RU2581734C1 - Device for contactless broadband optical control of thickness of films - Google Patents
Device for contactless broadband optical control of thickness of films Download PDFInfo
- Publication number
- RU2581734C1 RU2581734C1 RU2014151422/28A RU2014151422A RU2581734C1 RU 2581734 C1 RU2581734 C1 RU 2581734C1 RU 2014151422/28 A RU2014151422/28 A RU 2014151422/28A RU 2014151422 A RU2014151422 A RU 2014151422A RU 2581734 C1 RU2581734 C1 RU 2581734C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- substrate holder
- vacuum chamber
- radiation
- control
- substrate
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
Заявляемое в качестве изобретения техническое решение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано для бесконтактного контроля толщины прозрачных пленок, наносимых на подложки в вакууме.The technical solution claimed as an invention relates to a control and measuring technique and can be used for contactless control of the thickness of transparent films deposited on substrates in a vacuum.
В последние годы достигнут огромный прогресс в развитии численных методов проектирования оптических покрытий. Этот прогресс сопровождался постоянным совершенствованием технологий напыления тонких слоев в вакууме. В настоящее время используются десятки различных методов напыления, причем все более широкое распространение приобретают так называемые высокоэнергетические процессы напыления материалов, в которых энергии напыляемых атомов и молекул составляют десятки и даже сотни электронвольт. Последнее связано с тем, что высокоэнергетические процессы позволяют получить наиболее качественные слоистые покрытия.In recent years, tremendous progress has been made in the development of numerical methods for designing optical coatings. This progress was accompanied by the continuous improvement of thin layer spraying technologies in a vacuum. Currently, dozens of different spraying methods are used, and the so-called high-energy processes of spraying materials in which the energies of sprayed atoms and molecules are tens or even hundreds of electron-volts are becoming more widespread. The latter is due to the fact that high-energy processes make it possible to obtain the highest quality layered coatings.
Современные оптические покрытия представляют собой последовательности тонких плоскопараллельных диэлектрических слоев с толщинами от долей до сотен нанометров, наносимых на поверхности оптических элементов путем напыления в глубоком вакууме.Modern optical coatings are sequences of thin plane-parallel dielectric layers with thicknesses from fractions to hundreds of nanometers deposited on the surface of optical elements by spraying in a deep vacuum.
Проектирование оптических покрытий невозможно без решения сложной обратной математической задачи определения параметров, в первую очередь, толщин слоев покрытия, обеспечивающих требуемые спектральные свойства этого покрытия. Важным направлением совершенствования оптических покрытий является внедрение все более точных методов контроля толщин слоев покрытия в процессе их напыления.The design of optical coatings is impossible without solving the complex inverse mathematical problem of determining the parameters, first of all, the thicknesses of the coating layers that provide the required spectral properties of this coating. An important direction in the improvement of optical coatings is the introduction of increasingly accurate methods for controlling the thickness of coating layers during their deposition.
В настоящее время все более широко используются методы широкополосного оптического контроля толщин слоев, основанные на многократных измерениях коэффициентов пропускания и отражения покрытий в процессе их производства. Дальнейшие перспективы в развитии этих методов связаны как с разработкой новой чувствительной аппаратуры регистрации спектральных характеристик покрытия, так и с отработкой методики использования этой аппаратуры и внедрения новых эффективных алгоритмов обработки больших объемов экспериментальных данных в режиме он-лайн.At present, methods of broadband optical control of layer thicknesses based on multiple measurements of transmission and reflection coefficients of coatings in the process of their production are being increasingly used. Further prospects in the development of these methods are related both to the development of new sensitive equipment for recording the spectral characteristics of the coating, and to the development of a methodology for using this equipment and the introduction of new effective algorithms for processing large amounts of experimental data on-line.
