RU2494176C1 - Method of crystal growth by kiropulos method - Google Patents
Method of crystal growth by kiropulos method Download PDFInfo
- Publication number
- RU2494176C1 RU2494176C1 RU2012109188/05A RU2012109188A RU2494176C1 RU 2494176 C1 RU2494176 C1 RU 2494176C1 RU 2012109188/05 A RU2012109188/05 A RU 2012109188/05A RU 2012109188 A RU2012109188 A RU 2012109188A RU 2494176 C1 RU2494176 C1 RU 2494176C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- melt
- crystal
- crucible
- growth
- solution
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к способу выращивания крупных кристаллов из расплава или из раствор-расплава методом Киропулоса, предназначенных для использования в приборах квантовой электроники.The invention relates to a method for growing large crystals from a melt or from a solution-melt by the Kyropoulos method, intended for use in quantum electronics devices.
При выращивании кристаллов методом Киропулоса кристаллизацию начинают на поверхности расплава с дальнейшим прорастанием кристалла вглубь расплава. Расплав готовят в ростовом платиновом тигле из исходной сырьевой смеси нагреванием до температуры плавления. После гомогенизации расплава в центральную точку поверхности расплава помещают закрепленный на охлаждаемом стержне затравочный кристалл. На границе раздела: кристалл - расплав за счет отвода тепла через стержень и медленного снижения температуры создается переохлаждение, и на затравке растет монокристалл. Выросший кристалл поднимают (автоматически или вручную) над расплавом. Первоначально метод был применен для выращивания галогенидов щелочных металлов [Вильке К.Т. Выращивание кристаллов - Ленинград, «Недра», 1977, с.329].When crystals are grown by the Kyropoulos method, crystallization begins on the surface of the melt with further growth of the crystal deep into the melt. The melt is prepared in a growth platinum crucible from the initial raw material mixture by heating to the melting temperature. After homogenization of the melt, a seed crystal mounted on a cooled rod is placed at a central point on the surface of the melt. At the interface: crystal - melt due to heat removal through the rod and slow temperature decrease, supercooling is created, and a single crystal grows on the seed. The grown crystal is raised (automatically or manually) above the melt. Initially, the method was applied for the growth of alkali metal halides [Wilke K.T. Crystal growth - Leningrad, "Nedra", 1977, p.329].
В последнее время метод успешно применен для роста кристаллов из раствор-расплавных сред [Nishioka M. and et all Growth of CsLiB6O10 crystals with high laser damage tolerance - J.Crystal Growth, 2005, 279, p.76-81]. При выращивании кристаллов методом Киропулоса путем роста кристалла на затравку, зафиксированную в кристаллодержателе и расположенную сверху в центральной точке поверхности расплава, разращивания кристалла при медленном снижении температуры, подъема кристалла из расплава или раствор-расплава и охлаждения выросшего кристалла, значительная часть растущего кристалла находится под поверхностью расплава, что благоприятствует формированию крупных кристаллов.Recently, the method has been successfully applied to the growth of crystals from solution-melt media [Nishioka M. and et all Growth of CsLiB 6 O 10 crystals with high laser damage tolerance - J. Crystal Growth, 2005, 279, p. 76-81]. When crystals are grown by the Kyropoulos method by growing the crystal onto a seed fixed in the crystal holder and located at the top at the center point of the melt surface, growing the crystal with a slow temperature decrease, raising the crystal from the melt or melt solution and cooling the grown crystal, a significant part of the growing crystal is below the surface melt, which favors the formation of large crystals.
Однако подъем кристалла из раствор-расплава для его охлаждения сопряжен с целым рядом трудностей.However, the rise of a crystal from a solution-melt for its cooling is associated with a number of difficulties.
Во-первых, возможно растрескивание затравки в подзатравочной области, что приводит к потере кристалла из-за падения его в раствор-расплав.Firstly, cracking of the seed in the seed region is possible, which leads to the loss of the crystal due to its falling into the melt solution.
