RU2648311C2 - Method of insulation for mounting of flip chips - Google Patents

Method of insulation for mounting of flip chips Download PDF

Info

Publication number
RU2648311C2
RU2648311C2 RU2016132921A RU2016132921A RU2648311C2 RU 2648311 C2 RU2648311 C2 RU 2648311C2 RU 2016132921 A RU2016132921 A RU 2016132921A RU 2016132921 A RU2016132921 A RU 2016132921A RU 2648311 C2 RU2648311 C2 RU 2648311C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
crystal
substrate
contact
tape
solder
Prior art date
Application number
RU2016132921A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2016132921A (en
Inventor
Виктор Васильевич Зенин
Андрей Анатольевич Стоянов
Анатолий Александрович Колбенков
Виталий Владимирович Побединский
Никита Владимирович Рогозин
Original Assignee
Акционерное общество "Научно-исследовательский институт электронной техники"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Акционерное общество "Научно-исследовательский институт электронной техники" filed Critical Акционерное общество "Научно-исследовательский институт электронной техники"
Priority to RU2016132921A priority Critical patent/RU2648311C2/en
Publication of RU2016132921A publication Critical patent/RU2016132921A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2648311C2 publication Critical patent/RU2648311C2/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

FIELD: electrical engineering.
SUBSTANCE: use: for assembling three-dimensional integrated circuits (ICs) of 3D BIS. Invention consists in the fact that the insulation method for flip chips mounting includes an assembly, on which crystals with contact columns and substrates with metallization on contact areas from solder of a given thickness arrive, an adhesive tape is placed between the crystal and the substrate, having holes, the pattern of which is a mirror image of the arrangement of the contact columns on the crystal, when assembled, the contact posts of the crystal through the holes in the tape are combined with the solder of the contact pads on the substrate, then the brazing is carried out in a vacuum, when heated to the soldering temperature and the pressure on the crystal, the solder is melted, thus, the soldering of the entire surface of the contact columns of the crystal takes place, as a result of which the gap between the contact posts and the holes in the adhesive tape is filled, and since the thickness of the tape is commensurable with the distance between the crystal and the substrate, then under pressure of the crystal and at the soldering temperature, a tight banding of the tape occurs with the surfaces of the crystal and the substrate, which eliminates not only the spreading of solder on the surfaces of the crystal and the substrate and a short circuit between the contacts of the device, but also the formation of pores on the border of the tape with the soldered surfaces of the crystal and substrate.
EFFECT: technical result: providing the possibility of increasing the heat dissipation from the crystal to the substrate.
4 cl, 2 dwg

Description

Изобретение относится к области микроэлектроники, в частности сборки трехмерных интегральных схем (ИС) 3D БИС. Одной из основных операций в производстве ИС 3D БИС является присоединение кристаллов с объемными выводами к основаниям корпусов или подложек методом «flip -chip». Основу метода перевернутого кристалла составляют контактные столбики, располагаемые на металлизированных контактных площадках кристаллов.The invention relates to the field of microelectronics, in particular the assembly of three-dimensional integrated circuits (IC) 3D LSI. One of the main operations in the production of 3D BIS ICs is the attachment of crystals with volumetric leads to the bases of cases or substrates by the flip-chip method. The inverted crystal method is based on contact poles located on metallized contact pads of crystals.

Кристаллы монтируют на основание корпусов или подложек планарной стороной. При этом рисунок их контактных площадок является зеркальным отображением расположения выводов (технология «flip - chip»).The crystals are mounted on the base of the housings or substrates with the planar side. At the same time, the drawing of their contact pads is a mirror image of the location of the terminals (flip-chip technology).

