RU2625728C1 - High-temperature surface ionization source - Google Patents

High-temperature surface ionization source Download PDF

Info

Publication number
RU2625728C1
RU2625728C1 RU2016103208A RU2016103208A RU2625728C1 RU 2625728 C1 RU2625728 C1 RU 2625728C1 RU 2016103208 A RU2016103208 A RU 2016103208A RU 2016103208 A RU2016103208 A RU 2016103208A RU 2625728 C1 RU2625728 C1 RU 2625728C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
source
surface ionization
ionization source
hole
ionization
Prior art date
Application number
RU2016103208A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Илья Николаевич Новиков
Андрей Александрович Павлов
Владимир Николаевич Пантелеев
Ирина Борисовна Савватимова
Антон Андреевич Ясколко
Original Assignee
Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом")
Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "ЛУЧ" (ФГУП "НИИ НПО "ЛУЧ")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом"), Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "ЛУЧ" (ФГУП "НИИ НПО "ЛУЧ") filed Critical Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом")
Priority to RU2016103208A priority Critical patent/RU2625728C1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2625728C1 publication Critical patent/RU2625728C1/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/26Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field effect ion sources, thermionic ion sources

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

FIELD: physics.
SUBSTANCE: high-temperature surface ionization source made of a single-crystal material with a body-centered cubic lattice is provided with a cylindrical through hole, which is made along the crystallographic direction [111] of the single crystal. As a single-crystal material with a body-centered cubic lattice, materials from a number of refractory materials, such as: tungsten, tantalum, molybdenum, vanadium, can be chosen.
EFFECT: increasing the efficiency of the surface ionization source without increasing its operating temperature and geometric dimensions.
3 cl

Description

Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано для получения пучков ионов при разделении изотопов или масс-спектрометрии.The invention relates to vacuum technology and can be used to obtain ion beams in the separation of isotopes or mass spectrometry.

Для получения пучков ионов в целях, к примеру, ядерной медицины используют различные методы ионизации, но наиболее распространенным и простым для реализации является метод поверхностной ионизации. Суть его состоит в том, что при попадании атомов на поверхность металла часть из них испаряется в виде нейтральных частиц, а часть - в виде положительных ионов.To obtain ion beams for purposes, for example, nuclear medicine, various ionization methods are used, but the surface ionization method is the most common and simple to implement. Its essence is that when atoms hit the metal surface, part of them evaporates in the form of neutral particles, and part in the form of positive ions.

Как известно, степень поверхностной ионизации описывается уравнением Саха-Ленгмюра [Л.Н. Добрецов, М.В. Гомоюнова. Эмиссионная электроника. М.: «Наука», 1966 г., 564 с.]:As you know, the degree of surface ionization is described by the Sakha-Langmuir equation [L.N. Dobretsov, M.V. Gomoyunova. Emission electronics. M .: "Science", 1966, 564 pp.]:

Figure 00000001
Figure 00000001

где α - степень поверхностной ионизации, равная:where α is the degree of surface ionization equal to:

Figure 00000002
Figure 00000002

na - доля атомов, испарившихся с поверхности в виде нейтральных атомов; np - в виде положительных ионов; gp/ga - отношение статистических весов ионного и атомного состояния ионизирующихся частиц; ϕ - работа выхода материала, с поверхности которого испаряются атомы; Vi - потенциал ионизации атома.n a is the fraction of atoms evaporated from the surface in the form of neutral atoms; n p - in the form of positive ions; g p / g a is the ratio of the statistical weights of the ionic and atomic state of ionizing particles; ϕ is the work function of the material from the surface of which atoms evaporate; V i is the ionization potential of the atom.

Из уравнения видно, что степень ионизации тем больше, чем больше разность работы выхода ионизатора и потенциала ионизации атомов (ϕ-Vi), стоящая в числителе экспоненты.It can be seen from the equation that the degree of ionization is greater, the greater is the difference between the work function of the ionizer and the atomic ionization potential (ϕ-V i ), which is in the numerator of the exponent.

Известен ионный источник с поверхностной ионизацией, выполненный в виде трубки из поликристаллического вольфрама, в котором образование ионов происходит при попадании атомов ионизируемого вещества на разогретую внутреннюю цилиндрическую поверхность трубки [V.N. Panteleev, А.Е. Barzakh, D.V. Fedorov, F.V. Moroz, S. Yu. Orlov, M.D. Seliverstov and Yu. M. Volkov. High temperature ion sources with ion confinement. Rev. Sci. Instr., Vol 73, No. 2, February 2002, 738-740].Known ion source with surface ionization, made in the form of a tube of polycrystalline tungsten, in which the formation of ions occurs when atoms of the ionized substance get on the heated inner cylindrical surface of the tube [V.N. Panteleev, A.E. Barzakh, D.V. Fedorov, F.V. Moroz, S. Yu. Orlov, M.D. Seliverstov and Yu. M. Volkov. High temperature ion sources with ion confinement. Rev. Sci. Instr., Vol 73, No. 2, February 2002, 738-740].