В настоящее время используются десятки различных методов напыления оптических покрытий. Условно их можно разделить на два основных класса: методы, использующие испарение материалов, и методы, основанные на распылении пленкообразующих материалов за счет, например, магнетронного распыления или бомбардировки мишени пучком ионов инертных газов. Характерной особенностью методов первого класса является низкая кинетическая энергия напыляемых частиц (атомов или молекул), составляющая доли электронвольт. Методы распыления характеризуются, наоборот, высокой кинетической энергией напыляемых частиц, которая может достигать десятков и даже сотен электронвольт. Понимание того, что большая кинетическая энергия напыляемых частиц приводит к улучшению свойств образующих покрытие тонких пленок, привело к широкому внедрению методов распыления пленкообразующих материалов.Currently, dozens of different methods of spraying optical coatings are used. Conventionally, they can be divided into two main classes: methods using the evaporation of materials, and methods based on the spraying of film-forming materials due to, for example, magnetron sputtering or bombardment of a target with an inert gas ion beam. A characteristic feature of first-class methods is the low kinetic energy of the sprayed particles (atoms or molecules), which is a fraction of electron-volts. Spraying methods are characterized, on the contrary, by the high kinetic energy of the sprayed particles, which can reach tens or even hundreds of electron-volts. The understanding that the high kinetic energy of the sprayed particles leads to an improvement in the properties of coating films forming thin films has led to the widespread introduction of spraying methods for film-forming materials.
Существующие методы контроля толщин слоев покрытий в процессе их напыления можно разделить на три основных класса: контроль по времени напыления, контроль с помощью кварцевого датчика, оптические методы контроля. Могут применяться также и смешанные методики контроля. Наиболее перспективными с точки зрения достижения высокой точности контроля являются оптические методы. Важнейшим физическим аргументом в пользу этих методов является то, что они контролируют оптические толщины слоев, а не физические толщины, как в случае методов первых двух классов. Теория оптических покрытий показывает, что именно оптические толщины являются физическими параметрами, определяющими спектральные свойства покрытий.Existing methods for controlling the thicknesses of coating layers during their deposition can be divided into three main classes: control over the time of deposition, control using a quartz sensor, and optical control methods. Mixed control techniques may also be used. The most promising from the point of view of achieving high control accuracy are optical methods. The most important physical argument in favor of these methods is that they control the optical thicknesses of the layers, and not the physical thicknesses, as in the case of the methods of the first two classes. The theory of optical coatings shows that it is optical thicknesses that are the physical parameters that determine the spectral properties of coatings.
Широкое внедрение диодных решеток, позволяющих быстро и точно регистрировать пропускание или отражение покрытия одновременно для сотен и даже тысяч спектральных точек, а также бурное развитие вычислительной техники обусловили огромный интерес к прямым широкополосным методам оптического контроля толщин слоев. Широкополосный прямой метод оптического контроля позволяет точнее контролировать процесс напыления, так как не нужно дополнительно определять калибровочные факторы, учитывающие разницу в толщинах слоев на изделиях и на свидетеле, находящемся в другом месте вакуумной установки и использующемся для спектрофотометрических измерений при непрямых методах контроля.The widespread introduction of diode arrays, which allow quickly and accurately recording the transmission or reflection of a coating simultaneously for hundreds or even thousands of spectral points, as well as the rapid development of computer technology, have led to a huge interest in direct broadband methods for optical control of layer thicknesses. The broadband direct optical control method allows more precise control of the deposition process, since calibration factors that do not need to be additionally determined taking into account the difference in layer thicknesses on the products and on the witness located elsewhere in the vacuum system and used for spectrophotometric measurements with indirect control methods.
Прямой метод контроля наиболее естественным образом соответствует установкам с ионно-лучевым распылением, в которых:The direct control method most naturally corresponds to ion-beam spraying installations in which:
- площадь, используемая для напыления, существенно меньше, чем в установках другого типа, например электронно-лучевого распыления, где могут оказаться предпочтительными и непрямые методы контроля.- the area used for spraying is significantly less than in plants of another type, for example, electron beam spraying, where indirect control methods may also be preferable.
