RU2440641C1 - Устройство отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы - Google Patents
Устройство отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы Download PDFInfo
- Publication number
- RU2440641C1 RU2440641C1 RU2010146036/28A RU2010146036A RU2440641C1 RU 2440641 C1 RU2440641 C1 RU 2440641C1 RU 2010146036/28 A RU2010146036/28 A RU 2010146036/28A RU 2010146036 A RU2010146036 A RU 2010146036A RU 2440641 C1 RU2440641 C1 RU 2440641C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- crystal
- semiconductor chip
- cooling
- semiconductor integrated
- chip
- Prior art date
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области электроники, в частности к устройству отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы, и может быть использовано для охлаждения кристаллов процессоров и полупроводниковых микросхем, выделяющих при работе тепловую энергию. Технический результат изобретения - минимизировать контактное термическое сопротивление в устройстве отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы, выделяющей при работе тепловую энергию, и снизить его массово-габаритные характеристики. Сущность изобретения: в устройстве отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы, выделяющей при работе тепловую энергию, согласно изобретению развитая поверхность кристалла полупроводниковой микросхемы представляет собой шипы или трубки охлаждения в виде монокристаллов, выращенных на подложке кристалла полупроводниковой микросхемы, образуя монолитную конструкцию с кристаллом. Изобретение позволяет создать развитую поверхность теплообмена с минимальным контактным термическим сопротивлением, тем самым существенно интенсифицировать теплоотвод от кристаллов полупроводниковых микросхем и снизить массово-габаритные характеристики устройства. 2 з.п. ф-лы, 7 ил.
Description
Изобретение относится к области электроники, в частности к устройству отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы, и может быть использовано для охлаждения кристаллов процессоров и полупроводниковых микросхем, выделяющих при работе тепловую энергию.
Известно устройство для охлаждения элементов электроники [1] патент RU №2332818 «Охлаждающее устройство для элементов электроники», авторы: В.Г.Пастухов, Ю.Ф.Майданик, В.А.Кожин, МПК Н05K 7/20, F28D 15/02, имеющее контурную тепловую трубу с плоским испарителем, содержащим паровую и жидкостную торцевые полости, сообщающиеся между собой параллельным пучком трубок, выполняющим роль конденсатора, соединенного с внешним оребрением, и вентилятора.
Такое устройство использует в качестве охладителя жидкость внутри тепловой трубы и воздух, нагнетаемый вентилятором для охлаждения внешнего оребрения, что при возрастающей мощности электронных компонентов приводит к увеличению площади оребрения и/или повышенному уровню шума и использование данного устройства в ограниченном объеме становится невозможным из-за громоздкости конструкции. Габариты испарителя такого устройства больше габаритов области кристалла микросхемы, выделяющей тепловую энергию, что является недостатком данного устройства. Термическое сопротивление между источником теплоты и испарителем снижает эффективность работы данного устройства. Тепловыделяющая поверхность самого электронного компонента является неразвитой и характеризуется достаточно низким коэффициентом теплоотдачи.
Для увеличения производительности и уменьшения габаритов процессоров применяются многослойные 3d-чипы, совместно со встроенной водяной системой охлаждения, например [2] http://www.zurich.ibm.com/news/08/3D_cooling.html. Охладитель проходит между слоями чипа и омывает каждый из слоев с двух сторон. Таким образом, снимается до 180 Вт/см2 с площади 4 см2.
Известно устройство [3] Jae-Mo Koo, Sungjun Im, Linan Jiang Integrated microchannel cooling for three-dimensional electronic circuit architectures / Journal of heat transfer 2005, ASME, January vol.127, p.49-58, которое охлаждает многослойные чипы с помощью микроканалов, расположенных между слоями. Для различных типов конструкций 3d-чипа, зависящих от сочетания на слоях логического устройства и оперативной памяти, представлены оптимальные размеры и теплофизические характеристики 3d-чипа.
Известно устройство охлаждения с системой распределения охладителя по всей площади нагреваемого элемента [4] http://www.zurich.ibm.com/st/cooling/convective.html. Охладитель напрямую подается на подложку электронного компонента. Система распределения представляет собой древовидную структуру входных и выходных каналов, расположенных вплотную друг к другу по всей площади нагреваемого элемента.
Для данного устройства характерны несколько режимов работы: запорный, принудительный, переходный и разделенный режим. Оптимальным режимом для охлаждения нагреваемого элемента является принудительный, при котором коэффициент теплопередачи является постоянным.
Оптимальная структура распределяющей системы такова: диаметр сопла 25 мкм, диаметр ячейки 100 мкм, шаг 30 мкм. При этих параметрах термическое сопротивление составляет 0,15 (см2·К)/Вт. Данное устройство отводит до 400 В/см2 от поверхности нагрева электронного компонента.