Недостатком такого источника поверхностной ионизации является его относительно низкая эффективность, связанная с невысокой степенью поверхностной ионизации на поликристаллическом вольфраме, работа выхода которого составляет (4,5-4,55) эВ [B.C. Фоменко. Эмиссионные свойства материалов. Наукова думка. Киев. 1970. 134 с].The disadvantage of such a surface ionization source is its relatively low efficiency, associated with a low degree of surface ionization on polycrystalline tungsten, the work function of which is (4.5-4.55) eV [B.C. Fomenko. Emission properties of materials. Naukova Dumka. Kiev. 1970. 134 s].

Для повышения эффективности источника необходимо достигать высоких температур на внутренней поверхности вольфрамовой трубки, что, с одной стороны, приводит к снижению срока службы источника, а с другой - требует дополнительных технических средств нагрева, повышая при этом его стоимость.To increase the efficiency of the source, it is necessary to achieve high temperatures on the inner surface of the tungsten tube, which, on the one hand, leads to a decrease in the service life of the source, and on the other hand, requires additional heating means, while increasing its cost.

Наиболее близким к предлагаемому техническому решению является ионный источник с поверхностной ионизацией, выполненный в виде трубки из монокристалла вольфрама, который авторы выбрали в качестве прототипа [В.Н. Пантелеев. Эксперименты на установке ИРИС МЛК ИРИНА. Сессия научного совета ОФВЭ, 23-26 декабря 2014 г.].Closest to the proposed technical solution is an ion source with surface ionization, made in the form of a tube from a single crystal of tungsten, which the authors chose as a prototype [V.N. Panteleev. Experiments on the IRIS MLK IRINA installation. Session of the Scientific Council of HEPE, December 23-26, 2014].

Известный источник обладает повышенной по сравнению с источником из поликристаллического вольфрама эффективностью благодаря анизотропии свойств монокристалла. Однако, несмотря на то, что на внутреннюю поверхность трубки выходят грани с достаточно высокими значениями работы выхода (до 5,6 эВ), интегральная работа выхода источника существенно ниже, что связано с присутствием на внутренней поверхности трубки большого числа кристаллографических граней с низкой работой выхода. Для повышения эффективности ионизации указанный источник также требует дополнительных технических средств нагрева или увеличения длины самого ионизатора, что сказывается на его стоимости.The known source has a higher efficiency compared to a source from polycrystalline tungsten due to the anisotropy of the properties of the single crystal. However, despite the fact that faces with sufficiently high values of the work function (up to 5.6 eV) extend to the inner surface of the tube, the integral work function of the source is much lower, due to the presence of a large number of crystallographic faces with a low work function . To increase the efficiency of ionization, this source also requires additional technical means of heating or increasing the length of the ionizer itself, which affects its cost.

Задача и достигаемый при использовании изобретения технический результат - повышение эффективности источника поверхностной ионизации без увеличения его рабочей температуры и геометрических размеров, что позволяет снизить стоимость получения пучков ионов.The task and the technical result achieved by using the invention is to increase the efficiency of a surface ionization source without increasing its operating temperature and geometric dimensions, which reduces the cost of producing ion beams.

Поставленная задача решается путем выполнения высокотемпературного ионного источника поверхностной ионизации из монокристаллического материала с объемно-центрированной кубической решеткой, снабженного цилиндрическим сквозным отверстием, в котором согласно изобретению сквозное отверстие выполнено вдоль кристаллографического направления [111] монокристалла.The problem is solved by performing a high-temperature ion source of surface ionization from a single crystal material with a body-centered cubic lattice provided with a cylindrical through hole in which, according to the invention, the through hole is made along the crystallographic direction [111] of the single crystal.

В качестве монокристаллического материала с объемно-центрированной кубической решеткой выбраны материалы из ряда тугоплавких материалов, таких как вольфрам, тантал, молибден и ванадий.As a single-crystal material with a body-centered cubic lattice, materials from a number of refractory materials, such as tungsten, tantalum, molybdenum, and vanadium, were selected.

Для дополнительного повышения работы выхода поверхность сквозного отверстия снабжена оксидной пленкой, толщина которой не превышает 1 мкм.To further increase the work function, the surface of the through hole is provided with an oxide film whose thickness does not exceed 1 μm.

При расположении сквозного отверстия вдоль кристаллографического направления [111] монокристалла на внутреннюю поверхность источника выходит максимальное число граней с индексами {110}, обладающих максимальной работой выхода - (5,2-5,6) эВ.When the through hole is located along the crystallographic direction [111] of the single crystal, the maximum number of faces with indices {110} with the maximum work function of (5.2–5.6) eV emerge on the inner surface of the source.

