RU2638797C1 - Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей - Google Patents

Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей Download PDF

Info

Publication number
RU2638797C1
RU2638797C1 RU2016149852A RU2016149852A RU2638797C1 RU 2638797 C1 RU2638797 C1 RU 2638797C1 RU 2016149852 A RU2016149852 A RU 2016149852A RU 2016149852 A RU2016149852 A RU 2016149852A RU 2638797 C1 RU2638797 C1 RU 2638797C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
discharge
discharge chamber
gas
sensitive surfaces
axial
Prior art date
Application number
RU2016149852A
Other languages
English (en)
Inventor
Александр Михайлович Астафьев
Анатолий Анатольевич Кудрявцев
Ольга Михайловна Степанова
Original Assignee
Александр Михайлович Астафьев
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Александр Михайлович Астафьев filed Critical Александр Михайлович Астафьев
Priority to RU2016149852A priority Critical patent/RU2638797C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2638797C1 publication Critical patent/RU2638797C1/ru

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/14Plasma, i.e. ionised gases
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/2406Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано для плазменной обработки термочувствительных поверхностей, стерилизации, а также для дезинфекции раневых поверхностей и стимулирования процессов их заживления. Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей содержит разрядную камеру (1), выполненную из диэлектрического материала, систему подачи и контроля газа (2), осевой электрод (3), который продет через изолирующую трубку (4) и установлен внутри разрядной камеры (1) герметичным держателем (5), заземленный кольцевой электрод (6), закрепленный на цилиндрической диэлектрической втулке (7), которая вставлена в разрядную камеру (1). При этом источник переменного напряжения (8) подключен через ограничивающий величину тока резистор (9) и резистор обратной связи (10) к разрядному промежутку между осевым (3) и заземленным кольцевым (6) электродами, а также соединен с модулятором выходного напряжения (11). Изобретение обеспечивает эффективную обработку термочувствительных поверхностей за счет повышения стабильности параметров разряда, а также существенное снижение себестоимости за счет упрощения конструкции устройства. 3 з.п. ф-лы, 3 ил., 2 пр.

