RU2585243C1 - Device for cleaning plasma flow of arc evaporator from micro-droplet fraction - Google Patents

Device for cleaning plasma flow of arc evaporator from micro-droplet fraction Download PDF

Info

Publication number
RU2585243C1
RU2585243C1 RU2015103597/07A RU2015103597A RU2585243C1 RU 2585243 C1 RU2585243 C1 RU 2585243C1 RU 2015103597/07 A RU2015103597/07 A RU 2015103597/07A RU 2015103597 A RU2015103597 A RU 2015103597A RU 2585243 C1 RU2585243 C1 RU 2585243C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plasma
electrodes
evaporator
arc
arc evaporator
Prior art date
Application number
RU2015103597/07A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Александр Ильич Рябчиков
Денис Олегович Сивин
Original Assignee
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет" filed Critical Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет"
Priority to RU2015103597/07A priority Critical patent/RU2585243C1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2585243C1 publication Critical patent/RU2585243C1/en

Links

Images

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

FIELD: coating.
SUBSTANCE: invention relates to a plasma film coating technology and can be used in electronic, tool, optical, mechanical engineering and other industries. Apparatus comprises a louvre system configured as a set of electrodes spanning aperture of evaporator. Electrodes are electrically interconnected in series and in opposition and are connected to a current source and to positive terminal of voltage source, and by second terminal to anode of arc evaporator. Each electrode is formed from two contiguous elements which are connected to power source so that current flows through them in opposite directions.
EFFECT: technical result is improved performance by increasing total plasma stream at output of plasma filter.
1 cl, 2 dwg

Description

Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий, предназначено для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции и может быть использовано в электронной, инструментальной, оптической, машиностроительной и других отраслях промышленности.The invention relates to plasma technologies for applying film coatings, is intended for cleaning the plasma stream of arc evaporators from the microdrop fraction and can be used in electronic, instrumental, optical, engineering and other industries.

Плазменные вакуумные установки, использующие электродуговой разряд для испарения материалов, широко применяются в технологических процессах нанесения покрытий различного назначения. Формирование плазмы вакуумным дуговым разрядом или дуговым разрядом при пониженном давлении различных газов сопровождается формированием микрокапельной фракции и нейтральной атомарной и молекулярной компоненты, процентное содержание которых зависит от материала катода и тока дуги испарителя. Наличие микрокапельной фракции в плазменном потоке резко снижает качество осаждаемых покрытий, особенно тонких, толщиной, сравнимой с размерами микрокапель. Покрытия, обладающие высокими свойствами, удается получить при очистке плазмы вакуумной дуги от микрокапельной фракции с помощью плазменных фильтров.Plasma vacuum installations using an electric arc discharge for the evaporation of materials are widely used in technological processes of coating for various purposes. The formation of plasma by a vacuum arc discharge or an arc discharge under reduced pressure of various gases is accompanied by the formation of a microdrop fraction and a neutral atomic and molecular components, the percentage of which depends on the cathode material and the arc current of the evaporator. The presence of a microdrop fraction in the plasma stream sharply reduces the quality of the deposited coatings, especially thin ones, with a thickness comparable to the size of microdrops. Coatings with high properties can be obtained by cleaning the plasma of a vacuum arc from a microdrop fraction using plasma filters.

