RU2581522C1 - Способ охлаждения электронного оборудования с использованием конденсатора-пленкоформирователя - Google Patents

Способ охлаждения электронного оборудования с использованием конденсатора-пленкоформирователя Download PDF

Info

Publication number
RU2581522C1
RU2581522C1 RU2014150461/06A RU2014150461A RU2581522C1 RU 2581522 C1 RU2581522 C1 RU 2581522C1 RU 2014150461/06 A RU2014150461/06 A RU 2014150461/06A RU 2014150461 A RU2014150461 A RU 2014150461A RU 2581522 C1 RU2581522 C1 RU 2581522C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
liquid
film
cooling
condenser
steam
Prior art date
Application number
RU2014150461/06A
Other languages
English (en)
Inventor
Олег Александрович Кабов
Дмитрий Валерьевич Зайцев
Игорь Владимирович Марчук
Елена Федоровна Быковская
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) filed Critical Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН)
Priority to RU2014150461/06A priority Critical patent/RU2581522C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2581522C1 publication Critical patent/RU2581522C1/ru

Links

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)

Abstract

Изобретение относится к теплотехнике и может быть использовано при охлаждении электронного и микроэлектронного оборудования. Способ охлаждения электронного и микроэлектронного оборудования реализуется за счет использования конденсатора пара в качестве пленкоформирователя, обеспечивающего формирование тонких безволновых пленок жидкости высокой равномерности и качества. Технический результат - обеспечение более интенсивного, контролируемого и экономичного охлаждения. 1 ил.

