RU2539850C2 - Planar cylindrical microlens - Google Patents

Planar cylindrical microlens Download PDF

Info

Publication number
RU2539850C2
RU2539850C2 RU2013100960/28A RU2013100960A RU2539850C2 RU 2539850 C2 RU2539850 C2 RU 2539850C2 RU 2013100960/28 A RU2013100960/28 A RU 2013100960/28A RU 2013100960 A RU2013100960 A RU 2013100960A RU 2539850 C2 RU2539850 C2 RU 2539850C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
microlens
lens
slit
width
light
Prior art date
Application number
RU2013100960/28A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2013100960A (en
Inventor
Виктор Викторович Котляр
Антон Геннадьевич Налимов
Original Assignee
Российская академия наук Учреждение Российской академии наук Институт систем обработки изображений РАН (ИСОИ РАН)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Российская академия наук Учреждение Российской академии наук Институт систем обработки изображений РАН (ИСОИ РАН) filed Critical Российская академия наук Учреждение Российской академии наук Институт систем обработки изображений РАН (ИСОИ РАН)
Priority to RU2013100960/28A priority Critical patent/RU2539850C2/en
Publication of RU2013100960A publication Critical patent/RU2013100960A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2539850C2 publication Critical patent/RU2539850C2/en

Links

Images

Abstract

FIELD: physics, optics.
SUBSTANCE: microlens can be used in planar imaging devices, integrated optical devices, for connecting optical waveguides, for inputting radiation into photonic crystal and planar waveguides etc. The planar cylindrical microlens has a rectangular entrance aperture and is in the form of a photonic crystal. A slit is made along the optical axis of the microlens. The length of the slit is less than or equal to the length of the microlens and reaches the focal plane of the microlens. The microlens can be easily made by nanolithography or photolithography.
EFFECT: enabling focusing of TM polarised light into a spot with a width less than the diffraction limit of the order of 0,03 times the light wavelength.
8 dwg

Description

Изобретение относится к фокусировке когерентного оптического излучения для получения фокусного пятна с заданной шириной меньше дифракционного предела в 2D случае (цилиндрическая планарная линза). Данная микролинза может быть использована в изображающих планарных устройствах, устройствах интегральной оптики, для соединения оптических волноводов, для ввода излучения в фотонно-кристаллические и планарные волноводы и т.д.The invention relates to the focusing of coherent optical radiation to obtain a focal spot with a given width less than the diffraction limit in the 2D case (cylindrical planar lens). This microlens can be used in imaging planar devices, integrated optical devices, for connecting optical waveguides, for introducing radiation into photonic crystal and planar waveguides, etc.

Для планарной фокусировки света используются различные типы линз. Самым простым вариантом являются обычные сферические или асферические линзы. Другой вариант линзы для фокусировки излучения описан в работе Graded index photonic crystals / H. Kurt, D.S. Citrin / Optics Express, 2007. - V.15. - P.1240-1252 (аналог). В этой работе применена фотонно-кристаллическая микролинза для фокусировки света, аналог градиентной линзы. Фотонный кристалл выполнен с помощью создания в материале с показателем преломления n=3,47 круглых отверстий, диаметр которых варьировался для получения среднего показателя преломления, заданного формулой

Figure 00000001
. Various types of lenses are used for planar focusing of light. The simplest option is conventional spherical or aspherical lenses. Another embodiment of a focusing lens is described in Graded index photonic crystals / H. Kurt, DS Citrin / Optics Express, 2007. - V.15. - P.1240-1252 (analogue). In this work, we used a photonic crystal microlens for focusing light, an analog of a gradient lens. The photonic crystal was made by creating round holes in the material with a refractive index n = 3.47, the diameter of which was varied to obtain the average refractive index given by the formula
Figure 00000001
.