Во-вторых, при выращивании кристаллов методом Киропулоса над расплавом необходимо создавать перепад температуры. При перемещении кристалла в эту область возникают термоупругие напряжения, которые зачастую приводят к растрескиванию кристалла и уменьшают выход материала, пригодного для изготовления оптических элементов.Secondly, when growing crystals by the Kyropoulos method over a melt, it is necessary to create a temperature drop. When a crystal moves to this region, thermoelastic stresses arise, which often lead to cracking of the crystal and reduce the yield of a material suitable for manufacturing optical elements.
В-третьих, при медленном остывании поднятого кристалла на поверхности остаточного раствор-расплава начинается спонтанная кристаллизация, что приводит к деформации тигля.Thirdly, when the raised crystal is slowly cooled on the surface of the residual solution-melt, spontaneous crystallization begins, which leads to deformation of the crucible.
Кроме того, растущий кристалл ограничен стенками тигля и, в случае ассиметричного роста, возможен контакт кристалла со стенками тигля, что делает невозможным его подъем над расплавом. В кристалле, охлаждаемом совместно с расплавом, образуются многочисленные трещины вследствие сильного давления кристаллизующегося расплава.In addition, the growing crystal is limited by the walls of the crucible and, in the case of asymmetric growth, contact of the crystal with the walls of the crucible is possible, which makes it impossible to rise above the melt. In a crystal co-cooled with the melt, numerous cracks are formed due to the strong pressure of the crystallizing melt.
Задачей изобретения является получение качественных объемных кристаллов.The objective of the invention is to obtain high-quality bulk crystals.
Технический результат заключается в том, что изобретение позволяет избежать растрескивания кристалла из-за термоупругих напряжений, возникающих в момент подъема кристалла, а также деформацию платинового тигля расплавом при его медленном охлаждении.The technical result consists in the fact that the invention avoids cracking of the crystal due to thermoelastic stresses arising at the moment of raising the crystal, as well as deformation of the platinum crucible by the melt during its slow cooling.
Кроме того, в предложенном способе можно использовать более низкие тигли, т.к. отсутствует необходимость в верхнем пространстве над раствор-расплавом, предназначенном для подъема кристалла при его охлаждении в известном способе. Это дает возможность создать более стабильные тепловые условия в зоне роста кристалла. Отсутствие деформации стенок тигля позволяет использовать для выращивания кристаллов более тонкостенные тигли. Эти два фактора делают процесс выращивания кристалла более эффективным из-за значительного уменьшения веса дорогостоящих платиновых контейнеровIn addition, in the proposed method, you can use lower crucibles, because there is no need for an upper space above the melt solution, designed to lift the crystal when it is cooled in the known method. This makes it possible to create more stable thermal conditions in the crystal growth zone. The absence of deformation of the crucible walls allows the use of thinner crucibles for crystal growth. These two factors make the crystal growing process more efficient due to the significant reduction in the weight of expensive platinum containers.
Для достижения технического результата по окончании ростового процесса оставшийся в тигле расплав или раствор-расплав сливают через нагретую с помощью дополнительного нагревателя трубку, расположенную в донной части тигля, а выросший кристалла, сохраняющий свое положение после окончания ростового цикла, охлаждают в освобожденном от расплава тигле.To achieve a technical result, at the end of the growth process, the melt or solution-melt remaining in the crucible is poured through a tube heated in the crucible bottom located by means of an additional heater, and the grown crystal, which retains its position after the end of the growth cycle, is cooled in a crucible freed from the melt.
Из патентов [RU 2304620, опубл. 20.08.2007; JP 3183682 (А), опубл. 08.09.1991] известно, по сути, о сливе расплава через донную часть ростового тигля. Однако в описанных патентах в ростовом тигле сделаны отверстия для удаления в процессе роста кристалла, излишнего количества расплава образующегося из-за разницы плотностей жидкой и твердой фаз кристаллизующегося материала, т.к. при плотности жидкой фазы, большей, чем твердой фазы, кристаллизация идет с увеличением объема.From patents [RU 2304620, publ. 08/20/2007; JP 3183682 (A), publ. 09/08/1991] it is known, in fact, about the discharge of the melt through the bottom of the growth crucible. However, in the described patents, holes were made in the growth crucible to remove, during the crystal growth, an excess amount of the melt formed due to the difference in the densities of the liquid and solid phases of the crystallizing material, since when the density of the liquid phase is greater than the solid phase, crystallization occurs with an increase in volume.