Description

В последние десятилетия существенное развитие получило использование двухфазных потоков для охлаждения высоконапряженных по тепловым потокам электронных компонентов, таких как компьютерные чипы, силовая электроника (транзисторы, тиристоры), чипы конверторов и инверторов в гибридных автомобилях, мощные лазеры и др. Ведутся исследования, в которых для охлаждения электронных компонентов используется пленка жидкости, увлекаемая потоком газа в микро- и мини-каналах. В ряде случаев поток жидкости в микроканале может охлаждать сразу несколько электронных компонентов, между которыми находятся адиабатические секции. В таких системах жидкость вводится в поток газа с использованием специального устройства - пленкоформирователя. Основной задачей данного устройства является обеспечить равномерное распределение жидкости поперек канала, а также ввести жидкость без излишней дестабилизации границы раздела газ-жидкость. Неравномерность жидкости и дестабилизация границы раздела газ-жидкость могут привести к нежелательным разрывам тонкой пленки жидкости. Обычно роль такого устройства выполняет плоская щель в подложке под острым углом к потоку газа, плоская пластина, установленная параллельно подложке или отверстие в подложке. Во всех случаях устройство пленкоформирователя обладает целым рядом недостатков и, как правило, не обеспечивает нужного качества создаваемой пленки. Например, проблематичным является создание очень тонких пленок от 1·10-5 м до 2·10-5 м. Как правило, затруднительно изготовить детали сопла с погрешностью от 1·10-6 м до 2·10-6 м и менее и отъюстировать зазор с погрешностью от 5·10-6 м до 1·10-5 м и менее. Это приводит к значительным неоднородностям в расходе жидкости и толщине пленки. Экспериментально было установлено, что сразу после щелевого сопла жидкости для канала высотой 1·10-4 м формировалось неустойчивое течение двухфазного потока.
Известен способ, описанный в статье (Kabov О.А., Kuznetsov V.V., and Legros J-C, Heat transfer and film dynamic in shear-driven liquid film cooling system of microelectronic equipment, Second Int. Conference on Microchannels and Minichannels, Ed. S.G. Kandlikar, June 17-19, 2004, Rochester, NY, ASME, New York, pp. 687-694 (2004)), при котором охлаждение электронного компонента происходит за счет испарения тонкой пленки жидкости. Тонкая пленка диэлектрической жидкости FC-72 движется со спутным потоком газа (азота) в микроканале с электронными тепловыделяющими элементами.
Наиболее близкое техническое решение, которое можно рассматривать как прототип, описано в статье (Kabov О.А., Kuznetsov V.V., and Legros J-C, Heat transfer and film dynamic in shear-driven liquid film cooling system of microelectronic equipment, Second Int. Conference on Microchannels and Minichannels, Ed. S.G. Kandlikar, June 17-19, 2004, Rochester, NY, ASME, New York, pp. 687-694 (2004)), при котором охлаждение электронного компонента происходит за счет испарения тонкой пленки жидкости, которая создается за счет движения пара в мини- или микроканале. Тонкая пленка жидкости движется с потоком пара в микроканале с электронными тепловыделяющими элементами, расположенными либо на одной стороне канала, либо на двух противоположных сторонах канала. Тонкая пленка жидкости формируется за счет использования щелевого пленкоформирователя.
Недостатки описанных выше способов:
1) усложнение конструкции и, как следствие, дороговизна способа за счет использования пленкоформирователя;
2) проблематичным является создание очень тонких пленок от 1·10-5 м до 2·10-5 м.
Как правило, затруднительно изготовить детали сопла с погрешностью от 1·10-6 м до 2·10-6 м и менее и отъюстировать зазор с погрешностью от 5·10-6 м до 1·10-5 м и менее. Это приводит к значительным неоднородностям в расходе жидкости и толщине пленки.
Задачей заявляемого изобретения является обеспечение более интенсивного, контролируемого и экономичного охлаждения электронного оборудования за счет создания тонких, безволновых пленок жидкости высокой равномерности и качества.
Поставленная задача решается тем, что в способе охлаждения электронного оборудования с использованием конденсатора-пленкоформирователя, при котором охлаждение электронного компонента происходит за счет испарения тонкой пленки жидкости, сформированной с помощью пленкоформирователя и за счет движения пара в мини- или микроканале, согласно изобретению в качестве пленкоформирователя используют конденсатор пара, обеспечивающий формирование тонких, безволновых пленок жидкости высокой равномерности и качества.
Использование конденсатора пара в качестве пленкоформирователя позволяет создавать ровные, равномерные по ширине, практически идеально гладкие (безволновые) тонкие пленки жидкости.
Известно, что в тонких пленках жидкости (порядка 1·10-4 м) тепло передается практически только теплопроводностью. В результате коэффициент теплоотдачи можно описать следующей зависимостью:
Figure 00000001
где δ - толщина слоя жидкости; λ - коэффициент теплопроводности жидкости (Вт/м К).
Зависимость показывает, что снижение толщины пленки на порядок, например от 1·10-4 м до 1·10-5 м, ведет к интенсификации испарения на порядок.
Для обеспечения равномерности пленки по ширине канала достаточно обеспечить равномерное охлаждение конденсатора пара. Конденсатор пара может создавать очень тонкие пленки, от 1·10-5 м до 5·10-5 м и менее. Практически толщина в меньшую сторону не ограничена и может составлять даже несколько мкм. Толщина пленки может точно регулироваться и достаточно точно рассчитываться с помощью имеющейся математической модели (Marchuk I.V., Lyulin Y.V., and Kabov O.A., Theoretical and Experimental Study of Convective Condensation inside Circular Tube, Interfacial Phenomena and Heat Transfer, vol. 1(2), pp. 153-171, 2013). Регулировка толщины пленки осуществляется простой регулировкой температуры стенки конденсатора пара.
Экспериментальные и теоретические исследования показывают, что конденсация подавляет неустойчивость в пленке жидкости. Это связано с тем, что утонение пленки в силу ее неустойчивости вызывает интенсификацию теплообмена в этой области и выпадающий конденсат частично сглаживает утонение пленки. Этот факт потенциально позволяет создавать пленки очень высокого качества, в том числе и при относительно больших расходах жидкости. Можно ожидать снижение расхода жидкости, необходимой для охлаждения электронных компонентов в таких системах, за счет более высокого качества создаваемых пленок. Это, в свою очередь, приведет к снижению энергозатрат на прокачку жидкости и газа и повышению общей эффективности системы.
Данные системы могут работать как двухфазные однокомпонентные системы. В этом случае в качестве рабочего тела используется чистая жидкость, т.е. без неконденсирующихся примесей. В качестве рабочего тела может использоваться смесь жидкостей. Использование добавки неконденсирующегося газа может позволить существенно расширить параметры системы и управляемость ее работы. Известно, что присутствие неконденсирующегося газа существенно снижает интенсивность теплообмена при конденсации, но действие газа снижается с ростом скорости парогазовой смеси. Снижение интенсивности конденсации позволяет более точно контролировать толщину пленки и ее равномерность за счет снижения к требованию по распределению температуры на стенке конденсатора. Регулировкой концентрации неконденсирующегося газа можно добиться ситуации, когда отклонения температуры на стенке конденсатора от 0,1°C до 0,5°C практически не будут влиять на толщину пленки. В таких случаях может использоваться обычное водяное охлаждение конденсатора, где нагрев воды, абсорбирующей тепло конденсации, в пределах от 1°C до 0,5°C вдоль тракта охлаждения не приведет к заметным изменениям толщины пленки. Для очень точной регулировки толщины пленки в однокомпонентных системах для охлаждения конденсатора могут использоваться Пельтье-элементы с последующим их охлаждение водой или воздухом.
На фиг. 1 представлен общий вид системы охлаждения микроэлектронного оборудования с использованием конденсатора-пленкоформирователя, где обозначено: 1 - подложка, 2 - электронный компонент, 3 - конденсатор пара, 4 - система охлаждения конденсатора пара, 5 - мини- или микроканал, 6 - конденсирующаяся и испаряющаяся пленка жидкости, 7 - дополнительный подогреватель, 8 - резервуар пара, 9 - насос, 10 - вход пара или парогазовой смеси.
Способ осуществляется следующим образом.
В начальном состоянии, перед началом работы, жидкость перетекает в нижнюю часть системы. Включается дополнительный подогреватель 7, который превращает жидкость в пар. Пар или парогазовая смесь равномерно распределяется по системе. Включается насос 9 и начинает подавать пар или парогазовую смесь через вход 10 в микроканал 5. Резервуар пара 8 служит для более устойчивой работы насоса и может быть конструктивно совмещен с подогревателем 7. Включается система охлаждения конденсатора 4, конденсатор 3 начинает генерировать пленку жидкости 6, которая увлекается частью не сконденсировавшегося пара или парогазовой смеси. Пленка натекает на электронный компонент 2, расположенный на подложке 1, и охлаждает его. При этом часть жидкости превращается в пар и уходит по каналу к насосу. Часть жидкости может не испариться и также уходит по каналу в сторону насоса под действием потока пара и гравитации. Эта часть жидкости превращается в пар в подогревателе 7 таким образом, чтобы на вход насоса всегда подавался чистый пар или парогазовая смесь.
Использование заявляемого изобретения позволяет обеспечить более интенсивное, контролируемое и экономичное охлаждение электронного оборудования за счет создания тонких, безволновых пленок жидкости высокой равномерности и качества.