При использовании устройств охлаждения [2-4] термическое сопротивление воды между поверхностью чипа электронного компонента и самим устройством охлаждения снижает характеристики процессов теплообмена.
Известно устройство [5] патент RU №51441, «Устройство охлаждения электронных компонентов», авторы: И.Г.Дроздов, Н.Н.Кожухов, Н.В.Мозговой, Д.П.Шматов, МПК H01L 23/34, включающее теплообменник с пористыми элементами, состоящий из герметичного корпуса, входного и выходного штуцера охладителя. Металлическое основание теплообменника выполнено в виде призмы, при этом нижняя часть призмы равна площади кристалла микросхемы.
Такое устройство по сравнению с устройством [1] является компактным, а охлаждение нагретого теплоносителя может осуществляться вне ограниченного объема. Однако основание наряду со стенкой теплообменника создают дополнительное термическое сопротивление, что является недостатком данного устройства. Тепловыделяющая поверхность электронного компонента остается по-прежнему неразвитой, что не позволяет снимать расчетные тепловые потоки в условиях потенциально возможной максимальной нагрузки.
Наиболее близким к заявляемому техническому решению является система охлаждения [6] патент US 6988534, «Method and apparatus for flexible fluid delivery for cooling desired hot spots in a heat producing device», Thomas W. Kenny, M. Munch, P. Zhou, J. Gil Shook, G.Upadhya, K.Goodson, D.Corbin, Int. Cl. F28F 7/00, представленная на фиг.1, в состав которой входит устройство охлаждения 1, внешний блок охлаждения 2, насос 3, элементы подвода 4 и отвода 5 охладителя и контроллер 6 для проверки фазового состояния охладителя. Устройство охлаждения 1 (фиг.2) состоит из крышки 71 и крышки 72, при этом крышка 72 содержит входной канал 8 для входа охладителя и выходной канал 9 для его выхода, нагреваемого элемента 10 с локальными «горячими точками», ребрами охлаждения 11. Крышка 72, в которой находятся входной 8 и выходной 9 каналы соответственно для входа и выхода охладителя, состоит из нескольких слоев для оптимального распределения охладителя и достижения стабильной температуры по всей поверхности нагреваемого элемента. Нагреваемый элемент 10 может быть отдельным, но может представлять и единое целое с устройством охлаждения 1. При этом в описании патента [6] указана только идея возможности создания единой системы «нагреваемый элемент - система охлаждения» (но не описана практически ее реализация). Ребра охлаждения 11 в зависимости от поставленных задач могут представлять систему коллекторов и каналов и иметь различные геометрические формы: параллельные или гофрированные пластины, пористые элементы.
Устройство охлаждения 1 работает следующим образом. Через входной канал 8 охладитель поступает в крышку 72. Проходя сквозь систему каналов и коллекторов, расположенных не только в горизонтальной, но и в вертикальной плоскости, охладитель в зависимости от расположения «горячих точек» в нагреваемом элементе 10 распределяется таким образом, чтобы на локальную область, которая выделяет большее количество теплоты, поступало большее количество охладителя. Это приводит к тому, что нагреваемый элемент 10 имеет равномерное охлаждение для всей поверхности, имеющей изначально неравномерное распределение температуры. Кроме этого, пройдя через входной канал 8 крышки 72, охладитель проходит сквозь оребренную поверхность (ребра охлаждения 11), где отводится необходимое количество теплоты от нагреваемого элемента 10, и выходит через выходной канал 9 крышки 72.
В данном устройстве рассматривается возможность создания единой системы «нагреваемый элемент - система охлаждения», однако отсутствуют подходы к способу ее технического решения.
К сожалению, устройство-прототип не решает проблему оптимального охлаждения кристаллов полупроводников, так как в описании к патенту [6] сформулирована только идея создания системы «нагревательный элемент - система охлаждения», однако не описаны подходы практической ее реализации и не объяснены результаты указанного технического эффекта.
Техническая задача, на решение которой направлено заявляемое изобретение, - это уменьшение термического сопротивления устройства отвода теплоты от кристаллов полупроводниковой микросхемы или процессора, выделяющих при работе тепловую энергию, и снижение его массогабаритных характеристик.
Техническая задача решается за счет того, что в устройстве отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы, выделяющей при работе тепловую энергию, содержащем основание, на котором расположен кристалл полупроводниковой микросхемы, содержащий элементы охлаждения и микроканалы, образующие развитую поверхность, герметичную крышку для кристалла полупроводниковой микросхемы, содержащую входной и выходной каналы соответственно для входа и выхода охладителя, внешний блок охлаждения с насосом и его элементы соединения с входным и выходным каналами герметичной крышки, согласно изобретению развитая поверхность кристалла полупроводниковой микросхемы представляет собой шипы или трубки охлаждения в виде монокристаллов, выращенных на подложке кристалла полупроводниковой микросхемы, образуя монолитную конструкцию с кристаллом.