- расположение вращающегося держателя образцов внутри камеры вертикальное в отличие от горизонтального расположения держателя в электронно-лучевых установках.- the arrangement of the rotating specimen holder inside the chamber is vertical, in contrast to the horizontal arrangement of the holder in electron beam installations.
- технологический процесс предполагает необходимость вращения держателя на высокой скорости, например от 50 об/минут до 400 об/мин, для обеспечения высокого уровня равномерности напыляемых пленок на поверхности образцов.- the technological process requires the rotation of the holder at high speed, for example from 50 rpm to 400 rpm, to ensure a high level of uniformity of the sprayed films on the surface of the samples.
- центральная зона подложкодержателя используется для соединения с приводом вращения держателя, что не позволяет установить по центру держателя образец, который можно было бы использовать для беспрерывной регистрации пропускания.- the central zone of the substrate holder is used to connect with the rotation drive of the holder, which does not allow to establish a sample in the center of the holder that could be used for continuous transmission recording.
Известен Способ измерения толщин нанометровых слоев многослойного покрытия по патенту России на изобретение №2527670 от 10.01.2012 г., МПК: G01B 11/06, опубликованному 10.09.2014 г., при реализации которого в качестве контрольной подложки используют подложку с предварительно нанесенным слоем достаточной толщины, чтобы в спектральной зависимости отражения и/или пропускания от подложки с предварительно нанесенным слоем появился хотя бы один локальный экстремум или хотя бы одна точка перегиба, при этом само измерение толщины слоя может быть проведено как в режиме измерения спектра отражения, так и в режиме измерения спектра пропускания. При этом для каждого распыляемого материала используют отдельную контрольную подложку или несколько отдельных контрольных подложек. Может быть использована для всех распыляемых материалов единая сегментируемая на отдельные участки контрольная подложка.The Known Method for measuring the thickness of the nanometer layers of a multilayer coating according to the patent of Russia for invention No. 2527670 dated 01/10/2012, IPC: G01B 11/06, published on 09/10/2014, when implementing it, a substrate with a pre-coated layer sufficient is used thickness, so that in the spectral dependence of reflection and / or transmission from the substrate with a pre-deposited layer, at least one local extremum or at least one inflection point appears, while the measurement of the layer thickness itself can be performed as reflection spectrum measurement mode and a measurement mode of the transmission spectrum. In this case, for each sprayed material, a separate control substrate or several separate control substrates are used. For all sprayed materials, a single control substrate segmented into separate sections can be used.
Главные технологические особенности, роднящие конструктивные элементы способа по патенту №2527670 с заявляемым техническим решением, состоят в наличии контрольной подложки, что является их общим признаком.The main technological features, related structural elements of the method according to patent No. 2527670 with the claimed technical solution, consist in the presence of a control substrate, which is their common feature.
Однако цели заявляемого технического решения и данного аналога несколько различаются, поскольку в аналоге основной задачей является уменьшение погрешности способа. Причем, как это видно по чертежу фиг. 2 данного аналога, контрольные подложки размещены в корпусе вакуумной камеры перпендикулярно лучу, а рабочие подложки размещены не планарно, а под углом к направлению излучения, что отличает данный аналог от заявляемого технического решения. Это может создавать дополнительные трудности измерения слоев за счет разных углов наклона рабочих и контрольных подложек.However, the objectives of the claimed technical solution and this analogue are somewhat different, since in the analogue the main task is to reduce the error of the method. Moreover, as can be seen from the drawing of FIG. 2 of this analogue, the control substrates are placed in the vacuum chamber housing perpendicular to the beam, and the working substrates are placed not planarly, but at an angle to the radiation direction, which distinguishes this analogue from the claimed technical solution. This can create additional difficulties in measuring the layers due to different tilt angles of the working and control substrates.
