RU2591034C1 - Method of multifunctional precision optical sighting grids producing by laser ablation with start-up - Google Patents
Method of multifunctional precision optical sighting grids producing by laser ablation with start-up Download PDFInfo
- Publication number
- RU2591034C1 RU2591034C1 RU2015112796/28A RU2015112796A RU2591034C1 RU 2591034 C1 RU2591034 C1 RU 2591034C1 RU 2015112796/28 A RU2015112796/28 A RU 2015112796/28A RU 2015112796 A RU2015112796 A RU 2015112796A RU 2591034 C1 RU2591034 C1 RU 2591034C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- topology
- grid
- elements
- laser
- optical
- Prior art date
Links
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к области оптического приборостроения и может найти применение для изготовления многофункциональных оптических прицельных сеток для оптико-электронных приборов, сочетающих в себе систему оптического и коллиматорного прицелов, в том числе имеющих разную ширину элементов топологии и высокую точность их расположения.The invention relates to the field of optical instrumentation and may find application for the manufacture of multifunctional optical reticles for optoelectronic devices that combine a system of optical and collimator sights, including those having different widths of topology elements and high accuracy of their location.
Многофункциональные оптические прицельные сетки представляют собой сочетание двух сеток - оптической и коллиматорной. Оптическая сетка используется для прицеливания при подсвечивании в темное время суток, а коллиматорная (светящаяся) - днем и в условиях недостаточной освещенности, когда обычная оптическая прицельная сетка большинства оптических прицелов не видна.Multifunctional optical reticles are a combination of two reticles - optical and collimator. The optical reticle is used for aiming when illuminated in the dark, and the collimator (luminous) during the day and in low light conditions, when the usual reticle is not visible in most optical sights.
Топология шкал сеток может состоять из штрихов, цифр, знаков, как светлых, так и темных. Подложки сеток имеют плоскую рабочую поверхность, обратная сторона может иметь плоскую или сферическую поверхность.The topology of the grid scales can consist of strokes, numbers, signs, both light and dark. The mesh substrates have a flat work surface, the reverse side can have a flat or spherical surface.
Известен способ лазерной абляции для изготовления рисунков на стекле. Лазерная абляция - процесс формирования на поверхности стеклянной подложки определенной топологии рисунка на требуемую глубину. Например, в способе лазерной обработки поверхности материалов по патенту RU 2086376 осуществляется формирование на поверхности обрабатываемого материала или изделия рельефного рисунка с заданным контрастом сфокусированным пучком лазерного излучения, который перемещают по элементарным участкам поверхности. Изменение свойств каждого участка поверхности при одинаковой мощности лазерного излучения в зоне воздействия, равной диаметру фокального пятна, и изотропности свойств поверхности материала, достигается изменением длительности воздействия на данный конкретный участок или изменением скорости перемещения пучка лазерного излучения по участкам.A known method of laser ablation for the manufacture of drawings on glass. Laser ablation is the process of forming a certain topology of a pattern on the surface of a glass substrate to the required depth. For example, in the method of laser surface treatment of materials according to the patent RU 2086376, a relief pattern is formed on the surface of the processed material or product with a given contrast by a focused laser beam that is moved along elementary surface sections. A change in the properties of each surface section with the same laser radiation power in the exposure zone equal to the diameter of the focal spot and the isotropy of the surface properties of the material is achieved by changing the duration of exposure to this particular area or by changing the speed of the laser beam in the sections.
Такой способ не предусматривает нанесение элементов топологии на металлическом зеркальном покрытии, поэтому не может быть применен для изготовления многофункциональных сеток. Кроме того, т.к. элементы топологии не заполняются запуском, способ не обеспечивает достаточную видимость рельефного рисунка из-за рассеяния света в зависимости от угла наблюдения при использовании в оптическом приборе.This method does not provide for the application of topology elements on a metal mirror coating; therefore, it cannot be used for the manufacture of multifunctional grids. In addition, since the elements of the topology are not filled with a launch, the method does not provide sufficient visibility of the relief pattern due to light scattering depending on the viewing angle when used in an optical device.