Причем шипы или трубки в виде монокристаллов составляют систему коллекторов и проницаемых перегородок, выполненных таким образом, что термическое сопротивление контакта между шипом или трубкой и кристаллом полупроводниковой микросхемы отсутствует.
При этом шипы или трубки могут быть расположены на кристалле полупроводниковой микросхемы в различной последовательности, образуя микроканалы разного переменного сечения.
Сравнение заявляемого устройства с аналогичными техническими решениями в данной области техники не позволило выявить признаки изобретения, заявленные в отличительной части формулы изобретения, а именно, что развитая поверхность кристалла полупроводниковой микросхемы представляет собой шипы или трубки охлаждения в виде монокристаллов, выращенных на подложке кристалла полупроводниковой микросхемы, образуя монолитную конструкцию с кристаллом. Именно эти признаки позволяют устранить термическое сопротивление от кристаллов полупроводников, выделяющих при работе тепловую энергию, и снизить массогабаритные характеристики устройства отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы.
Далее описание изобретения поясняется примерами выполнения и чертежами.
На фиг.1 представлена структурная схема системы охлаждения с устройством охлаждения - прототип.
Фиг.2 иллюстрирует устройство охлаждения - прототип.
На фиг.3 выполнена структурная схема заявляемого устройства отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы.
На фиг.4 показано расположение кристалла на основании устройства отвода, входной и выходной каналы для его соединения с внешним блоком охлаждения с насосом.
На фиг.5 показан вид кристалла с шипами (трубками) охлаждения в виде монокристаллов, выращенных на подложке кристалла полупроводниковой микросхемы.
На фиг.6 и 7 показано, что монокристаллы, выращенные по различным схемам на подложке кристалла полупроводниковой микросхемы, образуют систему коллекторов для подачи и отвода охладителя.
Заявляемое устройство отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы (фиг.3) содержит основание 12, на котором расположен кристалл 13 полупроводниковой микросхемы, содержащий элементы охлаждения и микроканалы, образующие развитую поверхность, герметичную крышку 14 для кристалла полупроводниковой микросхемы 13, содержащую входной 8 и выходной 9 каналы соответственно для входа и выхода охладителя, внешний блок охлаждения с насосом 15 и его первый 16 и второй 17 элементы соединения соответственно с входным 8 и выходным 9 каналами герметичной крышки 14, согласно изобретению развитая поверхность кристалла 13 полупроводниковой микросхемы представляет собой шипы 18 или трубки охлаждения в виде монокристаллов, выращенных на подложке кристалла 13 полупроводниковой микросхемы, образуя монолитную конструкцию с кристаллом 13.
Причем шипы 18 или трубки в виде монокристаллов составляют систему коллекторов и проницаемых перегородок 19 (фиг.6 и 7), выполненных таким образом, что термическое сопротивление контакта между шипом 18 или трубкой и кристаллом 13 полупроводниковой микросхемы отсутствует.
При этом шипы 18 или трубки могут быть расположены на кристалле 13 полупроводниковой микросхемы (фиг.6 и 7) в различной последовательности, образуя микроканалы разного переменного сечения.
Осуществляют заявляемое устройство отвода теплоты от кристаллов полупроводниковых микросхем (фиг.3-7) следующим образом.
На поверхности кристалла 13 по определенной схеме, например, изображенной на фиг.5, 6, 7, выращивают шипы 18 или трубки, являющиеся монокристаллами и образующие развитую поверхность теплообмена с системой коллекторов и проницаемых перегородок. При этом шипы 18 или трубки, являющиеся монокристаллами и образующие развитую поверхность теплообмена с системой коллекторов и проницаемых перегородок, выращивают по известной технологии, например, как описано в [7] Небольсин В.А., Долгачев А.А., Дунаев А.И., Завалишин М.А. Об общих закономерностях роста микро- и наноразмерных нитевидных кристаллов кремния // Известия РАН. Сер. физическая. 2008. Т.72. 9. С.1285-1288.
Кристалл 13 с шипами 18 накрывают крышкой 14, которая служит для герметичности конструкции и распределения охладителя на поверхности кристалла 13 и в системе коллекторов и проницаемых перегородок. Посредством элементов соединения 16 и 17 через входной 8 и выходной 9 каналы герметичная крышка соединена соответственно с выходом и входом внешнего блока охлаждения с насосом 15 для подачи охладителя на поверхность кристалла 13 и его отвода с поверхности кристалла 13.