Надежность ИС 3D БИС, изготовленных с использованием технологии «flip - chip», в значительной степени зависит от материала, нанесенного под кристалл между его лицевой поверхностью и подложкой. На последней стадии сборки полупроводниковых изделий пространство между кристаллом заполняется «заливкой» - непроводящим адгезивом, соединяющим всю поверхность кристалла с подложкой. «Заливка» выполняет функцию защиты контактных столбиков от влаги и прочих компонентов атмосферы, обеспечивает дополнительную механическую прочность соединения «кристалл - подложка».The reliability of 3D IC LSIs manufactured using the flip-chip technology, largely depends on the material deposited under the crystal between its front surface and the substrate. At the last stage of the assembly of semiconductor products, the space between the crystal is filled with "filling" - a non-conductive adhesive that connects the entire surface of the crystal to the substrate. "Filling" performs the function of protecting contact columns from moisture and other components of the atmosphere, provides additional mechanical strength of the connection "crystal - substrate".

Известен [1] способ монтажа кристалла методом «flip - chip», при котором на кристалле формируют выступы (контактные столбики) из золота с покрытием припоем In-Sn. Монтаж выполняют нагревом до температуры, не превышающей температуру плавления припоя. Затем в зазор между кристаллом и подложкой вводят (проводят «заливку») термопласт и осуществляют вторично термообработку для обеспечения надежного механического соединения кристалла с подложкой.There is a known [1] method of mounting a crystal by the flip-chip method, in which protrusions (contact posts) are formed on the crystal from gold coated with In-Sn solder. Installation is carried out by heating to a temperature not exceeding the melting point of the solder. Then, thermoplastic is introduced (“filled”) into the gap between the crystal and the substrate and heat treatment is performed a second time to ensure reliable mechanical connection of the crystal with the substrate.

Основным недостатком данного способа является двойная операция нагрева, что повышает себестоимость выпускаемых приборов. Кроме того, при данном способе монтажа всегда присутствуют пустоты, особенно на границе с контактными столбиками. Известно, что максимальная площадь соединения кристалла с подложкой будет в том случае, если вся его поверхность будет смочена термопластом. В действительности, полностью заполнить термопластом пространство между кристаллом и подложкой не удается. Этому мешает воздух, уплотняемый в замкнутом пространстве в неровностях (выступах). Давление воздуха уравновешивается внешним давлением, что препятствует проникновению термопласта вглубь неровностей.The main disadvantage of this method is the double heating operation, which increases the cost of manufactured devices. In addition, with this installation method, voids are always present, especially at the border with the contact posts. It is known that the maximum area of the connection of the crystal with the substrate will be in the event that its entire surface is moistened with a thermoplastic. In fact, it is not possible to completely fill the space between the crystal and the substrate with thermoplastic. This is prevented by air being sealed in a confined space in irregularities (protrusions). The air pressure is balanced by external pressure, which prevents the penetration of the thermoplastic deep into irregularities.

Наличие пустот уменьшает теплоотвод от кристалла к подложке собранного изделия при эксплуатации.The presence of voids reduces the heat removal from the crystal to the substrate of the assembled product during operation.

С целью уменьшения (исключения) пор в зазоре «кристалл - подложка» целесообразно пайку проводить в вакууме.In order to reduce (eliminate) the pores in the "crystal - substrate" gap, it is advisable to solder in a vacuum.

Повысить надежность паяных соединений компонентов с шариковыми выводами (BGA, CSP) рекомендуется [2] с помощью технологии Underfilling. Сущность данной технологии заключается в заполнении пространства под кристаллом между шариковыми контактами полимерным материалом с последующим его отверждением. Утверждается, что за счет подобранных коэффициентов линейного расширения материалов полимерная заливка (Underfilling) значительно сокращает термомеханическую нагрузку на паяное соединение, а также герметизирует пространство под кристаллом.It is recommended [2] to improve the reliability of soldered connections of components with ball terminals (BGA, CSP) using Underfilling technology. The essence of this technology is to fill the space under the crystal between the ball contacts with a polymer material and then cure it. It is argued that due to the selected coefficients of linear expansion of materials, polymer filling (Underfilling) significantly reduces the thermomechanical load on the soldered joint, and also seals the space under the crystal.

Основной недостаток данной технологии - наличие пустот в пространстве под кристаллом между шариковыми контактами, что снижает теплоотвод от кристалла к подложке.The main disadvantage of this technology is the presence of voids in the space under the crystal between the ball contacts, which reduces the heat removal from the crystal to the substrate.

