RU2629013C2 - Автоэмиссионный сверхвысокочастотный диод и способ его изготовления - Google Patents

Автоэмиссионный сверхвысокочастотный диод и способ его изготовления Download PDF

Info

Publication number
RU2629013C2
RU2629013C2 RU2015126750A RU2015126750A RU2629013C2 RU 2629013 C2 RU2629013 C2 RU 2629013C2 RU 2015126750 A RU2015126750 A RU 2015126750A RU 2015126750 A RU2015126750 A RU 2015126750A RU 2629013 C2 RU2629013 C2 RU 2629013C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
auto
vacuum
anode
nanosi
metal
Prior art date
Application number
RU2015126750A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2015126750A (ru
Inventor
Владимир Александрович Беспалов
Эдуард Анатольевич Ильичев
Геннадий Сергеевич Рычков
Георгий Николаевич Петрухин
Сергей Владимирович Куклев
Александр Евгеньевич Кулешов
Дмитрий Сергеевич Соколов
Наталья Викторовна Соколова
Сергей Станиславович Якушов
Original Assignee
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники" (МИЭТ)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники" (МИЭТ) filed Critical Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники" (МИЭТ)
Priority to RU2015126750A priority Critical patent/RU2629013C2/ru
Publication of RU2015126750A publication Critical patent/RU2015126750A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2629013C2 publication Critical patent/RU2629013C2/ru

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J43/00Secondary-emission tubes; Electron-multiplier tubes

Landscapes

  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Abstract

Изобретение относится к устройствам вакуумной СВЧ-электроники и может быть использовано в устройствах коммутации тока, в смесителях и в других приборах и устройствах силового сектора СВЧ-электроники. Автоэмиссионный СВЧ-диод содержит вакуумно-плотный корпус из металлокерамики, источник электронов, анод с винтовым окончанием, штенгель и электрические контакты. Вместо входного окна располагают вакуумно-плотно соединенную с корпусом металлическую заглушку, автокатод выполняют на основе гетероструктуры подложка Si-nanoSi-C-MoC либо подложка Si-nanoSi-C-графен и располагают на внутренней стороне заглушки, вытягивающий электроны электрод выполняют из металл-углеродной либо графеновой пленки и располагают между автокатодом и анодом. Технический результат - повышение однородности автоэмиссии для автокатодов большой площади. 1 ил.

