работы в диапазоне длин волн излучения менее 220 нм.
Известна конструкция фотовольтаического приемника ультрафиолетового диапазона [2]. Фотовольтаический приемник содержит алмазную подложку в виде пластины с нанесенными на нее металлическими контактами. На подложку из природного алмаза с концентрацией азота 1×1019 см-3 методом напыления в вакууме наносятся контакты из алюминия с подслоем титана.
Функционирование фотовольтаического приемника на основе алмаза, полученного описанным выше способом, основано на разделении носителей на контакте металл - полупроводник. Один из типов разделенных носителей накапливается в потенциальной яме, создаваемой внешним источником напряжения под электродом диода Шоттки. Недостатком этого фотовольтаического приемника является то, что на длинах волн ~170 нм чувствительный элемент будет иметь значительное поглощение УФ-излучения в тонком слое не более 30 нм.
Задачей и техническим результатом данного изобретения является расширение УФ-диапазона фотовольтаического преобразователя в сторону коротких волн до 170 нм.
Технический результат достигается тем, что в состав фотопреобразователя входит алмазная гомоэпитаксиальная структура и дополнительно введенный нагревающий элемент, для обеспечения работы алмазной структуры при температуре 300°C. Гомоэпитаксиальная структура фотоэлектрического преобразователя (ФЭП) представляет собой подложку из HPHT (HighPressureHighTemperature) алмаза p-типа сильно легированного бором, на которую нанесена алмазная CVD-пленка (ChemicalVaporDeposition) типа IIa толщиной ~10 мкм. На чертеже изображен высокотемпературный фотопреобразователь, где 1 - фотопреобразователь, содержащий гомоэпитаксильную структуру, 2 - нагревающий элемент.
Нагрев фотопреобразователя до температуры 300°C обеспечивает большую концентрацию носителей в слое p-типа для компенсации эффекта вытеснения электрического поля из области поглощения излучения в алмазной CVD-пленке.
Источники информации
1. Сычик В.А. Фотовольтаический преобразователь. Патент BY №2080690, H01L 31/04. Опубл. 27.05.1997.
2. Алтухов А.А. Фотовольтаический приемник ультрафиолетового диапазона на основе алмаза. Патент RU №2270494, H01L 31/18. Опубл. 31.07.2003.
Claims (1)
- Высокотемпературный фотопреобразователь ультрафиолетового диапазона, содержащий чувствительный элемент на основе синтетического алмаза, отличающийся тем, что конструкция преобразователя содержит гомоэпитаксиальную структуру, представляющую собой подложку из НРНТ алмаза р-типа, сильно легированного бором, с нанесенной алмазной CVD-пленкой типа IIa толщиной ~10 мкм, и дополнительно введенный нагревающий элемент для обеспечения рабочей температуры УФ преобразователя до температуры 300°C.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2016142211A RU2650090C1 (ru) | 2016-10-27 | 2016-10-27 | Фотопреобразователь ультрафиолетового диапазона |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2016142211A RU2650090C1 (ru) | 2016-10-27 | 2016-10-27 | Фотопреобразователь ультрафиолетового диапазона |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2650090C1 true RU2650090C1 (ru) | 2018-04-06 |
Family
ID=61867212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2016142211A RU2650090C1 (ru) | 2016-10-27 | 2016-10-27 | Фотопреобразователь ультрафиолетового диапазона |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2650090C1 (ru) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11248531A (ja) * | 1998-03-04 | 1999-09-17 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド膜紫外線センサ及びセンサアレイ |
| RU2270794C2 (ru) * | 2001-08-16 | 2006-02-27 | Рексам Беверидж Кэн Компани | Крышка банки |
| JP2009188222A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | National Institute For Materials Science | ダイヤモンド紫外線センサー素子とその製造方法、紫外線センサー装置、ダイヤモンド単結晶の処理方法 |
| US20100090226A1 (en) * | 2005-08-01 | 2010-04-15 | National Institute For Materials Science | Diamond uv-ray sensor |
| RU2426144C1 (ru) * | 2010-02-03 | 2011-08-10 | Михаил Сергеевич Афанасьев | Многоспектральный фотоприемник |