Известно Устройство для бесконтактного измерения толщины пленок на вращающихся подложках (ПРОТОТИП) по патенту России на полезную модель №73728 от 12.11.207 г., МПК: G01B 11/00, H01L 21/66, опубликованному 27.05.2008 г., содержащее источник и приемник излучения, блок оцифровки и вычислений и детектор углового положения подложки, причем устройство дополнительно содержит блок кондиционирования сигнала, к управляющему входу которого подключен выход детектора углового положения подложки, выход приемника излучения подключен к сигнальному входу блока кондиционирования, выход которого электрически связан с входом блока оцифровки и вычислений. При этом устройство является многоканальным, т.е. содержит N приемников излучения, соединенных с блоком кондиционирования, который при этом имеет N сигнальных входов.A device for non-contact measurement of the thickness of films on rotating substrates (PROTOTYPE) according to the Russian patent for utility model No. 73728 dated 12.11.207, IPC: G01B 11/00, H01L 21/66, published May 27, 2008, containing a source and a radiation receiver, a digitization and calculation unit and a detector of the angular position of the substrate, the device further comprising a signal conditioning unit, to the control input of which an output of the substrate angular position detector is connected, the output of the radiation receiver is connected to the signal input of the air conditioning unit output, whose output is electrically connected to the input of the digitization and computation unit. Moreover, the device is multi-channel, i.e. contains N radiation detectors connected to the air conditioning unit, which at the same time has N signal inputs.
Главным отличительным признаком устройства-прототипа является наличие блока кондиционирования сигнала, который в устройстве решает задачу повышения точности измерений толщины слоев, наносимых на вращающиеся подложки, а также исключения сбоев в технологическом цикле, связанных с возможной клиновидностью подложки и/или ее наклоном относительно оси вращения путем достижения возможности синхронизации моментов измерения параметров отраженного луча с угловым положением оси вращения подложки.The main distinguishing feature of the prototype device is the presence of a signal conditioning unit, which in the device solves the problem of increasing the accuracy of measuring the thickness of layers applied to rotating substrates, as well as eliminating failures in the technological cycle associated with a possible wedge-shaped substrate and / or its inclination relative to the axis of rotation by achieving the possibility of synchronizing the moments of measuring the parameters of the reflected beam with the angular position of the axis of rotation of the substrate.
Общие признаки прототипа и заявляемого технического решения - наличие контрольной подложки, на которую из источника излучения падает зондирующий пучок излучения с заданными параметрами.Common features of the prototype and the claimed technical solution is the presence of a control substrate, onto which a probing radiation beam with predetermined parameters falls from a radiation source.
Однако из-за того, что задачей прототипа было улучшение синхронизации, в разработке устройства-прототипа не уделено внимание расположению контрольной подложки. В заявляемом устройстве контрольную подложку размещают на двери вакуумной камеры, при этом соответствующее отверстие на подложкодержателе остается пустым для регистрации интенсивности сигнала светлого поля.However, due to the fact that the purpose of the prototype was to improve synchronization, the development of the prototype device did not pay attention to the location of the control substrate. In the inventive device, the control substrate is placed on the door of the vacuum chamber, while the corresponding hole on the substrate holder remains empty to record the intensity of the light field signal.
Цель разработки заявляемого технического решения - создание устройства бесконтактного оптического контроля толщины пленок с повышенной эффективностью контроля.The purpose of the development of the proposed technical solution is the creation of a device for non-contact optical control of the thickness of the films with increased control efficiency.
Техническая задача - разработка достаточно компактного устройства с максимальным увеличением точности измерений в случаях малого отклонения скорости вращения диска.The technical task is to develop a sufficiently compact device with a maximum increase in measurement accuracy in cases of small deviation of the disk rotation speed.