Description

Изобретение относится к устройствам вакуумной СВЧ-электроники и может быть использовано в устройствах коммутации тока, в смесителях и в других приборах и устройствах силового сектора СВЧ-электроники. Известны твердотельные p-n и p-n гетеропереходные СВЧ-диоды, работа которых основана на биполярной либо монополярной инжекции носителей тока. При использовании для их изготовления широкозонных материалов, таких как арсенид галлия либо нитрид галлия и твердые растворы на их основе, эти диоды работоспособны в широком диапазоне температур (до 250°С и 350°С соответственно) и радиационных воздействий (вплоть до 107 рад), эффективны при применении в области сверхвысоких частот вплоть до 30-40 ГГц. Однако в области частот, больших 50 ГГц, эффективность твердотельных диодов резко падает, что связано с подбарьерными паразитными утечками по емкостному каналу. В области частот, больших 50 ГГц, тем более при частотах субтерагерцового и терагерцового диапазонов, вне конкуренции находятся вакуумные эмиссионные СВЧ-диоды. Катодами таких диодов, как правило, являются термокатоды, что резко снижает мобильность таких приборов и устройств на их основе [1].
Существуют вакуумные эмиссионные приборы с диодными характеристиками, но с катодом, принцип действия которого основан на автоэлектронной эмиссии [2]. Это подбарьерный механизм транспорта тока, ему свойственны уникальное быстродействие (характерные времена ~1 пс), слабая зависимость от температуры, монохроматичность энергии пучка электронов. При этом по ряду причин возможность реализовать большие величины плотности токов свойственна острийным катодам. Однако попытки заменить в вакуумных сильноточных диодах термокатоды на автоэмиссионные острийные катоды, особенно в силовом секторе СВЧ-электроники, сталкиваются с серьезными техническими проблемами. Одной из таких проблем является отсутствие острийных автокатодов, у которых большим плотностям токов соответствовали бы и большие полные анодные токи, а также незначительный рабочий ресурс. Максимальные величины полного тока составляют сегодня значения ~10-100 мА, при плотностях тока ~20 А/см2. Причина тому - значительная дисперсия аспектных отношений (как правило, высот) микроострий массива острийных автокатодов и недостаточно высокий предел текучести традиционных полупроводниковых и металлических материалов. Поэтому в процессе автоэмиссии при фиксированных напряжениях участвует, как правило, сравнительно небольшое количество микроострий (~1000-3000 штук из сотен и сотен тысяч). Попытки подключить к автоэмиссии другие острия массива автокатода простым увеличением напряжения приводят к разрушению уже автоэмиттирующих острий и включению в процесс автоэмиссии другой, столь же немногочисленной группы микроострий [3]. В [4] был предложены твердотельные автоэмиссионные диоды, острийные автокатоды которых выполнены на основе гетероструктур Si-nanoSi-алмаз-МоС и Si-nanoSi-алмаз-графен. В указанной конструкции, независимо от высоты того либо иного микроострия массива, напряженности электрического поля вблизи каждого из микроострий будут одинаковыми, так как они определяться не высотой микроострия, а постоянной толщиной алмазного слоя, расположенного между проводящим металлом и микроостриями nanoSi. Кроме того, использование алмазного слоя обладающего высокой теплопроводностью, позволяет снять тепловую нагрузку с автоэмиттирующих микроострий. Экспериментальные исследования показали, что в такой структуре полные автоэмиссионные токи с элемента площадью в 2,5×10-3 см2 составляют ~120 мА, а достигнутая плотность тока ~45-50 А/см2.
Такой подход должен быть потенциально эффективен и в вакуумном варианте автоэмиссионного СВЧ-диода. Отличие заключается лишь в том, что проводящий слой, расположенный поверх поликристаллической алмазной пленки, покрывающей массив из полупроводниковых либо алмазных микроострий, должен быть туннельно-прозрачным, для того чтобы автоэмиттированные микроостриями электроны могли пройти сквозь них к положительно смещенному аноду СВЧ-диода. В такой гетероструктуре поверх алмазного слоя может быть расположен, например, проводящий туннельно-прозрачный слой нанометровой толщины, выполненный из металл-углеродной [5, 6] либо из графеновой пленки. Исследования графеновой пленки показали, что при энергиях электронов более 100 эВ, коэффициент прозрачности графеновой пленки достигает ~90%.
Таким образом, для реализации автокатодов для СВЧ-систем большой мощности (~ в несколько киловатт) потребуются автокатоды большой плотности и с высокой степенью однородности параметров автоэмиссии с поверхности катода. При этом востребованными являются автокатоды большой площади и актуальны способы их изготовлений.
Наиболее близким - прототипом - к заявляемому изобретению по конструкции и по способу изготовления является электронно-оптический преобразователь 2+ поколения (типы ЭПМ70-Г и ЭОП 2 [7]). Конструкция ЭОП 2+ поколения включает вакуумно-плотный корпус и последовательно расположенные входное окно для оптического излучения с нанесенным на его внутреннюю плоскость фотокатодом, электроды ускоряющего промежутка, микроканальная пластина, катодолюминесцентный экран, нанесенный на волоконно-оптическую пластину, являющуюся одновременно и выходным окном корпуса ЭОП, а также геттер и электрические контакты. При изготовлении ЭОП осуществляют сборку перечисленных элементов в металлокерамическом корпусе, затем обезгаживают собранные элементы и внутреннюю поверхность корпуса, подвергая их в течение ~20 часов процедуре «тренировки», заключающейся в циклах нагрева и охлаждений в условиях высокого вакуума (~10-9 мм рт.ст.) при предельных освещенностях фотокатода, предельных значениях тока фотокатода, МКП и люминесцентного экрана; по окончании - активируют геттер. Тренировка производится при номинальных значениях напряжений на электродах.