Claims (1)

  1. Способ охлаждения электронного оборудования с использованием конденсатора-пленкоформирователя, при котором охлаждение электронного компонента происходит за счет испарения тонкой пленки жидкости, сформированной с помощью пленкоформирователя и за счет движения пара в мини- или микроканале, отличающийся тем, что в качестве пленкоформирователя используют конденсатор пара, обеспечивающий формирование тонких, безволновых пленок жидкости высокой равномерности и качества.
RU2014150461/06A 2014-12-15 2014-12-15 Способ охлаждения электронного оборудования с использованием конденсатора-пленкоформирователя RU2581522C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2014150461/06A RU2581522C1 (ru) 2014-12-15 2014-12-15 Способ охлаждения электронного оборудования с использованием конденсатора-пленкоформирователя

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2014150461/06A RU2581522C1 (ru) 2014-12-15 2014-12-15 Способ охлаждения электронного оборудования с использованием конденсатора-пленкоформирователя

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2581522C1 true RU2581522C1 (ru) 2016-04-20

Family

ID=56194873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2014150461/06A RU2581522C1 (ru) 2014-12-15 2014-12-15 Способ охлаждения электронного оборудования с использованием конденсатора-пленкоформирователя

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2581522C1 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2706325C1 (ru) * 2018-12-25 2019-11-15 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) Способ охлаждения электронного оборудования пленочными и капельными потоками жидкости с использованием оребрения
RU2747858C2 (ru) * 2016-12-21 2021-05-17 ЛЕОНАРДО С.п.А. Система пассивного охлаждения с двухфазной текучей средой, в частности, для охлаждения электронной аппаратуры, например приборов авионики
RU2807853C1 (ru) * 2023-07-07 2023-11-21 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук Двухфазная однокомпонентная система охлаждения

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1084579A1 (ru) * 1980-07-04 1984-04-07 Предприятие П/Я В-8662 Способ исследовани теплообмена на наружной поверхности труб парового конденсатора
JPS62118553A (ja) * 1985-11-19 1987-05-29 Hitachi Ltd 冷媒導通管
JPS6413752A (en) * 1987-07-07 1989-01-18 Fujitsu Ltd Conduction cooling device for integrated circuit part
RU2403692C1 (ru) * 2009-04-29 2010-11-10 Открытое акционерное общество "Информационные спутниковые системы" имени академика М.Ф. Решетнёва" Модуль радиоэлектронной аппаратуры с гипертеплопроводящим основанием
WO2013151606A1 (en) * 2012-04-02 2013-10-10 Raytheon Company Semiconductor cooling apparatus