Известен способ изготовления высокоточных (прецизионных) оптических прицельных сеток, использующий фотолитографию с травлением для изготовления шкал и сеток, описанный в отраслевом стандарте ОСТ3-6209-86, «Шкалы и сетки фотографические, типовые технологические процессы получения с применением позитивных фоторезистов на основе диазосоединений».A known method of manufacturing high-precision (precision) optical sighting grids using etched photolithography for the manufacture of scales and grids is described in the industry standard OST3-6209-86, “Scales and grids are photographic, typical manufacturing processes using positive photoresists based on diazocompounds”.
Способ имеет следующие недостатки. Операции технологического процесса фотолитографии не позволяют получить оптическую шкалу, видимую в темное время суток, не позволяют получить рельеф на поверхности стекла под запуск и приводят к снижению класса чистоты полированных поверхностей до двух классов, ГОСТ 11141.The method has the following disadvantages. The operations of the photolithography technological process do not allow to obtain an optical scale visible in the dark, do not allow to obtain a relief on the surface of the glass under starting and lead to a decrease in the cleanliness class of polished surfaces to two classes, GOST 11141.
В настоящее время для изготовления оптических прицельных сеток используется метод фотолитографии с запуском. Фотолитография - процесс формирования на поверхности подложки топологии с помощью светочувствительного материала (фоторезиста). Запуск - вещество маскирующего покрытия, которым заполняются углубления в стекле и процесс заполнения углублений в стекле.Currently, a photolithography method with a trigger is used to manufacture optical reticles. Photolithography is the process of forming a topology on the surface of a substrate using a photosensitive material (photoresist). Start-up - a substance of a masking coating, which fills the recesses in the glass and the process of filling the recesses in the glass.
Наиболее близким по совокупности существенных признаков к заявляемому - прототипом - является изобретение по патенту RU №2430391 от 27.02.2010 г., МПК G02B 27/32, G03F 7/004, «Способ изготовления прецизионных оптических шкал методом фотолитографии с запуском (варианты)», способ 3.The closest in the set of essential features to the claimed one - the prototype - is the invention according to patent RU No. 2430391 of 02.27.2010, IPC G02B 27/32, G03F 7/004, "A method for manufacturing precision optical scales by starting photolithography (options)" , method 3.
Способ включает следующие операции: обезжиривание, чистка, первая термообработка, нанесение фоторезиста, вторая термообработка, экспонирование, проявление, нанесение металлического покрытия, удаление защитного фоторезистивного покрытия, ретуширование защитным лаком, третья термообработка, рельефное химическое травление стекла через защитные лаковое и металлическое покрытия травителем в виде пасты, или жидким травителем, или в парах травителя, удаление лака, травление металлического покрытия, запуск.The method includes the following operations: degreasing, cleaning, first heat treatment, applying a photoresist, second heat treatment, exposure, developing, applying a metal coating, removing a protective photoresistive coating, retouching with a protective varnish, third heat treatment, chemical relief etching of the glass through protective varnish and metal coating with an etchant in in the form of a paste, or with a liquid etchant, or in pairs of an etchant, removing varnish, etching a metal coating, starting.
Обезжиривание производят безворсовым материалом, смоченным органическим растворителем. Выполнение элементов топологии сетки производят рельефным химическим травлением стекла. Запуск маскирующего покрытия в углубления в подложке производят втиранием вещества на основе оксида цинка.Degreasing is done with a lint-free material moistened with an organic solvent. The implementation of the elements of the grid topology is performed by chemical relief etching of glass. The launch of the masking coating in the recesses in the substrate is carried out by rubbing a substance based on zinc oxide.
Указанный способ имеет следующие недостатки.The specified method has the following disadvantages.
1. Способ предназначен для изготовления оптических сеток и не предназначен для изготовления коллиматорных сеток, поэтому не может использоваться для изготовления многофункциональных сеток.1. The method is intended for the manufacture of optical grids and is not intended for the manufacture of collimator grids, therefore, cannot be used for the manufacture of multifunctional grids.