Сущность заявляемого технического решения состоит в том, что устройство бесконтактного широкополосного оптического контроля толщины пленок включает корпус вакуумной камеры, корпус держателя образцов, источник излучения, а также рабочие и контрольные образцы, причем устройство содержит спектрометр, линзы для ввода и вывода излучения из камеры, а вакуумная камера снабжена входным и выходными смотровыми окнами, через которые проходит излучение, при этом подложкодержатель, на котором расположены рабочие и контрольные образцы, выполнен круговым планарным и размещен на двери вакуумной камеры, при этом соответствующее отверстие на подложкодержателе остается пустым для регистрации интенсивности сигнала светлого поля, при этом при вращении подложкодержателя привод вращения подложкодержателя генерирует один синхроимпульс за полный оборот.The essence of the claimed technical solution lies in the fact that the device of non-contact broadband optical control of the film thickness includes a vacuum chamber housing, a sample holder housing, a radiation source, as well as working and control samples, the device comprising a spectrometer, lenses for input and output of radiation from the camera, and the vacuum chamber is equipped with inlet and outlet inspection windows through which the radiation passes, while the substrate holder, on which the working and control samples are located, is made to ugovym planar and arranged on the door of the vacuum chamber, wherein the hole of the substrate holder remains empty for recording the intensity of the bright field signal, wherein the substrate holder during rotation of the substrate holder rotation drive generates one clock pulse per complete revolution.
Заявляемое техническое решение проиллюстрировано чертежами рис. 1-3 и фотографией подложкодержателя 4, где:The claimed technical solution is illustrated by drawings of Fig. 1-3 and a photograph of the substrate holder 4, where:
1 - светлое поле подложкодержателя; 1 - bright field of the substrate holder;
2 - темное поле подложкодержателя;2 - dark field of the substrate holder;
3 - контрольный образец; 3 - control sample;
4 - рабочие образцы; 4 - working samples;
5 - источник излучения;5 - radiation source;
6 - волоконно-оптические кабели;6 - fiber optic cables;
7 - линза для ввода излучения в камеру;7 - a lens for introducing radiation into the camera;
8 - смотровое окно вакуумной камеры; 8 - viewing window of the vacuum chamber;
9 - корпус держателя образцов;9 - sample holder body;
10 - линза для вывода излучения из камеры; 10 - a lens for outputting radiation from the camera;
11 - спектрометр;11 - spectrometer;
12 - программируемый логический контроллер;12 - programmable logic controller;
13 - компьютер; 13 - computer;
14 - корпус вакуумной камеры.14 - the body of the vacuum chamber.
Заявляемое устройство состоит из вакуумной камеры 14, где размещены два или более испарителей материалов с различными показателями преломления. На двери вакуумной камеры размещают контрольную подложку, через которую проходит свет из источника 5, а на вращающемся барабане размещают рабочие образцы (подложки) 4, на которых в результате будет получаться требуемое многослойное покрытие. В подложкодержателе 9 одно отверстие 1, расположенное на аналогичном радиусе, что и контрольная подложка, остается пустым для регистрации интенсивности сигнала светлого поля, т.е. когда оптический канал проходит вдоль подложкодержателя через отверстие без установленного образца, I100%.The inventive device consists of a
Для обеспечения работы системы оптического контроля необходимо также регистрировать интенсивность сигнала темного поля 2, т.е. когда держатель подложек расположен на пути оптического канала корпусом, Iтемн, и интенсивность сигнала через контрольный образец 3 на поверхность которого напыляются пленки, Iобразец.To ensure the operation of the optical control system, it is also necessary to record the intensity of the
Интенсивность источника излучения 
Используемый дейтериево-галогенный источник света имеет широкий спектр излучения в диапазоне 215-2500 нм. Также источник имеет регулятор интенсивности. Его необходимо использовать для уменьшения сигнала в случае, если ожидаемый коэффициент пропускания контрольной подложки настолько высок, что вызывает превышение максимального сигнала детекторов спектрофометра. Волоконно-оптический кабель имеет диаметр сердцевины 600 мкм.The deuterium-halogen light source used has a wide radiation spectrum in the range of 215-2500 nm. The source also has an intensity control. It must be used to reduce the signal if the expected transmittance of the control substrate is so high that it causes the maximum signal of the detectors of the spectrophometer to be exceeded. Fiber optic cable has a core diameter of 600 microns.