Недостаток такой линзы заключается в недостаточно острой фокусировке света. Авторами получено значение ширины фокусного пятна по полуспаду интенсивности (FWHM) около 0,5λ в среде с показателем преломления n=3,47. С помощью такой линзы невозможно получить фокусное пятно с шириной, намного меньшей дифракционного предела.The disadvantage of this lens is the lack of sharp focusing of light. The authors obtained a focal spot width at half-intensity (FWHM) of about 0.5λ in a medium with a refractive index of n = 3.47. Using such a lens, it is impossible to obtain a focal spot with a width much smaller than the diffraction limit.

Для достижения острой фокусировки следует использовать линзы с высокой числовой апертурой. Если считать, что фокусное пятно создается только распространяющимися волнами с максимальным наклоном к оптической оси, равным θ, то ширина фокуса по полуспаду интенсивности должна быть равной

Figure 00000002
, где λ - длина волны в вакууме, n - показатель преломления среды, в которой происходит фокусировка света. To achieve sharp focus, high numerical aperture lenses should be used. If we assume that the focal spot is created only by propagating waves with a maximum slope to the optical axis equal to θ, then the focus width along the half-intensity should be equal to
Figure 00000002
where λ is the wavelength in vacuum, n is the refractive index of the medium in which the light is focused.

При числовой апертуре NA=nsinθ, стремящейся к n, ширина фокуса в 2D случае не может быть лучше

Figure 00000003
. Эту величину можно рассматривать как дифракционный предел в 2D случае.With a numerical aperture NA = nsinθ tending to n, the focus width in the 2D case cannot be better
Figure 00000003
. This value can be considered as the diffraction limit in the 2D case.

Для получения наиболее острой фокусировки следует фокусировать свет вблизи раздела двух сред, например материал оптического элемента с показателем преломления n>1 и воздух с показателем преломления 1. Вблизи поверхности раздела сред возбуждаются поверхностные световые волны, конструктивная интерференция которых может приводить к уменьшению фокусного пятна ниже дифракционного предела. Это возможно потому, что поверхностные волны имеют проекцию волнового вектора kx на поперечную координату x большую, чем волновое число в среде: kx>k0n, где k0=2π/λ - волновое число света в вакууме.To obtain the sharpest focusing, one should focus light near the separation of two media, for example, the material of an optical element with a refractive index n> 1 and air with a refractive index of 1. Near the interface, surface light waves are excited, the constructive interference of which can lead to a decrease in the focal spot below the diffraction the limit. This is possible because surface waves have a projection of the wave vector k x onto the transverse coordinate x greater than the wave number in the medium: k x > k 0 n, where k 0 = 2π / λ is the wave number of light in vacuum.

Наилучшими фокусирующими свойствами обладают градиентные линзы. В частности, микролинза, показатель преломления которой описывается гиперболическим секансом:The best focusing properties are gradient lenses. In particular, a microlens, the refractive index of which is described by a hyperbolic secant:

Figure 00000004
,
Figure 00000004
,

где L - длина линзы, n0 - максимальный показатель преломления на оптической оси, x - поперечная координата (Микаэлян А.Л. Применение свойств среды для фокусирования волн // Доклады академии наук СССР. - 1951. - Вып.81. - С.569-571). where L is the length of the lens, n 0 is the maximum refractive index on the optical axis, x is the transverse coordinate (A. Mikaelyan, Application of the properties of a medium for focusing waves, Doklady Akademii Nauk SSSR. - 1951. - Issue 81. - S. 569-571).

Такие линзы могут быть созданы с помощью аппроксимации градиентного показателя преломления дифракционной субволновой микроструктурой, например, с помощью фотонных кристаллов.Such lenses can be created by approximating the gradient refractive index by a diffraction subwavelength microstructure, for example, using photonic crystals.

Наиболее близка к данному изобретению работа, описанная в Chien, Н.Т. Focusing of electromagnetic waves by periodic arrays of air holes with gradually varying radii / H.T. Chien and C.C. Chen // Opt. Exp. - 2006. - V.14. - P. 10759, взятая за прототип. Однако ширина фокусного пятна в данной линзе близка к 0,5 длине волны света.Closest to this invention is the work described in Chien, N.T. Focusing of electromagnetic waves by periodic arrays of air holes with gradually varying radii / H.T. Chien and C.C. Chen // Opt. Exp. - 2006. - V.14. - P. 10759, taken as a prototype. However, the width of the focal spot in this lens is close to 0.5 of the wavelength of light.