2. Использование в качестве металлического покрытия хрома не обеспечивает высокого коэффициента отражения от сетки. Использование такой сетки не позволяет получить достаточно высокий коэффициент пропускания оптического прицела.2. The use of chromium as a metal coating does not provide a high reflection coefficient from the grid. The use of such a grid does not allow to obtain a sufficiently high transmittance of the optical sight.
3. Процессы фотолитографии и химического травления занимают много времени, кроме того, необходимо изготовление фотошаблона, что делает процесс трудоемким.3. The processes of photolithography and chemical etching take a lot of time, in addition, it is necessary to manufacture a photomask, which makes the process time-consuming.
4. Для травления элементов топологии сетки в способе используются потенциально вредные или токсичные вещества.4. For etching the elements of the network topology in the method uses potentially harmful or toxic substances.
Предлагаемое изобретение направлено на получение следующих технических результатов: обеспечение изготовления многофункциональных прецизионных оптических прицельных сеток, повышение коэффициента отражения от сетки, повышение экологической безопасности процесса изготовления сеток, снижение трудоемкости изготовления оптической шкалы сетки.The present invention is aimed at obtaining the following technical results: ensuring the manufacture of multifunctional precision optical reticle, increasing the reflection coefficient from the mesh, increasing the environmental safety of the mesh manufacturing process, reducing the complexity of manufacturing an optical mesh scale.
Указанные технические результаты достигаются следующим образом. В способе изготовления многофункциональных прецизионных оптических прицельных сеток методом лазерной абляции с запуском, содержащем, как и прототип, чистку (обезжиривание) стеклянной подложки органическим растворителем, выполнение элементов топологии оптической шкалы сетки с запуском веществом на основе оксида цинка и нанесение металлического покрытия на подложку, в отличие от прототипа выполнено следующее:The specified technical results are achieved as follows. In a method for manufacturing multifunctional precision optical sighting nets by laser ablation with a launch, which contains, like the prototype, cleaning (degreasing) the glass substrate with an organic solvent, performing elements of the topology of the optical scale of the mesh with launching a substance based on zinc oxide and applying a metal coating to the substrate, The difference from the prototype is as follows:
- элементы топологии оптической шкалы сетки выполняют непосредственно на поверхности стеклянной подложки методом лазерной абляции с использованием фемтосекундного импульсного лазера с длиной волны излучения ближнего инфракрасного диапазона;- elements of the topology of the optical scale of the grid are performed directly on the surface of the glass substrate by laser ablation using a femtosecond pulsed laser with a wavelength of radiation near infrared;
- металлическое покрытие на подложку, а также на элементы топологии оптической шкалы сетки наносят в световой зоне сетки после запуска элементов топологии, поправки поверхности подложки с элементами топологии сетки на полировально-доводочном или доводочном станке и чистки органическим растворителем, причем металлическое покрытие выполняют из алюминия или серебра;- a metal coating on the substrate, as well as on the elements of the topology of the optical scale of the grid, is applied in the light zone of the grid after starting the topology elements, adjusting the surface of the substrate with elements of the topology of the grid on a polishing-finishing or finishing machine and cleaning with an organic solvent, the metal coating being made of aluminum or silver;
- после чего на металлическом покрытии наносят элементы топологии коллиматорной шкалы сетки на глубину металлического слоя методом лазерной абляции с использованием упомянутого лазера;- after which elements of the topology of the collimator scale of the grid are applied to the metal coating to the depth of the metal layer by laser ablation using the above laser;
- элементы топологии коллиматорной шкалы наносят после выставления положения точки фокусировки излучения лазера по реперным меткам, выполненным вне световой зоны сетки методом лазерной абляции с использованием упомянутого лазера при изготовлении элементов топологии оптической шкалы сетки.- elements of the topology of the collimator scale are applied after setting the position of the focus point of the laser radiation according to reference marks made outside the light zone of the grid by laser ablation using the laser in the manufacture of topology elements of the optical scale of the grid.