Задача, на решение которой направлено заявляемое решение - это снижение себестоимости выпускаемых изделий и повышение теплоотвода от кристалла к подложке. Эта задача достигается тем, что между кристаллом и подложкой размещают клейкую ленту, имеющую отверстия, рисунок которых является зеркальным отображением расположения контактных столбиков на кристалле, при сборке контактные столбики кристалла через отверстия в ленте совмещают с припоем контактных площадок на подложке, затем проводят пайку в вакууме, при нагреве до температуры пайки и давлении на кристалл припой расплавляется, при этом происходит смачивание припоем всей поверхности контактных столбиков кристалла, в результате этого происходит заполнение зазора между контактными столбиками и отверстиями в клеящей ленте, а т.к. толщина ленты соизмерима с расстоянием между кристаллом и подложкой, то под давлением кристалла и при температуре пайки происходит плотное соединение ленты с поверхностями кристалла и подложки, что исключает не только растекание припоя по поверхностям кристалла и подложки и короткое замыкание между контактами прибора, но и образование пор на границе ленты с паяемыми поверхностями кристалла и подложки.The problem to which the claimed solution is directed is to reduce the cost of manufactured products and increase the heat removal from the crystal to the substrate. This task is achieved by the fact that an adhesive tape having holes is placed between the crystal and the substrate, the pattern of which is a mirror image of the location of the contact columns on the crystal, during assembly, the contact columns of the crystal through holes in the tape are combined with the solder pads on the substrate, then soldering in vacuum , when heated to soldering temperature and pressure on the crystal, the solder melts, and the entire surface of the contact columns of the crystal is wetted by solder, as a result of which oiskhodit filling of the gap between the bumps and holes in the adhesive tape, and since the thickness of the tape is commensurate with the distance between the crystal and the substrate, then under the pressure of the crystal and at the soldering temperature there is a tight connection of the tape with the surfaces of the crystal and the substrate, which excludes not only the spreading of solder on the surfaces of the crystal and the substrate and short circuit between the contacts of the device, but also the formation of pores on the border of the tape with soldered surfaces of the crystal and the substrate.

Сравнение заявляемого способа изоляции при монтаже перевернутых кристаллов с другими способами [1, 2] из известного уровня техники также не позволило выявить в них признаки, заявляемые в отличительной части формулы.Comparison of the proposed method of isolation during the installation of inverted crystals with other methods [1, 2] from the prior art also did not reveal the signs claimed in the characterizing part of the formula.

Сущность изобретения поясняется чертежами, на которых схематично изображены:The invention is illustrated by drawings, which schematically depict:

на фиг. 1 - фрагмент схемы сборки кристалла с подложкой перед пайкой;in FIG. 1 is a fragment of an assembly diagram of a crystal with a substrate before soldering;

на фиг. 2 - фрагмент схемы соединения кристалла с подложкой с помощью разработанного способа.in FIG. 2 is a fragment of a circuit for connecting a crystal to a substrate using the developed method.

Способ изоляции при монтаже перевернутых кристаллов реализуется следующим образом.The isolation method during the installation of inverted crystals is implemented as follows.

На сборку поступают готовые кристаллы 1 с контактными столбиками 2 (фиг. 1), например, из золота на лицевой поверхности кристалла 1. Золотые контактные столбики формируют на контактных площадках кристалла 1 в составе пластины при помощи одной из модификаций метода термокомпрессионной сварки «шариком», применяющегося при формировании проволочного соединения из золота встык. При этом на верхней части шарика остается заостренный выступ (участок обрыва проволоки).Ready crystals 1 with contact columns 2 (Fig. 1), for example, made of gold on the front surface of crystal 1, enter the assembly. Gold contact columns are formed on the contact pads of crystal 1 as a part of the plate using one of the modifications of the thermocompression ball welding method, used in the formation of a butt joint of gold butt At the same time, on the upper part of the ball remains a pointed protrusion (a section of wire break).