В данном изобретении была поставлена задача сфокусировать ТМ-поляризованный свет в пятно шириной менее дифракционного предела, порядка 0,03 длины волны света с помощью планарной цилиндрической микролинзы.In this invention, the task was to focus TM-polarized light into a spot with a width less than the diffraction limit, of the order of 0.03 wavelengths of light using a planar cylindrical microlens.

Задача достигается за счет того, что в планарной цилиндрической микролинзе, имеющей прямоугольную входную апертуру, выполненной в виде фотонного кристалла, согласно изобретению вдоль оптической оси микролинзы выполнена щель, при этом длина щели меньше или равна длине микролинзы и доходит до фокусной плоскости микролинзы.The problem is achieved due to the fact that in a planar cylindrical microlens having a rectangular input aperture made in the form of a photonic crystal, according to the invention, a gap is made along the optical axis of the microlens, while the length of the slit is less than or equal to the length of the microlens and reaches the focal plane of the microlens.

В случае наличия щели ТМ-поляризованная волна может распространяться в ней как в волноводе, а фокусировка света градиентной линзой сосредоточит энергию поля внутри щели в фокусной плоскости. Ширина фокусного пятна, сформированного на границе линзы, будет близка к ширине щели, что позволит создавать планарные линзы со сколь угодно малым фокусом. Чем уже щель, тем уже фокус, но и тем меньше интенсивность света и количество световой энергии в фокусе. Длина щели Н может быть как равна длине линзы, так и быть меньше ее. Микролинза сохраняет свою работоспособность, если щель будет доходить до выходной апертуры линзы, а ее длина будет составлять десятые доли длины волны света в материале, из которого изготовлена микролинза.In the case of a gap, a TM-polarized wave can propagate in it as in a waveguide, and focusing the light with a gradient lens will concentrate the field energy inside the gap in the focal plane. The width of the focal spot formed at the boundary of the lens will be close to the width of the slit, which will create planar lenses with an arbitrarily small focus. The narrower the gap, the narrower the focus, but also the lower the light intensity and the amount of light energy in focus. The length of the slit N can be equal to the length of the lens, or be less than it. A microlens maintains its operability if the gap reaches the exit aperture of the lens, and its length is tenths of the wavelength of light in the material of which the microlens is made.

Микролинза с градиентным показателем преломления с субволновой на оптической оси щелью может быть создана различными способами. Это может быть как микролинза с настоящим градиентным распределением показателя преломления (например, созданная комбинацией напыления различных материалов), так и с кусочно-постоянным распределением показателя преломления, например, имеющая вид бинарной дифракционной решетки или фотонного кристалла (с квадратными или круглыми отверстиями), средний показатель преломления которого повторяет градиентный аналог. Изготовить линзу можно с помощью технологии травления кремния после нанесения на него маскирующего слоя резиста с заданным микрорельефом (электронная литография).A microlens with a gradient refractive index with a subwave gap on the optical axis can be created in various ways. This can be either a microlens with a real gradient distribution of the refractive index (for example, created by a combination of sputtering of various materials), or with a piecewise constant distribution of the refractive index, for example, having the form of a binary diffraction grating or a photonic crystal (with square or round holes), medium the refractive index of which repeats the gradient analog. A lens can be made using silicon etching technology after applying a masking resist layer with a given microrelief (electronic lithography).

На Фиг.1 приведено (в полутонах) распределение показателя преломления в градиентной гиперболической секансной линзе.Figure 1 shows (in semitones) the distribution of the refractive index in a gradient hyperbolic secant lens.