Description

Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей относится к плазменной технике и плазмохимии и может быть использовано для плазменной обработки термочувствительных поверхностей, стерилизации, а также для дезинфекции раневых поверхностей и стимулирования процессов их заживления.
Известны газоразрядные устройства высокого давления для получения низкотемпературной плазмы, которые основаны на разных принципах работы. Чаще всего эти устройства воздействуют на обрабатываемую поверхность непосредственно разрядом [1-3] (с пропусканием тока через обрабатываемую поверхность).
Недостатком этих устройств является сильная зависимость эффективности воздействия как от расстояния до поверхности, так и от ее проводимости.
Описанное в [4] устройство воздействует на обрабатываемую поверхность продуктами тлеющего разряда постоянного тока, выдуваемыми из разрядной ячейки (без пропускания тока через обрабатываемую поверхность). Это позволяет не только избежать вредного воздействия высокой температуры, но также исключить влияние проводимости обрабатываемого объекта. Однако эффективность воздействия на поверхность резко снижается с увеличением расстояния, так как выдуваемые продукты разряда быстро распадаются. При непосредственной близости разрядной ячейки к обрабатываемой поверхности существует опасность «перекидывания» разряда на нее. Кроме того, в описанном устройстве применяется тлеющий разряд постоянного тока, который при атмосферном давлении имеет очень высокую плотность тока, что в свою очередь ведет к сильному нагреванию электродов разрядной ячейки и снижает надежность устройства в целом.
Известно устройство для получения холодной плазмы атмосферного давления [5], являющееся наиболее близким по решаемой задаче и принятое в качестве прототипа. Данный прототип воздействует на обрабатываемую поверхность низкотемпературной плазмой барьерного разряда. Общим у известного устройства и заявляемого изобретения является наличие системы напуска газа, источника переменного напряжения и разрядной камеры для зажигания барьерного разряда. К недостаткам известного прототипа можно отнести достаточно сложное исполнение разрядной камеры, которая содержит систему изолированных друг от друга электродов. Такую разрядную камеру нельзя применить для достаточно широкого диапазона частот, что связано с изменением ее импеданса при изменении частоты питающего напряжения. Кроме того, в известном прототипе изменение мощности разряда производится путем изменения величины (амплитуды) напряжения источника. Это приводит к изменению длины выдуваемой струи и впоследствии к неоднородному ее воздействию на обрабатываемую поверхность.
Техническим результатом заявленного изобретения является расширение функциональных возможностей устройства - обеспечение эффективной обработки термочувствительных поверхностей за счет повышения стабильности параметров разряда. Кроме того, техническим результатом заявленного изобретения является существенное упрощение конструкции устройства.
Технический результат заявленного изобретения достигается путем использования модулятора-прерывателя, который модулирует низкочастотными (0.1-10 кГц) прямоугольными импульсами с изменяемой скважностью сигнал источника переменного напряжения частотой 10-1000 кГц. Такая форма питающего разрядную ячейку напряжения позволяет менять в широких приделах ток разряда при неизменной длине выдуваемой плазменной струи.
Кроме того, технический результат достигается тем, что цепь питания содержит резистор обратной связи, который подключен к модулятору. Такая обратная связь при приближении или отдалении обрабатываемой поверхности относительно разрядной ячейки стабилизирует ток разряда и предотвращает контракцию плазменной струи с последующим формированием высокотемпературной дуги при малых расстояниях от разрядной ячейки. Эта функция стабилизации тока разряда может быть необходима при работе с некоторыми газами (аргон и др.).
Кроме того, технический результат достигается тем, что цилиндрическая диэлектрическая втулка, на которой установлен заземленный кольцевой электрод, подвижно соединена с разрядной камерой. Путем перемещения втулки вдоль оси камеры (центрального электрода) можно изменять геометрию разрядной ячейки для настройки параметров выдуваемой плазменной струи. Такая конструкция способствует тому, что основной ток разряда идет через кольцевой электрод (более 90% от общего значения), а не через обрабатываемую поверхность. Это позволяет снизить зависимость параметров плазменной струи как от проводимости обрабатываемой поверхности, так и от расстояния до нее.
Кроме того, технический результат достигается тем, что осевой электрод (3) подвижно установлен внутри изолирующей трубки (4). Перемещением осевой электрода внутри изолирующей трубки (вдоль оси разрядной камеры) можно изменять межэлектродную емкость и настраивать разрядную ячейку для разных частот питающего напряжения.
Сущность заявляемого изобретения поясняется Фиг. 1, Фиг. 2 и Фиг. 3
На Фиг. 1 представлена схема газоразрядного устройства для обработки термочувствительных поверхностей.
На Фиг. 2 представлена зависимость длины плазменной струи от коэффициента заполнения модулирующего сигнала.
На Фиг. 3 представлена зависимость длины плазменной струи от амплитуды питающего напряжения.
Заявленное изобретение (Фиг. 1) содержит разрядную камеру (1), выполненную из диэлектрического материала, систему подачи и контроля газа (2), осевой электрод (3), который продет через изолирующую трубку (4) и установлен внутри разрядной камеры (1) герметичным держателем (5), заземленный кольцевой электрод (6), закрепленный на цилиндрической диэлектрической втулке (7), которая подвижно вставлена в разрядную камеру (1), источник переменного напряжения (8), подключенный через ограничивающий величину тока резистор (9) и резистор обратной связи (10) к разрядному промежутку между осевым (3) и заземленным кольцевым (6) электродами, соединен с модулятором выходного напряжения (11).