В предлагаемом решении установленная в донной части ростового тигля нагретая трубка предназначена для слива раствор-расплава, оставшегося после роста кристалла. Удаление остаточного раствор-расплава позволяет эффективно извлекать выросшие кристаллы из тигля по окончании ростового цикла, что обеспечивает получение качественных объемных кристаллов без растрескивания, исключая деформацию тигля раствор-расплавом при медленном охлаждении кристалла.In the proposed solution, a heated tube installed in the bottom of the growth crucible is designed to drain the melt solution remaining after crystal growth. Removing the residual melt solution allows the efficient extraction of the grown crystals from the crucible at the end of the growth cycle, which ensures high-quality bulk crystals without cracking, eliminating the deformation of the crucible by the solution-melt during slow cooling of the crystal.
Рост крупных кристаллов методом Киропулоса с предлагаемым приемом охлаждения выросшего кристалла продемонстрирован на примере кристаллов трибората лития (LiB3O5). Однако он может быть применен для любых кристаллов, выращиваемых в объеме расплава или раствор-расплава.The growth of large crystals by the Kyropoulos method with the proposed method of cooling the grown crystal is demonstrated by the example of lithium triborate crystals (LiB 3 O 5 ). However, it can be applied to any crystals grown in the bulk of the melt or melt solution.
На фиг.1 представлена схема установки для выращивания кристаллов методом Киропулоса со сливом расплава или раствор-расплава из ростового тигля в дополнительный тигель.Figure 1 presents a diagram of an installation for growing crystals by the Kyropoulos method with the discharge of the melt or solution-melt from the growth crucible into an additional crucible.
На фиг.2 представлена фотография кристалла трибората лития размером 150×130×80 мм.Figure 2 presents a photograph of a crystal of lithium triborate with a size of 150 × 130 × 80 mm
Пример. В платиновый ростовой тигель 1 (фиг.1) диаметром 170 мм загружают шихту для получения 6 кг готового расплава 2 для выращивания LiB6O5. Соотношения компонентов флюса 2Li2O:3В2О3:3МоО3 позволяют выращивать кристаллы весом 1320 г. После гомогенизации раствор-расплава в течение 5-7 суток в печь 3 опускают затравку LiB3O5 4, зафиксированную в кристаллодержателе 5, и определяют температуру насыщения по скорости оплавления затравки после ее касания поверхности расплава. Т.к. раствор-расплав электропроводен, то момент соприкосновения затравки с поверхностью расплава устанавливают по падению сопротивления в электроцепи тигель - раствор-расплав - затравка - шток. При касании затравкой поверхности расплава цепь замыкается и сопротивление уменьшается на 2-3 порядка. После затравления температуру снижают, охлаждая систему со скоростью 1 -2 град/сутки. По окончании ростового процесса включают встроенный дополнительный нагреватель 6, разогревая платиновую трубку 7 в донной части ростового тигля 1 до появления первых капель расплава. Оптимальная скорость вытекающего расплава составляет, примерно 1 кап/сек. Раствор-расплав стекает в дополнительный платиновый тигель 8 размером 150×100 мм2. Процедуру слива раствор-расплава с момента включения встроенного нагревателя осуществляют в течение 1,5-2 час. Получают кристалл трибората лития размером 150×130×80 мм (Фиг.2), оптически качественная часть которого составляет 80-90% объема выросшего кристалла с возможностью изготовления нелинейно-оптического элемента диаметром 60-70 мм и толщиной 15-10 мм для преобразования лазерного излучения с длиной волны 1064 нм во вторую гармонику.Example. In a platinum growth crucible 1 (Fig. 1) with a diameter of 170 mm, a charge is loaded to obtain 6 kg of the finished
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2012109188/05A RU2494176C1 (en) | 2012-03-11 | 2012-03-11 | Method of crystal growth by kiropulos method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2012109188/05A RU2494176C1 (en) | 2012-03-11 | 2012-03-11 | Method of crystal growth by kiropulos method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2494176C1 true RU2494176C1 (en) | 2013-09-27 |