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1084579A1 (ru) * 1980-07-04 1984-04-07 Предприятие П/Я В-8662 Способ исследовани теплообмена на наружной поверхности труб парового конденсатора
JPS62118553A (ja) * 1985-11-19 1987-05-29 Hitachi Ltd 冷媒導通管
JPS6413752A (en) * 1987-07-07 1989-01-18 Fujitsu Ltd Conduction cooling device for integrated circuit part
RU2403692C1 (ru) * 2009-04-29 2010-11-10 Открытое акционерное общество "Информационные спутниковые системы" имени академика М.Ф. Решетнёва" Модуль радиоэлектронной аппаратуры с гипертеплопроводящим основанием
WO2013151606A1 (en) * 2012-04-02 2013-10-10 Raytheon Company Semiconductor cooling apparatus

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2747858C2 (ru) * 2016-12-21 2021-05-17 ЛЕОНАРДО С.п.А. Система пассивного охлаждения с двухфазной текучей средой, в частности, для охлаждения электронной аппаратуры, например приборов авионики
RU2706325C1 (ru) * 2018-12-25 2019-11-15 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) Способ охлаждения электронного оборудования пленочными и капельными потоками жидкости с использованием оребрения
RU2807853C1 (ru) * 2023-07-07 2023-11-21 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук Двухфазная однокомпонентная система охлаждения
RU2816279C1 (ru) * 2023-10-05 2024-03-28 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук Система охлаждения электронного оборудования со смесью пара и неконденсируемого газа
RU2820933C1 (ru) * 2023-11-14 2024-06-13 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук Устройство для интенсификации теплообмена посредством микроразрывов в пленке жидкости
RU2818424C1 (ru) * 2023-11-29 2024-05-02 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук Двухфазная однокомпонентная замкнутая система охлаждения с использованием конденсатора - пленкоформирователя
RU2821687C1 (ru) * 2023-12-14 2024-06-26 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук Устройство для интенсификации теплообмена в пленке жидкости, увлекаемой потоком газа посредством микрокаверн
RU2822416C1 (ru) * 2023-12-14 2024-07-04 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук Система охлаждения электронного оборудования с использованием потока газа и комбинированных пленочных и капельных потоков жидкости

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Zhou et al. Heat transfer enhancement due to surface modification in the close-loop R410A flash evaporation spray cooling
Liu et al. Experimental investigation on heat transfer of spray cooling with the mixture of ethanol and water
JP2023134477A (ja) 比例式熱流体送達システムを使用した基板キャリア
Wang et al. Enhanced heat transfer by an original immersed spray cooling system integrated with an ejector
Zhang et al. Experimental investigation on heat transfer characteristics of R1336mzz flash spray cooling
Karwa et al. Experimental study of non-boiling heat transfer from a horizontal surface by water sprays
Liao et al. Experimental study of boiling heat transfer in a microchannel with nucleated-shape columnar micro-pin-fins
CN103107119B (zh) 基板冷却系统、基板处理装置、静电吸盘及基板冷却方法
CN108444325B (zh) 一种纳米薄膜与微通道相结合的冷却装置
RU2581522C1 (ru) Способ охлаждения электронного оборудования с использованием конденсатора-пленкоформирователя
Wang et al. Transition between thin film boiling and evaporation on nanoporous membranes near the kinetic limit
KR102427104B1 (ko) 냉각장치, 반도체 제조장치 및 반도체 제조방법
EP3171111A1 (en) Evaporator assembly
Ji et al. Parametric investigation on the close-loop R410A flash spray system for high power electronics cooling under low temperature
Mortazavi et al. Compact and efficient generator for low grade solar and waste heat driven absorption systems
RU2649170C1 (ru) Способ охлаждения электронного оборудования с использованием комбинированных пленочных и капельных потоков жидкости
Zhao et al. Experimental investigation of heat transfer performance in gas-atomized spray cooling
RU2818424C1 (ru) Двухфазная однокомпонентная замкнутая система охлаждения с использованием конденсатора - пленкоформирователя
TWI706229B (zh) 工作台裝置和浸潤微影設備
RU2816279C1 (ru) Система охлаждения электронного оборудования со смесью пара и неконденсируемого газа
RU2807853C1 (ru) Двухфазная однокомпонентная система охлаждения
Orlova et al. Evaporation rate of a liquid layer streamlined by gas flow in minichannel
Cheverda et al. Crisis of heat transfer on a micro-finned heater with gas-driven FC-72 film flow in a mini-channel
Li et al. High heat flux dissipation of membrane-venting heat sink with thin film boiling
RU2614897C1 (ru) Конденсатор-сепаратор для двухкомпонентных двухфазных систем

Legal Events

Date Code Title Description
QA4A Patent open for licensing

Effective date: 20181102