Известно устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц [патент РФ №2108636, опубл. 10.04.1998]. Это устройство содержит жалюзийную систему плоских электродов, установленных под углом к оси дугового испарителя так, что поверхностью электродов полностью перекрывается сечение поперек этой оси. Электроды жалюзийной системы электрически соединены последовательно и встречно и подключены к источнику тока, а между жалюзийной системой и анодом дугового испарителя подключен источник напряжения положительным выводом к жалюзийной системе. Пропускание тока по электродам жалюзийной системы приводит к формированию вокруг них магнитного поля, обеспечивающего замагничивание электронов плазмы, что резко уменьшает ток электронов (отрицательной компоненты плазмы) на жалюзи. Подача положительного потенциала на жалюзи относительно анода испарителя формирует вблизи поверхности жалюзи приэлектродное падение потенциала, электрическое поле которого является отражающим для ионов плазменного потока.A device for cleaning the plasma of an arc evaporator from microparticles [RF patent No. 2108636, publ. 04/10/1998]. This device contains a louvre system of flat electrodes mounted at an angle to the axis of the arc evaporator so that the surface of the electrodes completely overlaps the cross section across this axis. The electrodes of the louvre system are electrically connected in series and counterclockwise and connected to a current source, and a voltage source is connected between the louvre system and the anode of the arc evaporator by a positive terminal to the louvre system. The passage of current through the electrodes of the louvre system leads to the formation of a magnetic field around them, which ensures the magnetization of plasma electrons, which dramatically reduces the current of electrons (negative plasma components) to the blinds. The supply of a positive potential to the louvers relative to the anode of the evaporator forms near the surface of the louvres an electrode drop in potential, the electric field of which is reflective for the ions of the plasma stream.

Недостатком устройства является снижение коэффициента прозрачности фильтра для плазменного потока из-за изменения направления напряженности магнитного поля в соседних зазорах жалюзийной системы коаксиальных электродов. В тех зазорах, где направление магнитных силовых линий жалюзийной системы совпадает с направлением магнитных силовых линий ближайшей к фильтру электромагнитной катушки дугового испарителя, эффективность прохождения плазменного потока будет высокая, благодаря усилению результирующего магнитного поля, обеспечивающего замагниченность плазменных электронов. Однако в соседних зазорах магнитное поле жалюзийной системы имеет противоположную направленность, что резко снижает эффективность прохождения плазмы через эти зазоры. Как результат, в целом снижается эффективность прохождения плазмы через плазменный фильтр жалюзийного типа.The disadvantage of this device is the reduction of the transparency coefficient of the filter for plasma flow due to a change in the direction of the magnetic field strength in the adjacent gaps of the louvre system of coaxial electrodes. In those gaps where the direction of the magnetic lines of force of the louvre system coincides with the direction of the magnetic lines of the electromagnetic coil of the arc evaporator closest to the filter, the efficiency of the plasma flow will be high due to the amplification of the resulting magnetic field, which provides magnetization of plasma electrons. However, in adjacent gaps, the magnetic field of the louvre system has an opposite direction, which dramatically reduces the efficiency of plasma passage through these gaps. As a result, the overall efficiency of the passage of plasma through the louvre type plasma filter is generally reduced.

Известно также устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц, выбранное за прототип [патент РФ №2107968, опубл. 27.03.1998]. Устройство содержит жалюзийную систему коаксиальных электродов, перекрывающих апертуру испарителя, электрически соединенных между собой последовательно и встречно и подключенных к источнику тока и к положительному выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду дугового испарителя. После прохождения плазмы через коаксиальную жалюзийную систему электродов очищенный плазменный поток сохраняет аксиальную симметрию.Also known is a device for cleaning the plasma of an arc evaporator from microparticles, selected for the prototype [RF patent No. 2107968, publ. 03/27/1998]. The device comprises a louvre system of coaxial electrodes that overlap the aperture of the evaporator, are electrically connected to each other in series and counterclockwise and connected to a current source and to the positive terminal of the voltage source, the second terminal of the arc evaporator connected to the anode. After the plasma passes through the coaxial louvre system of electrodes, the purified plasma stream retains axial symmetry.