| RU134700U1 (ru) * | 2013-08-12 | 2013-11-20 | ООО "Производственно-технологический центр "УралАлмазИнвест" | Двухспектральный алмазный гибридный фотоприемник |
-
2016
- 2016-10-27 RU RU2016142211A patent/RU2650090C1/ru active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11248531A (ja) * | 1998-03-04 | 1999-09-17 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド膜紫外線センサ及びセンサアレイ |
| RU2270794C2 (ru) * | 2001-08-16 | 2006-02-27 | Рексам Беверидж Кэн Компани | Крышка банки |
| US20100090226A1 (en) * | 2005-08-01 | 2010-04-15 | National Institute For Materials Science | Diamond uv-ray sensor |
| JP2009188222A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | National Institute For Materials Science | ダイヤモンド紫外線センサー素子とその製造方法、紫外線センサー装置、ダイヤモンド単結晶の処理方法 |
| RU2426144C1 (ru) * | 2010-02-03 | 2011-08-10 | Михаил Сергеевич Афанасьев | Многоспектральный фотоприемник |
| RU134700U1 (ru) * | 2013-08-12 | 2013-11-20 | ООО "Производственно-технологический центр "УралАлмазИнвест" | Двухспектральный алмазный гибридный фотоприемник |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Kim et al. | Ultrahigh deep-UV sensitivity in graphene-gated β-Ga2O3 phototransistors | |
| Wang et al. | All-oxide NiO/Ga2O3 p–n junction for self-powered UV photodetector | |
| Zheng et al. | Vacuum-ultraviolet photovoltaic detector | |
| Wong et al. | High photovoltaic quantum efficiency in ultrathin van der Waals heterostructures | |
| Chen et al. | Self-powered solar-blind photodetector with fast response based on Au/β-Ga2O3 nanowires array film Schottky junction | |
| Li et al. | Ultrahigh sensitivity graphene/nanoporous GaN ultraviolet photodetectors | |
| Gao et al. | Unique and tunable photodetecting performance for two-dimensional layered MoSe2/WSe2 p–n junction on the 4H-SiC substrate | |
| Wi et al. | Enhancement of photovoltaic response in multilayer MoS2 induced by plasma doping | |
| Nogay et al. | Silicon-rich silicon carbide hole-selective rear contacts for crystalline-silicon-based solar cells | |
| Foisal et al. | 3C-SiC/Si heterostructure: an excellent platform for position-sensitive detectors based on photovoltaic effect | |
| Mitta et al. | Gate-modulated ultrasensitive visible and near-infrared photodetection of oxygen plasma-treated WSe2 lateral pn-homojunctions | |
| Yaffe et al. | Molecular electronics at metal/semiconductor junctions. Si inversion by sub-nanometer molecular films | |
| Li et al. | Indirect band gap emission by hot electron injection in metal/MoS2 and metal/WSe2 heterojunctions | |
| Retamal et al. | Concurrent improvement in photogain and speed of a metal oxide nanowire photodetector through enhancing surface band bending via incorporating a nanoscale heterojunction | |
| Huang et al. | Realization of a self-powered InGaZnO MSM UV photodetector using localized surface fluorine plasma treatment | |
| Ma et al. | High-photoresponsivity self-powered a-, ε-, and β-Ga2O3/p-GaN heterojunction UV photodetectors with an in situ GaON layer by MOCVD | |
| CN108281493B (zh) | 二硒化钨和金属垂直型肖特基结自驱动光电探测器及制备 | |
| Aftab et al. | WSe2 homojunction p–n diode formed by photoinduced activation of mid-gap defect states in boron nitride | |
| Aydın et al. | P3HT–graphene bilayer electrode for Schottky junction photodetectors | |
| Urcuyo et al. | Hot carrier extraction from multilayer graphene | |
| Kelley et al. | Photovoltaic and photoconductive action due to PbS quantum dots on graphene/SiC Schottky diodes from NIR to UV | |
| Varshney et al. | Ga2O3/GaN heterointerface-based self-driven broad-band ultraviolet photodetectors with high responsivity | |
| Liu et al. | Self-powered solar-blind UV detectors based on O-terminated vertical diamond Schottky diode with low dark current, high detectivity, and high signal-to-noise ratio | |
| Vura et al. | Monolithic epitaxial integration of β-Ga2O3 with 100 Si for deep ultraviolet photodetectors | |
| Uppalapati et al. | An AlGaN/GaN dual channel triangular microcantilever based UV detector |