При традиционном методе создания контактных столбиков на кристалле из золотой проволоки применяется деформация заостренного выступа на контактном столбике из золота с применением механического давления. Данная операция необходима для создания плоской поверхности и выравнивания высоты всех контактных столбиков, расположенных на кристалле.In the traditional method of creating contact columns on a crystal of gold wire, deformation of a pointed protrusion on a contact column of gold using mechanical pressure is used. This operation is necessary to create a flat surface and level the height of all contact posts located on the chip.

Между кристаллом 1 и подложкой 3 размещают клеящую ленту 4, имеющую отверстия 5, рисунок которых является зеркальным отображением расположения контактных столбиков 2 на кристалле 1. Лента 4 типа 3М изготовлена в соответствии с системой качества и зарегистрирована стандартом ISO 9001.An adhesive tape 4 having holes 5 is placed between the crystal 1 and the substrate 3, the pattern of which is a mirror image of the location of the contact posts 2 on the crystal 1. The tape 4 of type 3M is made in accordance with the quality system and registered with ISO 9001.

Подложку 3 изготавливают отдельно, на подложке сформирована металлизация на контактных площадках 6 из припоя 7 заданной толщины. Толщину припоя на контактных площадках подложки выбирают в зависимости от высоты контактных столбиков на кристалле, толщины ленты и зазора между контактным столбиком кристалла и отверстием в клейкой ленте.The substrate 3 is made separately, metallization is formed on the substrate on the contact pads 6 from the solder 7 of a given thickness. The thickness of the solder on the contact pads of the substrate is chosen depending on the height of the contact posts on the chip, the thickness of the tape and the gap between the contact pillar of the crystal and the hole in the adhesive tape.

При сборке контактные столбики 2 кристалла 1 через отверстия 5 в клейкой ленте 4 совмещают с припоем 7, размещенным на контактной площадке 6 подложки 3 (фиг. 2). После сборки прибор помещают на подставку в вакуумной камере, нагревают до температуры плавления припоя и одновременно прикладывают внешнее давление на кристалл. При нагреве до температуры пайки и соответствующем давлении на кристалл припой 7 расплавляется. При этом происходит смачивание припоем всей поверхности контактного столбика 2 и заполнение зазора между контактным столбиком 2 и отверстием 5 в клеящей ленте 4, образуя герметичное паяное соединение 8 между кристаллом 1 и подложкой 3. Происходит плотное соединение ленты 4 с поверхностями 9 кристалла и 10 подложки с отсутствием в соединительном зазоре между кристаллом и подложкой воздушных прослоек в виде пор. Отсутствие пор в соединительном зазоре между кристаллом и подложкой повышает теплоотвод от кристалла к подложке.When assembling, the contact posts 2 of the crystal 1 through holes 5 in the adhesive tape 4 are combined with solder 7 located on the contact pad 6 of the substrate 3 (Fig. 2). After assembly, the device is placed on a stand in a vacuum chamber, heated to the melting temperature of the solder and at the same time external pressure is applied to the crystal. When heated to a soldering temperature and the corresponding pressure on the crystal, the solder 7 melts. In this case, the entire surface of the contact column 2 is wetted with solder and the gap between the contact column 2 and the hole 5 in the adhesive tape 4 is filled, forming a sealed solder joint 8 between the crystal 1 and the substrate 3. A tight connection of the tape 4 with the surfaces 9 of the crystal and 10 of the substrate with the absence in the connecting gap between the crystal and the substrate of air gaps in the form of pores. The absence of pores in the connecting gap between the crystal and the substrate increases the heat transfer from the crystal to the substrate.

На основании вышеизложенного сделано заключение, что использование предлагаемого способа изоляции при монтаже перевернутых кристаллов обеспечивает по сравнению с существующими способами следующие преимущества:Based on the foregoing, it was concluded that the use of the proposed insulation method during the installation of inverted crystals provides the following advantages compared to existing methods:

1. Снижается себестоимость выпускаемых изделий;1. The cost of manufactured products is reduced;

2. Повышается теплоотвод от кристалла к подложке.2. The heat sink from the crystal to the substrate increases.