На Фиг. 2 представлены зависимости напряжения на разряде от времени для четырех значений коэффициента заполнения (90, 50, 20 и 10%) модулирующих импульсов, а также изображениям разряда, соответствующим этим четырем случаям. Данная иллюстрация показывает, что длина генерируемой плазменной струи почти не изменяется при уменьшении коэффициента заполнения модулирующих импульсов от 90 до 10% и постоянном значении амплитуды питающего напряжения. Это соответствует оптимальному режиму работы заявляемого устройства, когда изменение вкладываемой в разряд мощности, пропорциональной коэффициенту заполнения модулирующих импульсов, не приводит к изменению структуры плазменной струи.
На Фиг. 3 представлена зависимость длины плазменной струи от амплитуды питающего напряжения (для 2, 1.8 и 1.4 кВ). Данная зависимость показывает, что длина генерируемой плазменной струи уменьшается примерно в три раза при понижении амплитуды выходного напряжения менее чем в 1.5 раза.
Работа заявляемого изобретения осуществляется следующим образом. Сначала необходимо осуществить напуск рабочего газа в разрядную камеру (1) системой подачи и контроля газа (2) от внешнего источника (баллона или централизованной магистрали) и включить источник переменного напряжения (8). В разрядной камере (1) загорится барьерный разряд, а на выходе из нее сформируется плазменная струя, температура которой почти не отличается от температуры окружающего пространства. Настройку динамики струи (например, с целью обеспечения ламинарного характера ее выхода из разрядной камеры (1)) следует производить перемещением цилиндрической диэлектрической втулки (7) с заземленным кольцевым электродом (6) относительно оси разрядной камеры (1), а также перемещением центрального электрода (3) внутри изолирующей трубки (4). Путем изменения коэффициента заполнения модулирующих импульсов модулятора (11) можно отрегулировать среднеквадратичное значение тока разряда (выходную мощность). При необходимости можно установить ограничение величины тока разряда настройкой резистора обратной связи (10).
В результате экспериментов было подтверждено достижение указанного технического результата: расширение функциональных возможностей устройства - обеспечение эффективной обработки термочувствительных поверхностей за счет повышения стабильности параметров разряда.
Тестовые режимы работы газоразрядного устройства для обработки термочувствительных поверхностей следующие:
В приведенных ниже тестовых режимах работы устройства в качестве рабочего газа использовался гелий. Амплитуда напряжения источника питания варьировалась от 1.4 до 2.5 кВ, а его рабочая частота составляла 100 кГц.
Пример 1
Амплитуда напряжения источника питания (8) не изменяется. Меняется коэффициент заполнения модулирующих импульсов прямоугольной формы, генерируемых модулятором (11). По представленным на Фиг. 2 зависимостям напряжения на разряде от времени для четырех значений коэффициента заполнения (90, 50, 20 и 10%) модулирующих импульсов, а также изображениям разряда, соответствующим этим четырем случаям, видно, что длина плазменной струи практически не изменяется и составляет примерно 30 мм. Лишь при значении коэффициента заполнения 10%, когда вкладываемая в разряд мощность уменьшается почти в десять раз, длина струи уменьшается только на 3 мм (или на 10% от общей ее длины). Этот режим работы заявленного устройства является наиболее оптимальным. В результате экспериментов при данном режиме работы устройства было подтверждено достижение указанного технического результата.
Пример 2
Коэффициент заполнения модулирующих импульсов не изменяется. Амплитуда напряжения источника питания (8) изменяется от 2 до 1.4 кВ. В данном случае (Фиг. 3) можно видеть сокращение длины разрядной струи с 20 до 7 мм. Данный режим работы устройства не является оптимальным, поскольку в этом случае изменение мощности разряда сопровождается изменением длины плазменной струи, что может привести к неоднородному воздействию на обрабатываемую поверхность.
Эффективность работы заявленного устройства по воздействию на термочувствительные поверхности была апробирована на колониях бактерий, выращенных на поверхности агар-агара. Воздействие плазменной струей приводило к гибели бактерий на обрабатываемой поверхности, а также к появлению зон инактивации роста их числа. Последующие исследования электронной микроскопией зон обработки показали нетепловой характер воздействия плазменной струи на бактерии.
Список использованной литературы
1. Спиров В.Г., Иванова И.П. // Устройство для воздействия на биообъект //Патент России RU 2413551, 10.03.2011.//
2. Авраменко С.В. // Устройство для обработки материалов высокочастотным электрическим разрядом // Патент России RU 2191113 С1, 20.10.2002.//
3. Абрамов О.И., Настич Ю.Н., Лащинский А.Г., Хрупкий В.И., Писаренко Л.В.
// устройство для коагуляции и стимуляции заживления раневых дефектов биологических тканей // Патент России RU 2138213, 27.09.1999.//
4. Акишев Ю.С., Грушин М.Е., Трушкин Н.И. // применение неравновесной низкотемпературной плазменной струи для стерилизации термически нестойких материалов // Патент России RU 2398598, 10.09.2010.//
5. Прототип Jan Schaefer, Stefan Horn, Ronny Brandenburg, Ruediger Foest, Manfred Stieber, Klaus-Dieter Weltmann. // Device and method for producing a cold, homogeneous plasma under atmospheric pressure conditions // United States Patent US 20140162338 A1, 12.06.2014. //