В предлагаемом способе чистка стеклянной подложки, а также чистка полированной поверхности подложки с элементами топологии органическим растворителем предполагает их обезжиривание. В качестве растворителей может использоваться спирт, спирто-эфирная смесь и др.In the proposed method, cleaning the glass substrate, as well as cleaning the polished surface of the substrate with the elements of the topology with an organic solvent, involves their degreasing. As solvents, alcohol, alcohol-ether mixture, etc. can be used.
Указанные технические результаты достигаются всей совокупностью операций, средств и веществ. Операция нанесения элементов топологии непосредственно на поверхности стеклянной подложки методом лазерной абляции по координатам строго заданным траекториями перемещения образца обеспечивает формирование высокоточной топологии сетки под запуск. Фемтосекундный лазер, воздействующий на обрабатываемый материал лазерным излучением в виде очень коротких (1 фемтосекунда=10-15 секунды) сжатых импульсов, позволяет достичь высокого уровня плотности энергии. Именно использование фемтосекундных импульсов позволяет локализовать область воздействия и избежать образования сколов и трещин в области модификации стекла.The indicated technical results are achieved by the totality of operations, means and substances. The operation of applying the elements of topology directly to the surface of the glass substrate by laser ablation according to the coordinates strictly specified by the paths of movement of the sample ensures the formation of a high-precision grid topology for launch. A femtosecond laser, acting on the material being processed by laser radiation in the form of very short (1 femtosecond = 10 -15 seconds) compressed pulses, allows to achieve a high level of energy density. It is the use of femtosecond pulses that allows you to localize the area of influence and to avoid the formation of chips and cracks in the field of glass modification.
Поправка поверхности подложки с элементами топологии оптической шкалы сетки на полировально-доводочном станке обеспечивает сохранение высокого класса чистоты детали, что для оптических сеток является принципиально важным.Correction of the surface of the substrate with elements of the topology of the optical grid scale on a polishing-finishing machine ensures the preservation of a high class of cleanliness of the part, which is fundamentally important for optical grids.
Чистка (обезжиривание) полированной поверхности с нанесенными элементами топологии после операции поправки повышает адгезию наносимого затем зеркального металлического покрытия из алюминия или серебра.Cleaning (degreasing) of the polished surface with the applied topology elements after the correction operation increases the adhesion of the mirrored metal coating made of aluminum or silver.
Нанесение металлического зеркального покрытия из алюминия или серебра с высоким коэффициентом отражения увеличивает светопропускание оптического прибора и предоставляет возможность для нанесения методом лазерной абляции на металлическом зеркальном слое элемента топологии коллиматорной шкалы без повреждения поверхности стекла, т.к. порог абляции металла ниже, чем у стекла.The application of a metal mirror coating of aluminum or silver with a high reflection coefficient increases the optical transmittance of the optical device and makes it possible to apply a collimator scale topology element on the metal mirror layer by laser ablation without damaging the glass surface, since the threshold for metal ablation is lower than for glass.
Заявляемый способ демонстрируется следующим примером изготовления многофункциональной оптической прицельной сетки на полированной подложке из стекла БК10 (ГОСТ 3514-94), имеющей форму призмы. Способ функционирует следующим образом.The inventive method is demonstrated by the following example of manufacturing a multifunctional optical reticle on a polished glass substrate BK10 (GOST 3514-94), having the shape of a prism. The method operates as follows.
Полированную стеклянную подложку (грань призмы) чистят батистовыми салфетками, смоченными очищенным органическим растворителем - спиртом. В световой зоне сетки непосредственно на поверхности стеклянной подложки наносят методом лазерной абляции элементы топологии оптической шкалы сетки требуемой ширины согласно требованию чертежа с точностью позиционирования не более 4 мкм. Для обеспечения достаточной глубины штриха, необходимой для заполнения запуском, предотвращающей его отслаивание, выполняют соотношение глубины к ширине штриха 1:4.The polished glass substrate (prism face) is cleaned with cambric napkins moistened with a purified organic solvent - alcohol. In the light zone of the grid, directly on the surface of the glass substrate, laser ablation is applied to the elements of the topology of the optical scale of the grid of the required width according to the requirement of the drawing with a positioning accuracy of not more than 4 microns. To ensure sufficient stroke depth necessary to fill the start, preventing its peeling, perform the ratio of the depth to the width of the stroke 1: 4.