Задачей изобретения является автоэмиссионный диод большой площади с высокой однородностью автоэмиссии с поверхности автокатода, позволяющий существенно увеличить полный эмиссионный ток при высокой мобильности устройства.
Для реализации этого предлагается конструкция, содержащая вакуумно-плотный корпус из металлокерамики, источник электронов, анод и электрические контакты, отличающаяся тем, что вместо входного окна располагают входную металлическую заглушку, соединенную с корпусом штенгелем из бескислородной меди, вместо фотокатода располагают автокатод, между автокатодом и анодом расположен вытягивающий электроны электрод, а затем анод, который выполнен из металла и имеет винтовое окончание для крепления конструкции к радиатору.
Способ изготовления автоэмиссионного СВЧ-диода, включающий сборку элементов диода в корпус и дегазацию корпуса, отличается тем, что проводится «тренировка» при предельных амплитудах импульсов питающих напряжений при температуре, превышающей температуру второй критической точки выделения паров воды в условиях термического обезгаживания, затем производится активация геттера и затем холодная герметизация.
При этом перед проведением «тренировки» через штенгель производят откачку атмосферного газа из изделия в процессе его обезгаживания, после чего производится холодная герметизация посредством «откуса» медного штенгеля. Сам же процесс «тренировки» проводится в процессе обезгаживания автоэмиссионного СВЧ-диода, выполняется по аналогии с циклами отжига ЭОП 2+ поколений типа ЭПМ70-Г и ЭОП 2 и поколения типа ЭП-10 и, с целью обеспечения долговечности изделия, проводится при предельных амплитудах импульсов питающих напряжений и при температуре, превышающей температуру второй критической точки выделения паров воды при термическом обезгаживании. По окончании тренировки производится активация геттера и только потом холодная герметизация («откус» штенгеля).
На Фиг. 1 представлена заявляемая конструкция вакуумного СВЧ-диода. Он состоит из вакуумно-плотного корпуса 1, последовательно расположенных острийного автокатода 2, вытягивающего электроны электрода 3, анода 4, имеющего винтовое окончание для крепления, геттера 5, входной металлической заглушки 6 и штенгеля 7.
Корпус 1 может быть выполнен из металлокерамики; острийный автокатод 2 - выполнен на основе нанокристаллических алмазных пленок [2] либо на основе упомянутых выше гетероструктур Si-nanoSi-C-MoC или Si-nanoSi-C-графен. Вытягивающий электроны электрод 3 выполнен из металл-углеродной либо графеновой пленки, анод 4 - из металла (например, ковар), а штенгель 7 - из бескислородной меди.
Работа предлагаемого устройства осуществляется следующим образом (Фиг. 1). Между вытягивающим элктродом 3 и поверхностью автокатода 2 создается разность потенциалов, (например, минус на автокатоде), достаточная для реализации автоэмиссии (среднее поле в промежутке 1-10 В/мкм). Электрический потенциал на аноде 4 должен превышать величину электрического потенциала на электроде 3, вытягивающем электроны из автокатода. Геттер 5 необходим для финальной «очистки» объема корпуса и расположенных в корпусе 1 элементов от остаточной атмосферы, которая выполняется после завершения процессов циклических откачек атмосферы и дегазации активных элементов и внутренней поверхности корпуса. Ожидание положительного результата от использования предложенной конструкции обусловлено следующими факторами. Исследование автокатода на основе гетероструктур Si-nanoSi-C-MoC (толщина слоя металл-углеродной пленки, МоС, не превышала 10 нм) показало высокую степень однородности автоэмисссии уже на ранней стадии ее развития (~350 мА с площади 3,5 см2). А изучение автоэмиссии пары nanoSi-алмаз, с использованием гетероструктуры Si-nanoSi-C-металл [4] показало, что с каждой мезаструктуры площадью - 2,5×10-3 см2 можно снять полный ток ~120 мА, при плотности тока с каждой мезаструктуры - 45-50 А/см2.
Предложенный подход, по сравнению с существующими, позволяет нивелировать отрицательное воздействие дисперсии высот микроострий на снимаемые токи с поверхности автокатодов. Это позволяет одновременно поставить в автоэмиссионные условия доминирующее количество микроострий и существенно повысить эффективность острийного автокатода. Наши экспериментальные исследования в твердотельном варианте автоэмиссионного СВЧ-диода показали, что указанный подход позволяет повысить величину полного тока снимаемого с поверхности автокатода на три порядка (в 1000 раз).
Использованная информация
1. Добрецов Л.Н., Гомоюнова М.В. Эмиссионная электроника, М.: Наука, 1966, с. 117.
2. K. Subramanian, et al. Vanderbilt University. Final Report Backgated Diamond Field Tip Array Cathodes for 220 GHr TWT Under Contract W911NF-08-C-0052, December 29, 2009.
3. Tatsumi, A. Veda, Y. Seki, et al. Fabrication of Highly Uniform Diamond Electron Emitter Devices, SEI Technical Review, N64, April 2007, 15-20.
4. V.A. Bespalov, E.A. Il'ichev*, A.E. Kuleshov, D.M. Migunov, R.M. Nabiev, G.N. Petrukhin, G.S. Rychkov, O.A. Sakharov, and Yu. V. Shcherbinin. // Technical Physics, 2014, Vol. 59, No. 10, pp. 1531-1535.
5. L.P. Sidorov, V.K. Dmitriev, V.N. Inkin. // Patent to be publicher in Russian, 2000103496, 25-02-2000.
6. V.K. Dmitriev, V.N. Inkin, E.A. Ilʺichev, and others // Diamond and related materials, 10, p. 1007-1010, 2001.
7. Куклев С.В., Соколов Д.С., Зайдель И.Н. Электронно-оптические преобразователи. М. НИИ ЭПР, 2004, 188 с. - Прототип.