На Фиг.2 приведено распределение интенсивности света в относительных единицах в фокальной плоскости линзы.Figure 2 shows the distribution of light intensity in relative units in the focal plane of the lens.

На Фиг.3 приведено распределение показателя преломления в градиентной линзе со щелью.Figure 3 shows the distribution of the refractive index in a gradient lens with a slit.

На Фиг.4 приведено распределение интенсивности света в фокальной плоскости градиентной линзы со щелью.Figure 4 shows the distribution of light intensity in the focal plane of a gradient lens with a slit.

На Фиг.5 приведено распределение показателя преломления в фотонно-кристаллической линзе со щелью с шахматной расстановкой отверстий.Figure 5 shows the distribution of the refractive index in a photonic crystalline lens with a slit with staggered holes.

На Фиг.6 приведено распределение интенсивности света в фокальной плоскости фотонно-кристаллической линзы с шахматной расстановкой отверстий, без щели.Figure 6 shows the distribution of light intensity in the focal plane of a photonic crystal lens with a checkerboard hole arrangement, without a gap.

На Фиг.7 приведено распределение интенсивности света в фокальной плоскости фотонно-кристаллической линзы с шахматной расстановкой отверстий, со щелью.Figure 7 shows the distribution of light intensity in the focal plane of a photonic crystal lens with staggered holes, with a slit.

На Фиг.8 приведено распределение интенсивности света в фокальной плоскости фотонно-кристаллической линзы с шахматной расстановкой отверстий, со щелью.Figure 8 shows the distribution of light intensity in the focal plane of a photonic-crystalline lens with a checkerboard pattern of holes, with a slit.

На Фиг.1 приведено в градациях серого распределение показателя преломления в градиентной гиперболической секансной линзе без щели. Видно, что показатель преломления максимальный по центру, достигающий значения n0=3,47 (кремний, Si), и спадает к краям до n(R)=1. Ширина микролинзы составляет 2R=4,8 мкм, длина L=2 мкм. Микролинза рассчитана на длину волны света λ=1,55 мкм.Figure 1 shows in grayscale the distribution of the refractive index in a gradient hyperbolic secant lens without a gap. It is seen that the refractive index is maximum in the center, reaching n 0 = 3.47 (silicon, Si), and drops to the edges to n (R) = 1. The width of the microlens is 2R = 4.8 μm, the length L = 2 μm. The microlens is designed for a wavelength of light λ = 1.55 μm.

На Фиг.2 приведено распределение интенсивности I ТМ-поляризованной волны (электрический вектор волны лежит в плоскости линзы, а магнитный вектор перпендикулярен плоскости линзы) в относительных единицах в фокальной плоскости линзы, показанной на Фиг.1. Фокальная плоскость расположена на границе линзы при z=2 мкм. Свет в виде плоской волны на Фиг.1, 3, 5 распространяется снизу вверх и падает нормально на входе линзы при Z=0. На Фиг.2 ширина фокального пятна по полуспаду интенсивности составляет FWHM=0,181 мкм=0,117λ. Дифракционный предел ширины фокусного пятна по полуспаду интенсивности для данного показателя преломления и длины волны составляет

Figure 00000005
.Figure 2 shows the intensity distribution I of the TM polarized wave (the electric wave vector lies in the plane of the lens, and the magnetic vector is perpendicular to the plane of the lens) in relative units in the focal plane of the lens shown in Figure 1. The focal plane is located at the boundary of the lens at z = 2 μm. The light in the form of a plane wave in Figs. 1, 3, 5 propagates from the bottom up and falls normally at the input of the lens at Z = 0. In Fig.2, the width of the focal spot at the half-intensity is FWHM = 0.181 μm = 0.117λ. The diffraction limit of the width of the focal spot over the half-intensity for a given refractive index and wavelength is
Figure 00000005
.