Формирование на поверхности подложки топологии производится на технологическом комплексе высокоточной фемтосекундной модификации материалов. Комплекс состоит из твердотельного лазера, включающего лазерный излучатель на кристалле Yt:KGW и блок питания лазерного излучателя, а также высокоточного позиционера, блока управления лазером и позиционером с системой обратной связи, которая позволяет проводить процесс модификации по строго заданным траекториям перемещения образца. Излучатель имеет длину волны излучения ближнего инфракрасного диапазона - 1026 нм, длительность импульса 232 фс (FWHM), частоту следования импульсов 1 кГц, мощность 1 мВт. Фокусировка излучения осуществляется с помощью асферической линзы с фокусным расстоянием 11 мм. Рисунок сетки наносится многократным прохождением лазерного пучка по параллельным трекам, с шагом между треками, меньшим радиуса пятна лазера. При этом ширина конечной линии сетки определяется количеством треков и шагом между ними.The formation of the topology on the surface of the substrate is carried out on the technological complex of high-precision femtosecond modification of materials. The complex consists of a solid-state laser, including a Yt: KGW crystal laser emitter and a laser emitter power supply, as well as a high-precision positioner, a laser control unit and a positioner with a feedback system, which allows the modification process to be carried out along strictly specified sample trajectories. The emitter has a wavelength of near infrared radiation - 1026 nm, a pulse duration of 232 fs (FWHM), a pulse repetition rate of 1 kHz, a power of 1 mW. The radiation is focused using an aspherical lens with a focal length of 11 mm. The grid pattern is applied by repeatedly passing the laser beam along parallel tracks, with a step between tracks less than the laser spot radius. The width of the final grid line is determined by the number of tracks and the pitch between them.
Система управления технологическим комплексом построена на числовом программном управлении и имеет две степени свободы по осям X и Y. Программированием работы комплекса из графического редактора AutoCAD гарантируется безошибочное нанесение элементов топологии сетки.The control system for the technological complex is built on numerical program control and has two degrees of freedom along the X and Y axes. By programming the complex from the AutoCAD graphic editor, error-free application of grid topology elements is guaranteed.
Так же методом лазерной абляции с помощью технологического комплекса на подложке наносят реперные метки вне световой зоны сетки, необходимые для выставления положения точки фокусировки лазерного излучения для обеспечения жестких требований к смещению элементов топологии коллиматорной шкалы относительно элементов топологии оптической шкалы сетки.Also, using laser ablation using a technological complex, reference marks are applied on the substrate outside the light zone of the grid, which are necessary for setting the position of the focus point of laser radiation to provide strict requirements for the displacement of the topology elements of the collimator scale relative to the topology elements of the optical scale of the grid.
Затем производят запуск маскирующего покрытия элементов топологии оптической шкалы сетки двукратным втиранием вещества на основе оксида цинка согласно ОСТ 3-842-90 «Материалы для заполнения знаков на стекле». Проводят поправку поверхности на полировально-доводочном станке и производят чистку органическим растворителем перед нанесением алюминиевого зеркального покрытия.Then, a masking coating of the elements of the topology of the optical scale of the grid is started by double rubbing of a substance based on zinc oxide according to OST 3-842-90 “Materials for filling signs on glass”. Correction of the surface is carried out on a polishing-finishing machine and cleaning with an organic solvent is carried out before applying an aluminum mirror coating.