Источники информацииInformation sources

1. Полупроводниковый прибор и способ его изготовления со сборкой по методу перевернутого кристалла. Semiconductor device utilizing a face - down bonding and a method for manufacturing the same: Пат.5071787 США, МКИ5 H01L 22/44 / Mori Miki, Saito Masayuki; К.K, Toshiba. - №477504; Заявл. 09.02.90; Опубл. 10.12.91.1. Semiconductor device and method of its manufacture with assembly by the inverted crystal method. Semiconductor device utilizing a face - down bonding and a method for manufacturing the same: US Pat. 5071787 USA, MKI 5 H01L 22/44 / Mori Miki, Saito Masayuki; K.K., Toshiba. - No. 477504; Claim 02/09/90; Publ. 12/10/91.

2. Новиков А. Конференция «Совершенствование производства радиоэлектронной аппаратуры с использованием смешанных и бессвинцовых технологий пайки [Текст] / А. Новиков // Технологии в электронной промышленности, 2009. №4, с.14.2. Novikov A. Conference “Improving the production of electronic equipment using mixed and lead-free soldering technologies [Text] / A. Novikov // Technologies in the electronic industry, 2009. No. 4, p.14.

Claims (4)

1. Способ изоляции при монтаже перевернутых кристаллов, включающий сборку, на которую поступают кристаллы с контактными столбиками и подложки с металлизацией на контактных площадках из припоя заданной толщины, заключающийся в том, что между кристаллом и подложкой размещают клейкую ленту, имеющую отверстия, рисунок которых является зеркальным отображением расположения контактных столбиков на кристалле, при сборке контактные столбики кристалла через отверстия в ленте совмещают с припоем контактных площадок на подложке, затем проводят пайку в вакууме, при нагреве до температуры пайки и давлении на кристалл припой расплавляется, при этом происходит смачивание припоем всей поверхности контактных столбиков кристалла, в результате этого происходит заполнение зазора между контактными столбиками и отверстиями в клеящей ленте, а т.к. толщина ленты соизмерима с расстоянием между кристаллом и подложкой, то под давлением кристалла и при температуре пайки происходит плотное соединение ленты с поверхностями кристалла и подложки, что исключает не только растекание припоя по поверхностям кристалла и подложки и короткое замыкание между контактами прибора, но и образование пор на границе ленты с паяемыми поверхностями кристалла и подложки.1. The method of isolation during installation of inverted crystals, including the assembly, which receives crystals with contact columns and substrates with metallization on contact pads from solder of a given thickness, which consists in the fact that an adhesive tape is placed between the crystal and the substrate, which has holes, the figure of which is mirroring the location of the contact columns on the crystal, during assembly, the contact columns of the crystal through the holes in the tape are combined with the solder of the contact pads on the substrate, then the aiku in vacuum, when heated to the soldering temperature and pressure on the crystal, the solder melts, and the entire surface of the contact columns of the crystal is wetted with solder, as a result of which the gap between the contact columns and the holes in the adhesive tape is filled, since the thickness of the tape is commensurate with the distance between the crystal and the substrate, then under the pressure of the crystal and at the soldering temperature there is a tight connection of the tape with the surfaces of the crystal and the substrate, which excludes not only the spreading of solder on the surfaces of the crystal and the substrate and short circuit between the contacts of the device, but also the formation of pores on the border of the tape with soldered surfaces of the crystal and the substrate. 2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что используют клейкую ленту типа 3М между кристаллом и подложкой.2. The method according to p. 1, characterized in that they use type 3M adhesive tape between the crystal and the substrate. 3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что толщину припоя на контактных площадках подложки выбирают в зависимости от высоты контактных столбиков на кристалле, толщины ленты и зазора между контактным столбиком кристалла и отверстием в клейкой ленте.3. The method according to p. 1, characterized in that the thickness of the solder on the contact pads of the substrate is selected depending on the height of the contact columns on the crystal, the thickness of the tape and the gap between the contact column of the crystal and the hole in the adhesive tape. 4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что, с целью уменьшения (исключения) пор в зазоре «кристалл - подложка», пайку проводят в вакууме.4. The method according to p. 1, characterized in that, in order to reduce (exclude) the pores in the "crystal - substrate" gap, the soldering is carried out in vacuum.
RU2016132921A 2016-08-09 2016-08-09 Method of insulation for mounting of flip chips RU2648311C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016132921A RU2648311C2 (en) 2016-08-09 2016-08-09 Method of insulation for mounting of flip chips