Как подтверждают проведенные эксперименты, эффективность источника поверхностной ионизации увеличивается по сравнению с прототипом, по меньшей мере, в два раза. В частности, использование заявленного источника позволяет получать эффективность ионизации изотопов Sr более 80% при длине ионизатора до 25 мм, что обеспечивает повышенный выход изотопов и, как следствие, снижение стоимости их производства.As confirmed by the experiments, the effectiveness of the surface ionization source is increased in comparison with the prototype, at least twice. In particular, the use of the claimed source allows one to obtain an ionization efficiency of Sr isotopes of more than 80% with an ionizer length of up to 25 mm, which provides an increased yield of isotopes and, as a result, a decrease in the cost of their production.

Сведения, подтверждающие возможность осуществления изобретенияInformation confirming the possibility of carrying out the invention

Высокотемпературный источник поверхностной ионизации выполнен в виде трубы из монокристаллического вольфрама, полученного методом зонной плавки. Указанный монокристалл вольфрама ориентируют по кристаллографическому направлению [111], вдоль которого выполняют сквозное отверстие цилиндрической формы диаметром 2 мм методом электроэрозионной резки. Затем методом электроэрозионной резки формируют наружную поверхность источника в форме цилиндра диаметром 7 мм, коаксиально расположенного относительно сквозного отверстия. Внутреннюю и наружную поверхность полученной трубки подвергают электрохимической полировке в NaOH. После полировки получившееся изделие подвергают термообработке в атмосфере воздуха при температуре 700°С, формируя тем самым оксидную пленку толщиной до 1 мкм.The high-temperature surface ionization source is made in the form of a pipe made of single-crystal tungsten obtained by the zone melting method. The specified tungsten single crystal is oriented in the crystallographic direction [111] along which a through hole of a cylindrical shape with a diameter of 2 mm is performed by EDM cutting. Then, by the EDM method, the outer surface of the source is formed in the form of a cylinder with a diameter of 7 mm, coaxially located relative to the through hole. The inner and outer surfaces of the obtained tube are subjected to electrochemical polishing in NaOH. After polishing, the resulting product is subjected to heat treatment in an atmosphere of air at a temperature of 700 ° C, thereby forming an oxide film up to 1 μm thick.

Следует отметить, что источник может иметь любую другую форму с точки зрения технологичности конструкции, а также условий эксплуатации, и которая не является существенной с точки зрения достижения технического результата.It should be noted that the source can have any other form in terms of manufacturability of the design, as well as operating conditions, and which is not significant in terms of achieving a technical result.

В зависимости от конструкции масс-сепаратора возможно формирование наружной поверхности, отличной от цилиндра формы, например в виде прямоугольного параллелепипеда.Depending on the design of the mass separator, it is possible to form an external surface that is different from the cylinder shape, for example in the form of a rectangular parallelepiped.

В масс-сепараторе заявляемое устройство располагают в непосредственной близости от испаряемой мишени. Нагрев высокотемпературного источника проводят методом прямого пропускания электрического тока. Испаренные атомы мишени, попадая на разогретую внутреннюю поверхность источника, покидают ее в виде ионов, которые впоследствии направляют из облучательного устройства электростатическим полем.In the mass separator of the inventive device is located in the immediate vicinity of the evaporated target. The high-temperature source is heated by direct transmission of electric current. The evaporated target atoms, falling on the heated inner surface of the source, leave it in the form of ions, which are subsequently sent from the irradiation device by an electrostatic field.

Техническим результатом, достигаемым при использовании заявленного изобретения, является повышенное значение эффективности ионизации и, как следствие, получения радиоизотопов и снижение стоимости их производства на установках с масс-сепаратором.The technical result achieved by using the claimed invention is the increased value of the ionization efficiency and, as a result, the production of radioisotopes and a decrease in the cost of their production in plants with a mass separator.

Claims (3)

1. Высокотемпературный источник поверхностной ионизации из монокристаллического материала с объемно-центрированной кубической решеткой, снабженный цилиндрическим сквозным отверстием, отличающийся тем, что сквозное отверстие выполнено вдоль кристаллографического направления [111] монокристалла.1. A high-temperature surface ionization source of single crystal material with a body-centered cubic lattice, equipped with a cylindrical through hole, characterized in that the through hole is made along the crystallographic direction [111] of the single crystal. 2. Источник по п. 1, отличающийся тем, что в качестве монокристаллического материала с объемно-центрированной кубической решеткой выбраны материалы из ряда тугоплавких материалов, таких как: вольфрам, тантал, молибден, ванадий.2. The source according to claim 1, characterized in that materials from a number of refractory materials, such as tungsten, tantalum, molybdenum, vanadium, are selected as a single crystal material with a body-centered cubic lattice. 3. Источник по п. 1, отличающийся тем, что поверхность сквозного отверстия снабжена оксидной пленкой, толщина которой не превышает 1 мкм.3. The source according to claim 1, characterized in that the surface of the through hole is provided with an oxide film whose thickness does not exceed 1 μm.
RU2016103208A 2016-02-01 2016-02-01 High-temperature surface ionization source RU2625728C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016103208A RU2625728C1 (en) 2016-02-01 2016-02-01 High-temperature surface ionization source