На Фиг.3 приведено распределение показателя преломления в градиентной линзе со щелью для фокусировки ТМ-поляризованной волны в узкое фокусное пятно заданной ширины W. Параметры линзы те же, что и на фиг.1. Ширина щели W может быть произвольной и менее дифракционного предела, щель проходит вдоль оптической оси через всю линзу.Figure 3 shows the distribution of the refractive index in a gradient lens with a slit for focusing a TM polarized wave into a narrow focal spot of a given width W. The lens parameters are the same as in figure 1. The width of the slit W can be arbitrary and less than the diffraction limit, the slit passes along the optical axis through the entire lens.

На Фиг.4 приведено распределение интенсивности света ТМ-поляризованной волны в фокальной плоскости градиентной линзы со щелью, показатель преломления которой изображен на Фиг.3. Ширина щели W=50 нм, ширина фокального пятна по полуспаду интенсивности составляет FWHM=43 нм=0,029λ на расстоянии 10 нм за линзой.Figure 4 shows the distribution of light intensity of a TM-polarized wave in the focal plane of a gradient lens with a slit, the refractive index of which is shown in Figure 3. The width of the slit is W = 50 nm, the width of the focal spot in terms of half-intensity is FWHM = 43 nm = 0.029λ at a distance of 10 nm behind the lens.

На Фиг.5 приведено распределение показателя преломления в фотонно-кристаллической линзе со щелью, аналогичной градиентной линзе, для фокусировки ТМ-поляризованной волны в узкое фокусное пятно заданной ширины W. Ширина щели W может быть произвольной и менее дифракционного предела. Ширина линзы составляет 2R=4,6 мкм, длина L=2 мкм, максимальный диаметр отверстий 0,25 мкм, минимальный 30 нм, показатель преломления материала линзы n=3,47.Figure 5 shows the distribution of the refractive index in a photonic crystal lens with a slit similar to a gradient lens for focusing a TM polarized wave into a narrow focal spot of a given width W. The width of the slit W can be arbitrary or less than the diffraction limit. The width of the lens is 2R = 4.6 μm, the length L = 2 μm, the maximum hole diameter is 0.25 μm, the minimum is 30 nm, the refractive index of the lens material is n = 3.47.

На Фиг.6 приведено распределение интенсивности света ТМ-поляризованной волны в фокальной плоскости фотонно-кристаллической линзы, показатель преломления которой изображен на Фиг.5, но без щели. Ширина фокального пятна по полуспаду интенсивности составляет FWHM=162 нм=0,104λ на расстоянии 10 нм за линзой (Z=2,01 мкм). Дифракционная эффективность фокусировки света по первым минимумам интенсивности у фокуса составила 32%.Figure 6 shows the distribution of light intensity of a TM-polarized wave in the focal plane of a photonic crystal lens, the refractive index of which is shown in Figure 5, but without a gap. The width of the focal spot in terms of the half-intensity is FWHM = 162 nm = 0.104λ at a distance of 10 nm behind the lens (Z = 2.01 μm). The diffraction efficiency of focusing light at the first intensity minima at the focus was 32%.

На Фиг.7 приведено распределение интенсивности света ТМ-поляризованной волны в фокальной плоскости фотонно-кристаллической линзы, показатель преломления которой изображен на Фиг.5, со щелью вдоль оптической оси шириной W=50 нм. Щель проходит через всю линзу (Н=2 мкм). Ширина фокального пятна по полуспаду интенсивности составляет FWHM=59 нм=0,038λ на расстоянии 10 нм за линзой. Максимальная интенсивность света в фокусном пятне возросла, ширина фокуса сравнима с шириной щели. Эффективность фокусировки света по первым минимумам интенсивности у фокуса составила 27%. Уменьшая ширину щели W можно добиться более узких фокусных пятен, однако количество энергии в них и интенсивность будет падать.Figure 7 shows the light intensity distribution of a TM polarized wave in the focal plane of a photonic crystal lens, the refractive index of which is shown in Figure 5, with a slit along the optical axis of width W = 50 nm. The slit passes through the entire lens (H = 2 μm). The width of the focal spot at the half-intensity is FWHM = 59 nm = 0.038λ at a distance of 10 nm behind the lens. The maximum light intensity in the focal spot has increased, the width of the focus is comparable to the width of the slit. The focusing efficiency of the light at the first intensity minimums at the focus was 27%. By reducing the width of the slit W, narrower focal spots can be achieved, however, the amount of energy in them and the intensity will decrease.