Claims (4)

1. Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей, содержащее разрядную камеру (1), выполненную из диэлектрического материала, систему подачи и контроля газа (2), осевой электрод (3), который продет через изолирующую трубку (4) и установлен внутри разрядной камеры (1) герметичным держателем (5), заземленный кольцевой электрод (6), закрепленный на цилиндрической диэлектрической втулке (7), которая вставлена в разрядную камеру (1), отличающееся тем, что источник переменного напряжения (8), подключенный через ограничивающий величину тока резистор (9) и резистор обратной связи (10) к разрядному промежутку между осевым (3) и заземленным кольцевым (6) электродами, соединен с модулятором выходного напряжения (11).
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что резистор обратной связи (10) подключен к модулятору выходного напряжения (11).
3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что цилиндрическая диэлектрическая втулка (7) подвижно соединена с разрядной камерой (1).
4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что осевой электрод (3) подвижно установлен внутри изолирующей трубки (4).
RU2016149852A 2016-12-19 2016-12-19 Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей RU2638797C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016149852A RU2638797C1 (ru) 2016-12-19 2016-12-19 Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016149852A RU2638797C1 (ru) 2016-12-19 2016-12-19 Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2638797C1 true RU2638797C1 (ru) 2017-12-15

Family

ID=60718951

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016149852A RU2638797C1 (ru) 2016-12-19 2016-12-19 Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2638797C1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2751547C1 (ru) * 2020-06-11 2021-07-14 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук Газоразрядное устройство для обработки плазмой при атмосферном давлении поверхности биосовместимых полимеров

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1192953A2 (en) * 2000-10-02 2002-04-03 Ethicon, Inc. Power system for sterilization systems employing low frequency plasma
EP2599506A2 (en) * 2007-11-06 2013-06-05 Microoncology Limited Applicator for microwave plasma sterilisation
RU134052U1 (ru) * 2013-03-04 2013-11-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный университет" (СПбГУ) Портативный плазменный дезинфектор для использования в экстремальных и бытовых условиях
US20140162338A1 (en) * 2011-05-31 2014-06-12 Leibniz-Institut Fuer Plasmaforschung Und Technologie E.V. Device and method for producing a cold, homogeneous plasma under atmospheric pressure conditions
RU2526810C1 (ru) * 2013-02-12 2014-08-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный университет" (СПбГУ) Плазменный дезинфектор для биологических тканей
US9192776B2 (en) * 2007-04-23 2015-11-24 Plasmology4, Inc. Harmonic cold plasma devices and associated methods

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1192953A2 (en) * 2000-10-02 2002-04-03 Ethicon, Inc. Power system for sterilization systems employing low frequency plasma
US9192776B2 (en) * 2007-04-23 2015-11-24 Plasmology4, Inc. Harmonic cold plasma devices and associated methods
EP2599506A2 (en) * 2007-11-06 2013-06-05 Microoncology Limited Applicator for microwave plasma sterilisation
US20140162338A1 (en) * 2011-05-31 2014-06-12 Leibniz-Institut Fuer Plasmaforschung Und Technologie E.V. Device and method for producing a cold, homogeneous plasma under atmospheric pressure conditions
RU2526810C1 (ru) * 2013-02-12 2014-08-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный университет" (СПбГУ) Плазменный дезинфектор для биологических тканей
RU134052U1 (ru) * 2013-03-04 2013-11-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный университет" (СПбГУ) Портативный плазменный дезинфектор для использования в экстремальных и бытовых условиях

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2751547C1 (ru) * 2020-06-11 2021-07-14 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук Газоразрядное устройство для обработки плазмой при атмосферном давлении поверхности биосовместимых полимеров

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101568380B1 (ko) 플라즈마를 이용한 피부 치료 장치
Lu et al. Atmospheric pressure nonthermal plasma sources
RU2656333C1 (ru) Плазменный прибор со сменной разрядной трубкой
US7719200B2 (en) Plasma generator
CN107427693A (zh) 利用等离子体的皮肤治疗装置
US9378933B2 (en) Apparatus for generating reactive gas with glow discharges and methods of use
KR101662160B1 (ko) 플라즈마를 이용한 피부 치료 장치
RU2705791C1 (ru) Источник неравновесной аргоновой плазмы на основе объемного тлеющего разряда атмосферного давления
RU2638569C1 (ru) Способ стерилизации газоразрядной плазмой атмосферного давления и устройство для его осуществления
RU2638797C1 (ru) Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей
Akhlaghi et al. On the design and characterization of a new cold atmospheric pressure plasma jet and its applications on cancer cells treatment
NL2024421B1 (en) Plasma Generator
KR102502074B1 (ko) 플라즈마 스택 볼륨 유전체 장벽 방전형 플라즈마 발생시스템
Ghomi et al. Investigation on a DBD plasma reactor
RU2526810C1 (ru) Плазменный дезинфектор для биологических тканей
KR102502073B1 (ko) 플라즈마 스택 볼륨 유전체 장벽 방전형 플라즈마 토치 장치
KR101870033B1 (ko) 불투명 점성 액체의 비가열 살균 유닛
CN109065433A (zh) 一种常压脉冲辅助平板射频辉光放电的装置与方法
Laroussi et al. Cold atmospheric pressure plasma sources for cancer applications
RU134052U1 (ru) Портативный плазменный дезинфектор для использования в экстремальных и бытовых условиях
KR102479754B1 (ko) 플라즈마 미용기기
KR20160139892A (ko) 브러시 타입 플라즈마 발생기를 이용한 두피 치료 장치
RU2261682C2 (ru) Способ и устройства плазменной коагуляции тканей
US20180117196A1 (en) Plasma systems driven by dc voltage and methods of using the same
JP7510037B2 (ja) 変換可能なプラズマ源および方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20181220