Недостатком устройства-прототипа также является снижение коэффициента прозрачности фильтра для плазменного потока из-за изменения направления напряженности магнитного поля в соседних зазорах жалюзийной системы коаксиальных электродов. В тех зазорах, где направление магнитных силовых линий жалюзийной системы совпадает с направлением магнитных силовых линий ближайшей к фильтру электромагнитной катушки дугового испарителя, эффективность прохождения плазменного потока будет высокая, благодаря усилению результирующего магнитного поля, обеспечивающего замагниченность плазменных электронов. Однако в соседних зазорах магнитное поле жалюзийной системы имеет противоположную направленность, что резко снижает эффективность прохождения плазмы через эти зазоры. Как результат в целом снижается эффективность прохождения плазмы через плазменный фильтр жалюзийного типа.The disadvantage of the prototype device is also a decrease in the transparency coefficient of the filter for the plasma flow due to a change in the direction of the magnetic field strength in the adjacent gaps of the louvre system of coaxial electrodes. In those gaps where the direction of the magnetic lines of force of the louvre system coincides with the direction of the magnetic lines of the electromagnetic coil of the arc evaporator closest to the filter, the efficiency of the plasma flow will be high due to the amplification of the resulting magnetic field, which provides magnetization of plasma electrons. However, in adjacent gaps, the magnetic field of the louvre system has an opposite direction, which dramatically reduces the efficiency of plasma passage through these gaps. As a result, the efficiency of plasma passage through the louvre type plasma filter is generally reduced.

Задачей предлагаемого изобретения является повышение эффективности прохождения плазменного потока через жалюзийную систему электродов.The task of the invention is to increase the efficiency of the passage of a plasma stream through a louvered electrode system.

Технический результат заключается в повышении производительности за счет увеличения общего потока плазмы на выходе плазменного фильтра, представляющего собой жалюзийную систему электродов.The technical result consists in increasing productivity by increasing the total plasma flow at the output of the plasma filter, which is a louvered system of electrodes.

Указанный технический результат достигается тем, что в устройстве для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции, содержащем, как и прототип, жалюзийную систему, выполненную в виде набора электродов, перекрывающих апертуру испарителя, электрически соединенных между собой последовательно и встречно и подключенных к источнику тока и к положительному выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду дугового испарителя, в отличие от прототипа, каждый электрод жалюзийной системы выполнен из двух прилегающих друг к другу элементов, которые подключены к источнику тока таким образом, чтобы по ним протекал ток в противоположных направлениях.The specified technical result is achieved by the fact that in the device for cleaning the plasma flow of arc evaporators from the microdrop fraction, containing, like the prototype, a louvre system made in the form of a set of electrodes that overlap the aperture of the evaporator, are electrically connected to each other in series and opposite and connected to a current source and to the positive terminal of the voltage source, the second terminal connected to the anode of the arc evaporator, in contrast to the prototype, each electrode of the louver system is made of two adjacent to each other elements that are connected to a current source so that current flows through them in opposite directions.

Пример выполнения заявляемого устройства представлен на фиг. 1 - общий вид и на фиг. 2 - вид сбоку; где 1 - первый элемент электрода жалюзийной системы, 2 - второй элемент электрода жалюзийной системы, направление движения плазменного потока - 3. Точками и крестиками вблизи элементов электродов обозначены направления движения тока по элементам электродов жалюзийной системы. Для того чтобы реализовать такие токи в элементах электродов, их необходимо электрически соединить последовательно источнику тока. Такое подключение для электродов реализуется стандартным образом, так же как и в прототипе, поэтому ни источник тока, ни электрическое соединение электродов на фиг. 1 не показаны. Вся система электродов должна находиться под положительным потенциалом относительно анода дугового испарителя. Для этого, как и в прототипе, между анодом и жалюзийной системой включен источник напряжения (не показан). Угол конусности элементов 1 и 2 электродов, расстояния между электродами и их ширина выбраны таким образом, что полностью перекрывают апертуру дугового испарителя. Электрическое соединение элементов 1, а также 2 конических электродов показано на главном виде. При таком их соединении токи в соседних элементах электродов будут направлены навстречу друг другу так, как это показано стрелками 4.An exemplary embodiment of the inventive device is shown in FIG. 1 is a general view, and in FIG. 2 is a side view; where 1 is the first element of the electrode of the louvre system, 2 is the second element of the electrode of the louvre system, the direction of plasma flow is 3. Dots and crosses near the elements of the electrodes indicate the direction of current flow through the elements of the electrodes of the blinds system. In order to realize such currents in the elements of the electrodes, they must be electrically connected in series with the current source. Such a connection for the electrodes is implemented in a standard way, as well as in the prototype, therefore, neither the current source nor the electrical connection of the electrodes in FIG. 1 are not shown. The entire electrode system must be at positive potential relative to the anode of the arc evaporator. For this, as in the prototype, a voltage source (not shown) is connected between the anode and the louvre system. The taper angle of the elements 1 and 2 of the electrodes, the distance between the electrodes and their width are selected so that they completely overlap the aperture of the arc evaporator. The electrical connection of the elements 1, as well as 2 conical electrodes is shown in the main view. With such a connection, the currents in the neighboring elements of the electrodes will be directed towards each other as shown by arrows 4.