В установке использован высокочувствительный оптоволоконный спектрофотометр с ультранизким рассеянием света AvaSpec-ULS2048-USB2, производитель Avantes BV на основе плоской дифракционной решетки 300 штр/мм. Рабочий спектральный диапазон спектрометра 200-1100 нм. Спектр регистрируется кремниевой линейкой из 2048 фотодиодов.The installation used a highly sensitive fiber-optic spectrophotometer with ultra-low light scattering AvaSpec-ULS2048-USB2, manufactured by Avantes BV, based on a plane diffraction grating of 300 lines / mm. The working spectral range of the spectrometer is 200-1100 nm. The spectrum is recorded by a silicon line of 2048 photodiodes.
Скорость вращения подложкодержателя в установке ионно-плазменного напыления может достигать 500 об/мин.The substrate holder rotation speed in the ion-plasma spraying apparatus can reach 500 rpm.
Современные быстродействующие спектрофотометры позволяют производить несколько измерений спектров пропускания/отражения используемого для мониторинга образца за время его прохождения через оптический канал источника света. Конструктивной особенностью вакуумных установок ионно-лучевого напыления является то, что генерация синхроимпульса вращения диска держателя образцов происходит однократно, т.е. синхроимпульс генерируется 1 раз за оборот в момент прохождения вращающегося диска с образцами через нулевое положение.Modern high-speed spectrophotometers allow several measurements of the transmission / reflection spectra used to monitor the sample during its passage through the optical channel of the light source. A design feature of vacuum ion-beam deposition plants is that the generation of a clock pulse of rotation of the disk of the sample holder occurs once, i.e. a sync pulse is generated 1 time per revolution at the moment of passage of a rotating disk with samples through the zero position.
В заявляемом устройстве используется плата производителя National Instruments на основе программируемой логической интегральной схеме (ПЛИС), на базе которой реализован алгоритм определения положения вращающегося диска в любой момент времени на основе вычисления времени оборота диска на предыдущем шаге. Корректируя полученные расчетные данные после каждого прохождения диска через нулевое положение, а также учитывая время поворота на предыдущем шаге, можно определить скорость вращения диска. Таким образом, в случае малого отклонения скорости вращения диска во времени становится возможным определение точного положения диска в любой момент времени.The inventive device uses a board manufacturer National Instruments based on a programmable logic integrated circuit (FPGA), on the basis of which an algorithm for determining the position of a rotating disk at any time is implemented based on the calculation of the disk revolution time in the previous step. Correcting the calculated data after each passage of the disk through the zero position, and also taking into account the rotation time in the previous step, you can determine the speed of rotation of the disk. Thus, in the case of a small deviation of the disk rotation speed in time, it becomes possible to determine the exact position of the disk at any time.
Используя данные о положении диска с образцами в любой момент времени, перед началом процесса напыления в заявляемой системе широкополосного оптического контроля проводится калибровка так называемых "регионов считывания" спектров (т.е. отрезков времени, на которых спектрометр накапливает сигнал для трех значений интенсивности источника излучения I100%, Iтемн, Iобразец). При дальнейшем плавном смещении времени считывания спектра за оборот в процентном соотношении и при установленном коротком времени считывания (менее одного процента от времени поворота диска) относительно нулевого положения диска, на каждом шаге получаем спектры, которые используем для усреднения.Using data on the position of the disk with the samples at any time, before the deposition process begins, the so-called “reading regions” of the spectra are measured in the inventive broadband optical control system (that is, the time intervals over which the spectrometer accumulates a signal for three values of the radiation source intensity I 100% , I dark , I sample ). With a further smooth shift of the spectrum reading time per revolution in percentage terms and with a set short reading time (less than one percent of the disk rotation time) relative to the zero position of the disk, at each step we obtain the spectra that we use for averaging.