Family
ID=49254052
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012109188/05A RU2494176C1 (en) | 2012-03-11 | 2012-03-11 | Method of crystal growth by kiropulos method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2494176C1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103820856A (en) * | 2014-01-24 | 2014-05-28 | 中国科学院理化技术研究所 | Method for synthesizing LBO (Lithium Triborate) crystal growing raw material and method for preparing LBO crystal |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03183682A (en) * | 1989-12-08 | 1991-08-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Method and device for growing single crystal |
RU2258772C1 (en) * | 2004-05-20 | 2005-08-20 | Институт физики твердого тела РАН | Device for continuous grouped growing of oriented layers of silicon on a carbonic fabric |
-
2012
- 2012-03-11 RU RU2012109188/05A patent/RU2494176C1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03183682A (en) * | 1989-12-08 | 1991-08-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Method and device for growing single crystal |
RU2258772C1 (en) * | 2004-05-20 | 2005-08-20 | Институт физики твердого тела РАН | Device for continuous grouped growing of oriented layers of silicon on a carbonic fabric |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
NISHIOKA, M. et al, Growth of CsLiB 6 O 10 crystals with high laser-damage tolerance, "Journal of Crystal Growth", 2005, vol.279, no. 1-2, p.p.76-81. * |
NISHIOKA, M. et al, Growth of CsLiBOcrystals with high laser-damage tolerance, "Journal of Crystal Growth", 2005, vol.279, no. 1-2, p.p.76-81. * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103820856A (en) * | 2014-01-24 | 2014-05-28 | 中国科学院理化技术研究所 | Method for synthesizing LBO (Lithium Triborate) crystal growing raw material and method for preparing LBO crystal |
CN103820856B (en) * | 2014-01-24 | 2016-08-17 | 中国科学院理化技术研究所 | The synthetic method of lbo crystal growth raw material and the method preparing lbo crystal |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1937876B1 (en) | System and method for crystal growing | |
CN104619893A (en) | Silicon single crystal growing apparatus and silicon single crystal growing method | |
JP6053018B2 (en) | Crystal growth method | |
JP7072146B2 (en) | Single crystal growth method for iron gallium alloy | |
RU2494176C1 (en) | Method of crystal growth by kiropulos method | |
CN101781791B (en) | Method for removing impurities in single crystal rod straight pulling process | |
JP6177805B2 (en) | Silicon purification templates and methods | |
EP2551238A1 (en) | Method for purifying silicon | |
CN202323115U (en) | Side thermal field structure of polycrystalline silicon ingot furnace | |
JP3648703B2 (en) | Method for producing compound semiconductor single crystal | |
NO338623B1 (en) | Stiffened silicon pulp from molten state and process for making same | |
JP7078933B2 (en) | Seed crystal for growing single crystal of iron gallium alloy | |
CN105887187B (en) | Method for stably controlling concentration of dopant for silicon single crystal growth | |
JP2004277266A (en) | Method for manufacturing compound semiconductor single crystal | |
JP2019043787A (en) | Crystal growth apparatus and method of manufacturing single crystal | |
JP7318884B2 (en) | Single crystal growth method for iron-gallium alloy | |
CN107354510A (en) | SiC monocrystalline and its manufacture method | |
JP4141467B2 (en) | Method and apparatus for producing spherical silicon single crystal | |
CN202272986U (en) | Single quasicrystal growing device | |
CN105063753A (en) | Czochralski method growth process of sodium nitrate monocrystalline | |
JP2022020187A (en) | METHOD FOR PRODUCING FeGa ALLOY SINGLE CRYSTAL | |
JP3660604B2 (en) | Single crystal manufacturing method | |
JP2013184881A (en) | Method for manufacturing silicon ingot | |
JPH08749B2 (en) | Method for growing single crystal of lithium borate | |
JP2004161559A (en) | Apparatus for manufacturing compound semiconductor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20210312 |