Claims (1)

  1. Автоэмиссионный СВЧ-диод, содержащий вакуумно-плотный корпус из металлокерамики, источник электронов, анод с винтовым окончанием, штенгель и электрические контакты, отличающийся тем, что вместо входного окна располагают вакуумно-плотно соединенную с корпусом металлическую заглушку, автокатод выполняют на основе гетероструктуры подложка Si-nanoSi-C-MoC либо подложка Si-nanoSi-C-графен и располагают на внутренней стороне заглушки, вытягивающий электроны электрод выполняют из металл-углеродной либо графеновой пленки и располагают между автокатодом и анодом.
RU2015126750A 2015-07-06 2015-07-06 Автоэмиссионный сверхвысокочастотный диод и способ его изготовления RU2629013C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015126750A RU2629013C2 (ru) 2015-07-06 2015-07-06 Автоэмиссионный сверхвысокочастотный диод и способ его изготовления

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015126750A RU2629013C2 (ru) 2015-07-06 2015-07-06 Автоэмиссионный сверхвысокочастотный диод и способ его изготовления

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015126750A RU2015126750A (ru) 2017-01-12
RU2629013C2 true RU2629013C2 (ru) 2017-08-24

Family

ID=58449225

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015126750A RU2629013C2 (ru) 2015-07-06 2015-07-06 Автоэмиссионный сверхвысокочастотный диод и способ его изготовления

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2629013C2 (ru)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5442193A (en) * 1994-02-22 1995-08-15 Motorola Microelectronic field emission device with breakdown inhibiting insulated gate electrode
RU2046439C1 (ru) * 1993-03-10 1995-10-20 Государственное научно-производственное предприятие "Исток" Микроэлектронный свч-триод
RU2089001C1 (ru) * 1996-02-29 1997-08-27 Закрытое акционерное общество "Техно-ТМ" Источник электронов и способ его изготовления
EP2711968A2 (en) * 2005-03-31 2014-03-26 Hamamatsu Photonics K. K. Photomultiplier

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2046439C1 (ru) * 1993-03-10 1995-10-20 Государственное научно-производственное предприятие "Исток" Микроэлектронный свч-триод
US5442193A (en) * 1994-02-22 1995-08-15 Motorola Microelectronic field emission device with breakdown inhibiting insulated gate electrode
RU2089001C1 (ru) * 1996-02-29 1997-08-27 Закрытое акционерное общество "Техно-ТМ" Источник электронов и способ его изготовления
EP2711968A2 (en) * 2005-03-31 2014-03-26 Hamamatsu Photonics K. K. Photomultiplier

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Электронные компоненты, N 5, 2005, с.117-121. *

Also Published As

Publication number Publication date
RU2015126750A (ru) 2017-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Yuan et al. A gridded high-compression-ratio carbon nanotube cold cathode electron gun
US9224570B2 (en) Vacuum encapsulated, high temperature diamond amplified cathode capsule and method for making same
CN103632911A (zh) 离子源器件和方法
Li et al. Beam test of a novel CNT cathode-based electron gun assembled in a TWT
CN102420088B (zh) 一种背栅极式可栅控冷阴极x射线管
Rocha et al. Evaluating the performance of a carbon-epoxy capillary cathode and carbon fiber cathode in a sealed-tube vircator under UHV conditions
Shesterkin Operating emission characteristics of various types of field-emission cathodes
Ulisse et al. Study of the influence of transverse velocity on the design of cold cathode-based electron guns for terahertz devices
RU2629013C2 (ru) Автоэмиссионный сверхвысокочастотный диод и способ его изготовления
CN104078293B (zh) 一种场发射电子源及其制备方法
Kang et al. Nanodiamond lateral VFEM technology for harsh environments
Subramanian et al. Field emission devices for advanced electronics comprised of lateral nanodiamond or carbon nanotube emitters
Ulisse et al. Electrostatic beam focusing of carbon nanotubes electron source
Wang et al. Systematic study of hydrogenation in a diamond amplifier
CN104599926B (zh) 负电子亲和势冷阴极x射线管
Cheng et al. A compact X-ray generator using a nanostructured field emission cathode and a microstructured transmission anode
Kalibjian A phototube using a semiconductor diode as the multiplier element
Bespalov et al. Development and investigation of a field emission medium for autocathodes of mobile power microwave devices
CN109860002B (zh) 一种太赫兹真空三极管及其制造方法
CN113990724A (zh) 一种全二维真空管及制备方法
Li et al. A Cascade Electron Source Based on Series Horizontal Tunneling Junctions
US9305734B2 (en) Semiconductor device for electron emission in a vacuum
Rughoobur et al. Arrays of Si field emitter individually regulated by Si nanowires high breakdown voltages and enhanced performance
Sawa et al. Development of a UHV-compatible Low-energy Electron Gun using the Photoelectric Effect
US6856080B2 (en) Carbonized resin coated anode