На Фиг.8 приведено распределение интенсивности света ТМ-поляризованной волны в фокальной плоскости фотонно-кристаллической линзы, показатель преломления которой изображен на Фиг.5, со щелью вдоль оптической оси шириной W=50 нм, а длина щели подобрана для максимума интенсивности света в фокусе и составляет H=0,24 мкм. Ширина фокального пятна по полуспаду интенсивности составляет FWHM=58 нм=0,037λ на расстоянии 10 нм за линзой. Максимальная интенсивность света в фокусном пятне еще больше, чем в случае Н=2 мкм (Фиг.7). Эффективность фокусировки света по первым минимумам интенсивности у фокуса тоже возросла по сравнению с предыдущим случаем и составила 45%.Fig. 8 shows the light intensity distribution of a TM polarized wave in the focal plane of a photonic crystal lens, the refractive index of which is shown in Fig. 5, with a slit along the optical axis with a width of W = 50 nm, and the slit length is selected for the maximum light intensity in focus and is H = 0.24 μm. The width of the focal spot along the half-intensity is FWHM = 58 nm = 0.037λ at a distance of 10 nm behind the lens. The maximum light intensity in the focal spot is even greater than in the case of H = 2 μm (Fig.7). The focusing efficiency of the light at the first intensity minima at the focus also increased compared to the previous case and amounted to 45%.

Из приведенного примера видно, что планарная микролинза со щелью формирует узкое фокусное пятно с заданной шириной (при прочих равных условиях) в отличие от простых градиентных и аналогичных им линз (прототип). Так же видно, что, подбирая длину щели H, можно значительно увеличить интенсивность (мощность) в фокусе линзы и даже создать линзу, у которой одновременно и ширина фокусного пятна меньше, и эффективность фокусировки света выше аналогичной линзы без щели.It can be seen from the above example that a planar microlens with a slit forms a narrow focal spot with a given width (ceteris paribus) in contrast to simple gradient and similar lenses (prototype). It is also seen that, choosing the length of the slit H, it is possible to significantly increase the intensity (power) in the focus of the lens and even create a lens that has less focal spot width at the same time and the light focusing efficiency is higher than a similar lens without a slit.

Преимущество данной линзы заключается также в простоте и удобстве изготовления с помощью технологий нанолитографии (запись отверстий в маскирующем слое электронного резиста типа ЭРП-40 электронным лучом в электронном микроскопе с литографической приставкой с последующим проявлением резиста и плазмохимическим травлением подложки) или фотолитографии.The advantage of this lens also lies in the simplicity and convenience of manufacturing using nanolithography technologies (recording holes in a masking layer of an electronic resist like ERP-40 with an electron beam in an electron microscope with a lithographic attachment, followed by the manifestation of the resist and plasma-chemical etching of the substrate) or photolithography.

Claims (1)

Планарная цилиндрическая микролинза, имеющая прямоугольную входную апертуру, выполненная в виде фотонного кристалла, отличающаяся тем, что вдоль оптической оси микролинзы выполнена щель, при этом длина щели меньше или равна длине микролинзы и доходит до фокусной плоскости микролинзы. A planar cylindrical microlens having a rectangular entrance aperture made in the form of a photonic crystal, characterized in that a gap is made along the optical axis of the microlens, while the length of the gap is less than or equal to the length of the microlens and reaches the focal plane of the microlens.
RU2013100960/28A 2013-01-09 2013-01-09 Planar cylindrical microlens RU2539850C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013100960/28A RU2539850C2 (en) 2013-01-09 2013-01-09 Planar cylindrical microlens

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013100960/28A RU2539850C2 (en) 2013-01-09 2013-01-09 Planar cylindrical microlens