Для синхронизации действий между вакуумной напылительной установкой и системой широкополосного мониторинга на стороне установки, в запрограммированных рецептах напыления, вставляются логические участки, которые отвечают за переключения физических релейных ключей при основных действиях установки:To synchronize actions between the vacuum deposition unit and the broadband monitoring system on the unit side, in the programmed spraying recipes, logical sections are inserted that are responsible for switching physical relay keys during the main unit operations:
- Начало работы установки.- Getting started installation.
- Начало рецепта.- The beginning of the recipe.
- Пауза - в случае сбоя.- Pause - in case of failure.
- Подготовка к напылению слоя.- Preparation for spraying the layer.
- Процесс напыления слоя.- The process of spraying a layer.
Для оцифровки и дальнейшей передачи в программу широкополосного мониторинга выдаваемых основных действий вакуумной напылительной установки используется программируемый логический контроллер (ПЛК), например фирмы ОВЕН, ПЛК 110.For digitization and further transmission to the broadband monitoring program of the issued basic actions of the vacuum deposition unit, a programmable logic controller (PLC) is used, for example, Aries, PLC 110.
Возможность многократного воспроизведения заявляемого устройства проистекает из способа его изготовления, этот способ является промышленным и годен для производства большого количества одинаковых изделий.The ability to repeatedly play the inventive device stems from the method of its manufacture, this method is industrial and suitable for the production of a large number of identical products.
Подобное сочетание универсальности, достижения эффективности и точности измерений, с относительной простотой изготовления в прототипе не достигнуто.A similar combination of versatility, achieving efficiency and accuracy of measurements, with the relative simplicity of manufacturing in the prototype has not been achieved.
Исходя из вышеизложенного, можно сделать вывод о том, что заявляемое техническое решение соответствует критериям «новизна», «изобретательский уровень» и «промышленная применимость».Based on the foregoing, we can conclude that the claimed technical solution meets the criteria of "novelty", "inventive step" and "industrial applicability".
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2014151422/28A RU2581734C1 (en) | 2014-12-18 | 2014-12-18 | Device for contactless broadband optical control of thickness of films |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2014151422/28A RU2581734C1 (en) | 2014-12-18 | 2014-12-18 | Device for contactless broadband optical control of thickness of films |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2581734C1 true RU2581734C1 (en) | 2016-04-20 |
Family
ID=56194964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2014151422/28A RU2581734C1 (en) | 2014-12-18 | 2014-12-18 | Device for contactless broadband optical control of thickness of films |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2581734C1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2671927C1 (en) * | 2018-01-19 | 2018-11-07 | Акционерное общество "Новосибирский приборостроительный завод" | Method for determining thickness of layers of multilayer coating in process for deposition of optical elements |
| CN113776442A (en) * | 2021-09-15 | 2021-12-10 | 佛山市博顿光电科技有限公司 | Spectrum detection device, film thickness real-time monitoring method and system and vacuum coating machine |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4582431A (en) * | 1983-10-11 | 1986-04-15 | Honeywell Inc. | Optical monitor for direct thickness control of transparent films |
| SU1233208A1 (en) * | 1984-01-02 | 1986-05-23 | Киевский Ордена Ленина Государственный Университет Им.Т.Г.Шевченко | Method of measuring thickness of multilayer polymeric film |
| RU73728U1 (en) * | 2007-11-12 | 2008-05-27 | Закрытое акционерное общество "ФТИ-ДиВиКам" | DEVICE FOR MEASURING THICKNESS OF FILMS ON ROTATING SUBSTRATES |
| RU2415378C2 (en) * | 2008-12-23 | 2011-03-27 | Общество с ограниченной ответственностью "НИИ Радиоэлектроники и лазерной техники" | Method of measuring thickness and refractivity index of thin transparent substrate coats |