В вакуумной установке наносят зеркальное алюминиевое покрытие в световой зоне сетки. Затем выставляют положение точки фокусировки лазерного излучения по реперным меткам, нанесенным вне световой зоны для выполнения требования смещения рисунка, полученного на стеклянной подложке относительно рисунка, получаемого на зеркальном алюминиевом слое.In a vacuum installation, a mirror-like aluminum coating is applied in the light zone of the grid. Then, the position of the focus point of the laser radiation is set according to reference marks applied outside the light zone to fulfill the requirement of displacement of the pattern obtained on the glass substrate relative to the pattern obtained on the mirror aluminum layer.
После этого выполняют элемент топологии коллиматорной шкалы сетки методом лазерной абляции зеркального металлического слоя алюминия с использованием вышеуказанного технологического комплекса. При этом, поскольку порог абляции алюминия ниже, чем у стекла, удаление тонкого слоя алюминия производят без повреждения поверхности стекла. Процесс изготовления коллиматорной шкалы производят при следующих параметрах излучения: длина волны излучения 1026 нм, длительность импульса 232 фс (FWHM), частота следования импульсов 10 кГц, мощность 0,75 мВт.After that, an element of the topology of the collimator scale of the grid is performed by laser ablation of a mirror aluminum metal layer using the above technological complex. Moreover, since the ablation threshold of aluminum is lower than that of glass, a thin layer of aluminum is removed without damaging the surface of the glass. The manufacturing process of the collimator scale is carried out at the following radiation parameters: radiation wavelength 1026 nm, pulse duration 232 fs (FWHM), pulse repetition rate 10 kHz, power 0.75 mW.
Предлагаемый способ позволяет обеспечить:The proposed method allows to provide:
- изготовление прецизионных оптических шкал различной номенклатуры с шириной элементов топологии от 5 мкм;- manufacturing of precision optical scales of various nomenclatures with a width of topology elements from 5 microns;
- изготовление прецизионных оптических шкал с различной шириной штриха на одном рабочем поле;- manufacturing of precision optical scales with different stroke widths on one working field;
- неравномерность ширины штрихов, не более 1,0 мкм;- uneven stroke width, not more than 1.0 microns;
- класс чистоты полированных поверхностей до 0-10;- cleanliness class of polished surfaces up to 0-10;
- возможность получения рельефа оптической шкалы, способной быть видимой при подсветке сбоку установленными в приборе светодиодными лампами, в темное время суток.- the possibility of obtaining the relief of the optical scale, capable of being visible when illuminated from the side by LED lamps installed in the device, in the dark.
- возможность получения светящейся (коллиматорной) прицельной шкалы, обеспечивающей прицеливание как днем, так и в условиях недостаточной освещенности.- the possibility of obtaining a luminous (collimator) aiming scale, which provides aiming both during the day and in low light conditions.
Таким образом, предлагаемое изобретение по сравнению с прототипом позволяет изготовить многофункциональные прецизионные оптические прицельные сетки произвольной топологии, сочетающие функции оптической и коллиматорной сетки, с повышенным коэффициентом отражения сетки, с обеспечением экологической безопасности процесса изготовления и снижением трудоемкости изготовления сетки.Thus, the present invention, in comparison with the prototype, allows the manufacture of multifunctional precision optical sighting nets of arbitrary topology, combining the functions of an optical and collimator mesh, with an increased reflection coefficient of the mesh, ensuring environmental safety of the manufacturing process and reducing the complexity of manufacturing the mesh.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2015112796/28A RU2591034C1 (en) | 2015-04-07 | 2015-04-07 | Method of multifunctional precision optical sighting grids producing by laser ablation with start-up |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2015112796/28A RU2591034C1 (en) | 2015-04-07 | 2015-04-07 | Method of multifunctional precision optical sighting grids producing by laser ablation with start-up |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2591034C1 true RU2591034C1 (en) | 2016-07-10 |
Family