Работает устройство следующим образом. При пропускании тока по элементам 1 и 2 электродов от источника тока во всех зазорах жалюзийной системы создают магнитное поле одного и того же направления. Это поле должно совпадать по своему направлению с полем ближайшей к плазменному фильтру катушки вакуумно-дугового испарителя. Такое согласование магнитных полей катушки дугового испарителя и жалюзийной системы плазменного фильтра обеспечивает эффективное замагничивание электронной компоненты плазменного потока 3 и его прохождение через фильтр без пересечения магнитных силовых линий. При прохождении плазменного потока 3 через устройство очистки плазмы микрокапельная фракция и нейтральная компонента осаждаются на поверхности жалюзи. Основные процессы прохождения заряженных частиц плазмы через систему жалюзи такие же, как и в прототипе. Ионная компонента плазменного потока 3 под влиянием положительного потенциала жалюзи отражается от последних. Положительный потенциал на электродах удерживается за счет снижения поперечной проводимости плазмы вследствие замагничивания электронной компоненты магнитным полем, возникающим вокруг электродов при пропускании по ним электрического тока. После прохождения плазмы через систему жалюзи за счет симметричной геометрии их расположения плазменный поток направлен к оси системы. Плазменный поток вблизи оси при прохождении через систему очистки испытывает двойное отражение. Причем, как и в прототипе, если вершину конусной системы направить в сторону дугового испарителя, то получим расходящийся плазменный поток, а если ее направить в противоположную сторону, то будем иметь сфокусированный поток. Таким образом, при прохождении системы очистки плазменный поток не меняет своего направления, что позволяет очень просто встраивать такое устройство в действующие вакуумно-дуговые установки нанесения покрытий.The device operates as follows. When passing current through the elements 1 and 2 of the electrodes from the current source in all the gaps of the louvre system create a magnetic field in the same direction. This field should coincide in its direction with the field of the coil of the vacuum arc evaporator closest to the plasma filter. This coordination of the magnetic fields of the arc evaporator coil and the louvre system of the plasma filter provides effective magnetization of the electronic component of the plasma stream 3 and its passage through the filter without crossing the magnetic field lines. When passing the plasma stream 3 through the plasma cleaning device, the micro-droplet fraction and the neutral component are deposited on the surface of the blinds. The main processes of passage of charged plasma particles through the blinds system are the same as in the prototype. The ionic component of the plasma stream 3 under the influence of the positive potential of the blinds is reflected from the latter. The positive potential at the electrodes is maintained by reducing the transverse conductivity of the plasma due to the magnetization of the electronic component by a magnetic field arising around the electrodes when an electric current is passed through them. After the plasma passes through the blinds system due to the symmetric geometry of their location, the plasma flow is directed to the axis of the system. Plasma flow near the axis when passing through the cleaning system undergoes double reflection. Moreover, as in the prototype, if the top of the cone system is directed towards the arc evaporator, then we get a diverging plasma flow, and if it is directed in the opposite direction, we will have a focused flow. Thus, when passing through the cleaning system, the plasma flow does not change its direction, which makes it very easy to integrate such a device into existing vacuum-arc coating systems.