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016103208A RU2625728C1 (en) 2016-02-01 2016-02-01 High-temperature surface ionization source

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2625728C1 true RU2625728C1 (en) 2017-07-18

Family

ID=59495350

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016103208A RU2625728C1 (en) 2016-02-01 2016-02-01 High-temperature surface ionization source

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2625728C1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU397984A1 (en) * 1972-05-29 1973-09-17 ion source with SURFACE IONIZATION
JP2004342384A (en) * 2003-05-14 2004-12-02 Japan Atom Energy Res Inst Negative ion source forming negative ion of high current density in high efficiency by reducing gas pressure of beam passage region
RU2293977C2 (en) * 2005-02-21 2007-02-20 Владимир Иванович Капустин Ion mobility spectrometer
RU2368977C2 (en) * 2007-12-18 2009-09-27 Институт ядерных исследований РАН (ИЯИ РАН) Method of generating stream of negative ions

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU397984A1 (en) * 1972-05-29 1973-09-17 ion source with SURFACE IONIZATION
JP2004342384A (en) * 2003-05-14 2004-12-02 Japan Atom Energy Res Inst Negative ion source forming negative ion of high current density in high efficiency by reducing gas pressure of beam passage region
RU2293977C2 (en) * 2005-02-21 2007-02-20 Владимир Иванович Капустин Ion mobility spectrometer
RU2368977C2 (en) * 2007-12-18 2009-09-27 Институт ядерных исследований РАН (ИЯИ РАН) Method of generating stream of negative ions

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Банных О.А. Новый подход к поверхностной ионизации и дрейф-спектроскопии органических молекул ЖТФ, 2002, том 72, вып.12, с.88-93.. *
ПАНТЕЛЕЕВ В.Н. Эксперименты на установке ИРИС МЛК ИРИНА. Сессия научного совета ОФВЭ, 23-26 декабря 2014. *
ПАНТЕЛЕЕВ В.Н. Эксперименты на установке ИРИС МЛК ИРИНА. Сессия научного совета ОФВЭ, 23-26 декабря 2014. Банных О.А. Новый подход к поверхностной ионизации и дрейф-спектроскопии органических молекул ЖТФ, 2002, том 72, вып.12, с.88-93.. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Wang et al. Threshold photodetachment of cold C− 60
Turek et al. Versatile plasma ion source with an internal evaporator
JP2018526570A (en) Gridded ion thruster with integrated solid propellant
US10068743B2 (en) Ion source devices and methods
TW201113923A (en) Conjugated ICP and ECR plasma sources for wide ribbon ion beam generation and control
RU2625728C1 (en) High-temperature surface ionization source
US9576767B2 (en) Focused ion beam systems and methods of operation
US11004649B2 (en) Ion source device
Cutroneo et al. Laser ion implantation of Ge in SiO2 using a post-ion acceleration system
KR101371957B1 (en) Ion implantation method
KR102448490B1 (en) Electrode, accelerator column and ion implantation device including same
Bernatskii et al. Field-Induced Desorption of Cesium from Rhenium
Bakardjieva et al. Radiation stability of Ti2InC (M2AX) nanolaminates under He ions irradiation–evaluation through STEM microscopy
RU2558239C1 (en) Weather condition correction device
Abdelrahman et al. Modified saddle field ion source using a ring focusing electrode
RU2581835C1 (en) Controlled emitting unit of electronic devices with autoelectronic emission and x-ray tube with said unit
Moore Delayed excimer emission from anthracene
Dautov et al. Calculation of distribution of potential near the surface of metal particle in the dust-electron thermal plasma
JP2024521061A (en) Ion generation system with efficient ion collector
Sereda et al. Method of increasing the longitudnal current of Н⁻ ions from pig with a metal-hydride cathode
Motaweh et al. Energy spectra of the electrons and ions emitted from Ni single crystal surface under Ne ion bombardment
Adamenko et al. Vacuum electric discharge initiated by accelerated nanoparticles
JP2015185233A (en) Method of producing negative ion beams of fullerene and organic polymer
Turek Ionization efficiency in a hot flat disc-shaped cavity
Turek et al. New Approach to Non-Volatile Metal Ion Production Using Plasma Ion Source with Internal Evaporator