ID=56372259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2015112796/28A RU2591034C1 (en) | 2015-04-07 | 2015-04-07 | Method of multifunctional precision optical sighting grids producing by laser ablation with start-up |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2591034C1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2677519C1 (en) * | 2017-12-18 | 2019-01-17 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева (РХТУ им. Д.И. Менделеева) | Method of cutting glass |
| CN112496561A (en) * | 2020-11-19 | 2021-03-16 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | Femtosecond laser scoring method for membrane |
| RU2746925C2 (en) * | 2016-12-13 | 2021-04-22 | Аиксленс Гмбх | Method of manufacture of transmitting optics |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1526413A1 (en) * | 1988-05-03 | 1995-05-20 | В.В. Валявко | Method of marking scales onto optical surface |
| RU2430391C1 (en) * | 2010-02-27 | 2011-09-27 | Открытое Акционерное Общество "Производственное Объединение "Уральский Оптико-Механический Завод" Имени Э.С.Яламова" (Оао "По "Уомз") | Method of producing precision optical scales by photolithography with triggering |
-
2015
- 2015-04-07 RU RU2015112796/28A patent/RU2591034C1/en active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1526413A1 (en) * | 1988-05-03 | 1995-05-20 | В.В. Валявко | Method of marking scales onto optical surface |
| RU2430391C1 (en) * | 2010-02-27 | 2011-09-27 | Открытое Акционерное Общество "Производственное Объединение "Уральский Оптико-Механический Завод" Имени Э.С.Яламова" (Оао "По "Уомз") | Method of producing precision optical scales by photolithography with triggering |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2746925C2 (en) * | 2016-12-13 | 2021-04-22 | Аиксленс Гмбх | Method of manufacture of transmitting optics |
| RU2677519C1 (en) * | 2017-12-18 | 2019-01-17 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева (РХТУ им. Д.И. Менделеева) | Method of cutting glass |
| CN112496561A (en) * | 2020-11-19 | 2021-03-16 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | Femtosecond laser scoring method for membrane |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101099301B1 (en) | Method for correcting critical dimension variations in photomasks | |
| US6448158B2 (en) | Method of patterning an ITO layer | |
| US4970366A (en) | Laser patterning apparatus and method | |
| RU2591034C1 (en) | Method of multifunctional precision optical sighting grids producing by laser ablation with start-up | |
| TWI424479B (en) | Method for patterning crystalline indium tin oxide by using femtosecond laser | |
| TWI394728B (en) | Method for manufacturing glass cliche using laser etching and apparatus for laser irradiation therefor | |
| WO2015084860A1 (en) | Method and apparatus for internally marking a substrate having a rough surface | |
| JP2004327973A (en) | Method of removing edge portion of layer applied to substrate and device, method of coating substrate and device, and substrate | |
| JP2003089553A (en) | Internally marked quartz glass, quartz glass substrate for optical member and marking method | |
| CN1259171C (en) | Flash second multiple frequency laser direct writing system and microprocessing method | |
| TWI384551B (en) | Method for patterning crystalline indium tim oxide | |
| CN111007586A (en) | Preparation method of large-size nano periodic grating | |
| TW201545829A (en) | Beam shaping mask, laser processing apparatus and method | |
| US20080057415A1 (en) | Method of manufacturing an ultrathin optical element | |
| JPH08292442A (en) | Defect correcting method and defect correcting device for liquid crystal substrate | |
| Chkalov et al. | Thin film elements design: software and possibilities of femtosecond laser techniques | |
| JPH08155667A (en) | Machining equipment | |
| Mironnikov et al. | Study of the optical methods of formation of multilevel profile in the thin films of a hybrid photopolymer material based on thiol-siloxane and acrylate oligomers | |
| DE102017202231A1 (en) | Optical element, in particular collector mirror of an EUV light source of a microlithographic projection exposure apparatus | |
| RU2153988C1 (en) | Pattern forming method | |
| DE102019204345A1 (en) | METHOD FOR PRODUCING AN OPTICAL ELEMENT | |
| US9746777B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method thereof | |
| TWI755963B (en) | Method and apparatus for forming three-dimensional micro-structure | |
| JP4115883B2 (en) | Optical waveguide component processing method, grating manufacturing method | |
| EP4351830A1 (en) | Laser nano-structuring for highly transparent anti-fogging glass |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PC43 | Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions |
Effective date: 20180206 |
|
| PD4A | Correction of name of patent owner |