Пример Example

Устройство для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции используется совместно с вакуумно-дуговым испарителем, оснащенным титановым катодом. Ток разряда был выбран 100 А. Ток в ближайшей к плазменному фильтру катушке вакуумно-дугового испарителя (фокусирующая катушка) был выбран 0,3 А. Каждый элемент жалюзийной системы выполнен из медных водоохлаждаемых трубок диаметром 3 мм, спаянных между собой. Трубки соединены с патрубком ввода и патрубком вывода хладагента для подключения к системе охлаждения. Внешний габаритный диаметр первого элемента 220 мм, второго - 213 мм. Ширина жалюзи 48 мм. Угол наклона жалюзи к направлению распространения плазменного потока 21°. Для создания электромагнитного поля и замагничивания электронов плазмы по каждому элементу жалюзийной системы пропускают ток, равный 350 А, в противоположном направлении относительно друг друга. На жалюзийную систему в целом подают положительный потенциал смещения, равный 15 В. Плотность ионного тока регистрировалась коллектором. На расстоянии 50 мм от выходного торца прототипа, электроды коаксиальной жалюзийной системы которого состоят из одного элемента, значение плотности ионного тока было 11,8 А/м2, при использовании жалюзийной системы с коаксиальными электродами, выполненными из двух прилегающих друг к другу элементов, согласно предлагаемому изобретению получено значение плотности ионного тока 14,7 А/м2, что показывает повышение эффективности прохождения плазменного потока через жалюзийную систему электродов.A device for cleaning the plasma flow of arc evaporators from the microdrop fraction is used in conjunction with a vacuum arc evaporator equipped with a titanium cathode. The discharge current was chosen to be 100 A. The current in the coil of the vacuum-arc evaporator closest to the plasma filter (focusing coil) was chosen to be 0.3 A. Each element of the louvre system is made of 3 mm diameter water-cooled copper tubes welded together. The tubes are connected to the inlet pipe and the refrigerant outlet pipe for connecting to the cooling system. The external overall diameter of the first element is 220 mm, of the second - 213 mm. The width of the blinds is 48 mm. The angle of inclination of the blinds to the direction of propagation of the plasma stream is 21 °. To create an electromagnetic field and magnetize plasma electrons, a current of 350 A is passed through each element of the louvre system in the opposite direction relative to each other. A positive bias potential of 15 V is applied to the louvre system as a whole. The ion current density was recorded by the collector. At a distance of 50 mm from the output end of the prototype, the electrodes of the coaxial louvre system of which consist of one element, the ion current density was 11.8 A / m 2 when using a louvre system with coaxial electrodes made of two adjacent elements, according to the proposed invention obtained a value of the ion current density of 14.7 A / m 2 , which shows an increase in the efficiency of the passage of the plasma stream through the louvered system of electrodes.

Claims (1)

Устройство для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции, содержащее жалюзийную систему, выполненную в виде набора электродов, перекрывающих апертуру испарителя, электрически соединенных между собой последовательно и встречно и подключенных к источнику тока и к положительному выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду дугового испарителя, отличающееся тем, что каждый электрод жалюзийной системы выполнен из двух прилегающих друг к другу элементов, которые подключены к источнику тока таким образом, чтобы по ним протекал ток в противоположных направлениях. A device for cleaning the plasma flow of arc evaporators from a microdroplet fraction containing a louvre system made in the form of a set of electrodes that overlap the aperture of the evaporator, electrically connected to each other sequentially and counterclockwise and connected to the current source and to the positive terminal of the voltage source, the second terminal connected to the anode of the arc evaporator, characterized in that each electrode of the louvre system is made of two adjacent to each other elements that are connected to the source eye so that the current flows over them in opposite directions.
RU2015103597/07A 2015-02-03 2015-02-03 Device for cleaning plasma flow of arc evaporator from micro-droplet fraction RU2585243C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015103597/07A RU2585243C1 (en) 2015-02-03 2015-02-03 Device for cleaning plasma flow of arc evaporator from micro-droplet fraction