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2013100960A RU2013100960A (en) 2014-07-20
RU2539850C2 true RU2539850C2 (en) 2015-01-27

Family

ID=51215131

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013100960/28A RU2539850C2 (en) 2013-01-09 2013-01-09 Planar cylindrical microlens

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2539850C2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109839749B (en) * 2019-04-02 2021-04-20 上海理工大学 Variable period grating photonic crystal super-resolution imaging device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7643719B1 (en) * 2003-03-14 2010-01-05 Phosistor Technologies, Inc. Superlens and a method for making the same
RU2454760C1 (en) * 2010-12-27 2012-06-27 Российская академия наук Учреждение Российской академии наук Институт систем обработки изображений РАН (ИСОИ РАН) Planar binary microlens

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7643719B1 (en) * 2003-03-14 2010-01-05 Phosistor Technologies, Inc. Superlens and a method for making the same
RU2454760C1 (en) * 2010-12-27 2012-06-27 Российская академия наук Учреждение Российской академии наук Институт систем обработки изображений РАН (ИСОИ РАН) Planar binary microlens

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Hung-Ta Chien, Chii-Chang Chen "Focusing of electromagnetic waves by periodic arrays of air holes with gradually varying radii", Optics Express, 2006, Vol. 14, Issue 22, pp. 10759-10764, Найдено в Интернет: http://dx.doi.org/10.1364/OE.14.010759. *
Налимов А.Г., Котляр В.В. "ОПТИМИЗАЦИЯ ПАРАМЕТРОВ ПЛАНАРНОЙ БИНАРНОЙ ЛИНЗЫ ДЛЯ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА ИЗЛУЧЕНИЯ", Компьютерная оптика, 2012, т. 36, N3, 327-332, Найдено в Интернет: http://www.computeroptics.smr.ru/KO/PDF/KO36-3/04.pdf. *

Also Published As

Publication number Publication date
RU2013100960A (en) 2014-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Chen et al. Superoscillation: from physics to optical applications
JP7199224B2 (en) Near-field focusing with a hollow nanojet lens
Lee et al. The use of plasmonics in light beaming and focusing
US11537025B2 (en) Molding free-space light with guided-wave-driven metasurfaces
US20160306079A1 (en) Multi-wavelength optical dielectric metasurfaces
CN104090332B (en) Focal length, tightly focused surface phasmon lens under a kind of radial polarisation light
CN203965658U (en) Long burnt, tight focus surface phasmon lens under a kind of radial polarisation light
US10866360B2 (en) Broadband multifunctional efficient meta-gratings based on dielectric waveguide phase shifters
Mote et al. Focusing behavior of 2-dimensional plasmonic conical zone plate
US6782169B2 (en) System for efficient coupling to photonic crystal waveguides
US20220357484A1 (en) Methods and Systems for Metasurface-Based Nanofabrication
JP2012093584A (en) Optical coupler, optical scanner and spectrometer
JP2006330085A (en) Method for manufacturing member having fine structure and exposure method used for the manufacturing method
US20120091552A1 (en) Optical devices based on non-periodic sub-wavelength gratings
RU2539850C2 (en) Planar cylindrical microlens
Safaei et al. High‐Efficiency Broadband Mid‐Infrared Flat Lens
KR101718240B1 (en) Ultra-compact photonic phased array antenna
RU2454760C1 (en) Planar binary microlens
CN108919392B (en) Linear surface plasmon lens and illumination method thereof
RU2473155C1 (en) Planar photonic-crystal microlens
Mahmood et al. Light manipulation at compact scale via all–dielectric metasurfaces
Li et al. Plasmonic leak-free focusing lens under radially polarized illumination
KR101710570B1 (en) Nano-hole array substrate for an extraordinary optical transmission and super resolution imaging system using of the same
Esslinger et al. Phase engineering of subwavelength unidirectional plasmon launchers
Kim et al. Hybrid surface wave device

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20170110