-
2014
- 2014-12-18 RU RU2014151422/28A patent/RU2581734C1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4582431A (en) * | 1983-10-11 | 1986-04-15 | Honeywell Inc. | Optical monitor for direct thickness control of transparent films |
| SU1233208A1 (en) * | 1984-01-02 | 1986-05-23 | Киевский Ордена Ленина Государственный Университет Им.Т.Г.Шевченко | Method of measuring thickness of multilayer polymeric film |
| RU73728U1 (en) * | 2007-11-12 | 2008-05-27 | Закрытое акционерное общество "ФТИ-ДиВиКам" | DEVICE FOR MEASURING THICKNESS OF FILMS ON ROTATING SUBSTRATES |
| RU2415378C2 (en) * | 2008-12-23 | 2011-03-27 | Общество с ограниченной ответственностью "НИИ Радиоэлектроники и лазерной техники" | Method of measuring thickness and refractivity index of thin transparent substrate coats |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2671927C1 (en) * | 2018-01-19 | 2018-11-07 | Акционерное общество "Новосибирский приборостроительный завод" | Method for determining thickness of layers of multilayer coating in process for deposition of optical elements |
| CN113776442A (en) * | 2021-09-15 | 2021-12-10 | 佛山市博顿光电科技有限公司 | Spectrum detection device, film thickness real-time monitoring method and system and vacuum coating machine |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10605722B2 (en) | Metrology system calibration refinement | |
| JP2020065081A (en) | Plasma processing apparatus and method for operating plasma processing apparatus | |
| US9657391B2 (en) | Optical transmission/reflection mode in-situ deposition rate control for ice fabrication | |
| KR102497215B1 (en) | Spectrum calibration method of measurement apparatus, and measuring and fabricating method of device based on the spectrum calibration method | |
| Kostrin et al. | Optical spectrometry in the diagnosis of ion‐plasma processes: Control of the coating deposition process and thickness | |
| TW201702582A (en) | Optical measurement apparatus and optical measurement method | |
| CN111183509B (en) | Optical measurement system and method for high absorption film layer on high reflection film stack | |
| RU2581734C1 (en) | Device for contactless broadband optical control of thickness of films | |
| CN107615468B (en) | Method for evaluating haze | |
| Boher et al. | In situ spectroscopic ellipsometry: present status and future needs for thin film characterisation and process control | |
| JPWO2015004755A1 (en) | Optical film thickness meter, thin film forming apparatus, and film thickness measuring method | |
| EP2972070B1 (en) | Method and system for real-time in-process measurement of coating thickness | |
| US10316405B2 (en) | Deposition of integrated computational elements (ICE) using a translation stage | |
| US20160291633A1 (en) | Integrated computational element fabrication methods and systems | |
| RU2199110C2 (en) | Procedure testing parameters of film coats and surfaces in process of their change and device for is implementation | |
| JP2014016194A (en) | Optical characteristics measuring system and optical characteristics measuring method | |
| Holfelder et al. | Complementary methodologies for thin film characterization in one tool–a novel instrument for 450 mm wafers | |
| RU2671927C1 (en) | Method for determining thickness of layers of multilayer coating in process for deposition of optical elements | |
| Ferrarini et al. | Thin Films Characterization and Metrology | |
| Thöny et al. | Innovative sputter system for high volume production of demanding optical interference coatings | |
| US20070019204A1 (en) | Spectrometer based multiband optical monitoring of thin films | |
| US20210079513A1 (en) | In Situ Density Control During Fabrication Of Thin Film Materials | |
| RU185096U1 (en) | A device for measuring the reflection spectra of layers of a multilayer coating during their deposition | |
| Hofman et al. | Broadband optical monitoring of optical thin films in large ion-beam sputtering machine | |
| US20230078567A1 (en) | Transmission corrected plasma emission using in-situ optical reflectometry |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20171219 |