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015103597/07A RU2585243C1 (en) 2015-02-03 2015-02-03 Device for cleaning plasma flow of arc evaporator from micro-droplet fraction

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2585243C1 true RU2585243C1 (en) 2016-05-27

Family

ID=56096004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015103597/07A RU2585243C1 (en) 2015-02-03 2015-02-03 Device for cleaning plasma flow of arc evaporator from micro-droplet fraction

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2585243C1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2657273C1 (en) * 2017-05-22 2018-06-09 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Method of filtration of drop phase during deposition from vacuum-arc discharge plasma

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2107968C1 (en) * 1996-08-06 1998-03-27 Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете Device for cleaning plasma-arc evaporator from microparticles (options)
RU2108636C1 (en) * 1996-04-23 1998-04-10 Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете Gear cleaning plasma of arc evaporator from microparticles
US8604418B2 (en) * 2010-04-06 2013-12-10 Axcelis Technologies, Inc. In-vacuum beam defining aperture cleaning for particle reduction
RU2516502C1 (en) * 2012-11-14 2014-05-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет" Vacuum-arc generator with louver system of plasma filtration from particles

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2108636C1 (en) * 1996-04-23 1998-04-10 Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете Gear cleaning plasma of arc evaporator from microparticles
RU2107968C1 (en) * 1996-08-06 1998-03-27 Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете Device for cleaning plasma-arc evaporator from microparticles (options)
US8604418B2 (en) * 2010-04-06 2013-12-10 Axcelis Technologies, Inc. In-vacuum beam defining aperture cleaning for particle reduction
RU2516502C1 (en) * 2012-11-14 2014-05-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет" Vacuum-arc generator with louver system of plasma filtration from particles

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2657273C1 (en) * 2017-05-22 2018-06-09 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Method of filtration of drop phase during deposition from vacuum-arc discharge plasma

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6305950B2 (en) Method for transporting vacuum arc plasma
US7381311B2 (en) Filtered cathodic-arc plasma source
US10518270B2 (en) Dust collector and air conditioner
US5468363A (en) Magnetic-cusp, cathodic-arc source
EP2810297A1 (en) Method and apparatus for improved sensitivity in a mass spectrometer
US20070034501A1 (en) Cathode-arc source of metal/carbon plasma with filtration
JP2011504545A (en) Droplet-free film forming apparatus manufactured by arc evaporation method
RU2585243C1 (en) Device for cleaning plasma flow of arc evaporator from micro-droplet fraction
US6465793B1 (en) Arc initiation in cathodic arc plasma sources
CN109082635B (en) Large-area pulse magnetic filtering device
US20080175720A1 (en) Contoured electrodes for an electrostatic gas pump
US9624570B2 (en) Compact, filtered ion source
RU2097868C1 (en) Device for cleaning arc evaporator plasma from microparticles (options)
JP2013540200A (en) Filter for removing macro particles from plasma beam
Bilek et al. Characterization of a linear Venetian-blind macroparticle filter for cathodic vacuum arcs
CN106999952A (en) Dust arrester unit
RU2107968C1 (en) Device for cleaning plasma-arc evaporator from microparticles (options)
JP5377892B2 (en) A system that facilitates improving the performance of electrostatic precipitators
CN102592930B (en) Ion source
CN100460556C (en) Free open type coil filter
RU2516502C1 (en) Vacuum-arc generator with louver system of plasma filtration from particles
KR200487382Y1 (en) Filter apparatus for arc ion evaporator used in cathodic arc plasma deposition system
RU2657273C1 (en) Method of filtration of drop phase during deposition from vacuum-arc discharge plasma
RU2039849C1 (en) Vacuum arc unit
RU2108636C1 (en) Gear cleaning plasma of arc evaporator from microparticles

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190204