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016132921A RU2648311C2 (en) 2016-08-09 2016-08-09 Method of insulation for mounting of flip chips

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2016132921A RU2016132921A (en) 2018-02-12
RU2648311C2 true RU2648311C2 (en) 2018-03-23

Family

ID=61227441

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016132921A RU2648311C2 (en) 2016-08-09 2016-08-09 Method of insulation for mounting of flip chips

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2648311C2 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3680198A (en) * 1970-10-07 1972-08-01 Fairchild Camera Instr Co Assembly method for attaching semiconductor devices
US4749120A (en) * 1986-12-18 1988-06-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of connecting a semiconductor device to a wiring board
US4970577A (en) * 1988-04-12 1990-11-13 Hitachi, Ltd. Semiconductor chip module
US5071787A (en) * 1989-03-14 1991-12-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device utilizing a face-down bonding and a method for manufacturing the same
US5111279A (en) * 1989-08-28 1992-05-05 Lsi Logic Corp. Apparatus for isolation of flux materials in "flip-chip" manufacturing
WO2009035201A1 (en) * 2007-09-10 2009-03-19 Electronics And Telecommunications Research Institute Survivor locating method and apparatus using search and rescue beacon equipped with navigation chipset

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3680198A (en) * 1970-10-07 1972-08-01 Fairchild Camera Instr Co Assembly method for attaching semiconductor devices
US4749120A (en) * 1986-12-18 1988-06-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of connecting a semiconductor device to a wiring board
US4970577A (en) * 1988-04-12 1990-11-13 Hitachi, Ltd. Semiconductor chip module
US5071787A (en) * 1989-03-14 1991-12-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device utilizing a face-down bonding and a method for manufacturing the same
US5111279A (en) * 1989-08-28 1992-05-05 Lsi Logic Corp. Apparatus for isolation of flux materials in "flip-chip" manufacturing
WO2009035201A1 (en) * 2007-09-10 2009-03-19 Electronics And Telecommunications Research Institute Survivor locating method and apparatus using search and rescue beacon equipped with navigation chipset

Also Published As

Publication number Publication date
RU2016132921A (en) 2018-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW501208B (en) Semiconductor device and manufacturing method of the same
KR101661442B1 (en) Stud bump structure for semiconductor package assemblies
US6373142B1 (en) Method of adding filler into a non-filled underfill system by using a highly filled fillet
US8222748B2 (en) Packaged electronic devices having die attach regions with selective thin dielectric layer
US20090014852A1 (en) Flip-Chip Packaging with Stud Bumps
JPH11312712A (en) Semiconductor device and its manufacture
JP2003332521A (en) Semiconductor device and manufacturing method therefor
US7391119B2 (en) Temperature sustaining flip chip assembly process
JP2007109790A (en) Flip-chip semiconductor device
US20150221570A1 (en) Thin sandwich embedded package
WO2010134230A1 (en) Semiconductor device and method for manufacturing same
RU2648311C2 (en) Method of insulation for mounting of flip chips
JP2002232123A (en) Manufacturing method of composite circuit substrate
KR100674501B1 (en) Method for attaching semiconductor chip using flip chip bonding technic
JP2000208675A (en) Semiconductor device and its manufacture
JPH11168116A (en) Electrode bump for semiconductor chip
JPH10154726A (en) Semiconductor device and its manufacture
JP3539528B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2001015641A (en) Connection structure and connection method of electronic component
JP2002110715A (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP4876882B2 (en) Flip chip mounting method
KR20080061969A (en) Semiconductor package and method for manufacturing semiconductor package
JP2000156386A (en) Connection structure and connection method of semiconductor device and semiconductor device package using the same
JP2015070187A (en) Semiconductor device and manufacturing method of the same
JPH10233417A (en) Semiconductor device and its manufacture