Заявляемое устройство работает следующим образом.
Кристалл 13, изображенный на фиг.3 и 4, в процессе работы выделяет тепловую энергию и передает выделенную тепловую энергию шипам 18, расположенным на поверхности кристалла 13.
С выхода внешнего блока охлаждения с насосом 15 через элементы соединения и входной канал 8 на герметичной крышке 14 подают охладитель, направление и распределение потока которого обеспечивается с помощью перегородок 19 и системой коллекторов. Проходя через проницаемые перегородки 19, состоящие из шипов 18 или трубок, охладитель нагревается и отводится через выходной канал 9. В качестве входного 8 и выходного 9 каналов можно использовать, например, штуцер.
Заявляемое устройство отвода теплоты от кристаллов полупроводниковой микросхемы с выращенными шипами 18 обеспечивает необходимый отвод теплоты от нагреваемого в процессе работы кристалла 13 и позволяет создавать встроенные элементы охлаждения кристалла полупроводников.
Для относительно небольших тепловыделений и малых расходов охладителя можно использовать кристаллы 13 с развитой поверхностью теплообмена, представленные на фиг.5.
Для достижения оптимального эффекта (максимального теплоотвода при минимальном гидравлическом сопротивлении) следует использовать кристаллы 13, имеющие на своей поверхности выращенные шипы 18 из монокристаллов, которые, в свою очередь, образуют систему коллекторов для подачи и отвода охладителя, представленные на фиг.6, 7. Конфигурация, расположение и количество шипов 18 или трубок могут быть определены в ходе численного эксперимента или эмпирически.
Конструкция заявляемого устройства является облегченной по массово-габаритным характеристикам. Это достигается за счет того, что на кристалле выращены шипы из монокристаллов, кристалл закрыт герметичной крышкой (в отличие от прототипа, который содержит ребра охлаждения, крышку, которой закрывают кристалл с ребрами охлаждения, и верхнюю крышку с входным и выходным каналами соответственно для входа и выхода охладителя).
Таким образом, заявляемое устройство по сравнению с аналогичными техническими решениями в данной области техники позволяет устранить термическое сопротивление от кристаллов полупроводников, выделяющих при работе тепловую энергию, и снизить массово-габаритные характеристики устройства за счет упрощения конструкции.
Источник информации
1. Патент RU №2332818 «Охлаждающее устройство для элементов электроники», авторы: В.Г.Пастухов, Ю.Ф.Майданик, В.А.Кожин, МПК Н05K 7/20, F28D 15/02.
http://www.zurich.ibm.com/news/08/3D cooling.html.
3. Jae-Mo Koo, Sungjun Im, Linan Jiang Integrated microchannel cooling for three-dimensional electronic circuit architectures / Journal of heat transfer 2005, ASME, January vol.127, p.49-58.
4. http://www.zurich.ibm.com/st/cooling/convective.html.
5. Патент RU №51441 «Устройство охлаждения электронных компонентов», авторы: И.Г.Дроздов, Н.Н.Кожухов, Н.В.Мозговой, Д.П.Шматов, МПК H01L 23/34.
6. Патент US №6988534 В2, «Method and apparatus for flexible fluid delivery for cooling desired hot spots in a heat producing device», авторы: Thomas W.Kenny, M.Munch, P.Zhou, J.Gil Shook, G.Upadhya, K.Goodson, D.Corbin, Int. Cl. F28F 7/00.
7. Небольсин В.А., Долгачев А.А., Дунаев А.И., Завалишин М.А. Об общих закономерностях роста микро- и наноразмерных нитевидных кристаллов кремния // Известия РАН. Сер. физическая. 2008. Т.72. 9. С.1285-1288.
Claims (3)
1. Устройство отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы, выделяющей при работе тепловую энергию, содержащее основание, на котором расположен кристалл полупроводниковой микросхемы, содержащий элементы охлаждения и микроканалы, образующие развитую поверхность, герметичную крышку для кристалла полупроводниковой микросхемы, содержащую входной и выходной каналы соответственно для входа и выхода охладителя, внешний блок охлаждения с насосом и его элементы соединения с входным и выходным каналами герметичной крышки, отличающееся тем, что развитая поверхность кристалла полупроводниковой микросхемы представляет собой шипы или трубки охлаждения в виде монокристаллов, выращенных на подложке кристалла полупроводниковой микросхемы, образуя монолитную конструкцию с кристаллом.
2. Устройство по п.2, отличающееся тем, что шипы или трубки в виде монокристаллов составляют систему коллекторов и проницаемых перегородок, выполненных таким образом, что термическое сопротивление контакта между шипом или трубкой и кристаллом полупроводниковой микросхемы отсутствует.
3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что на кристалле полупроводниковой микросхемы шипы или трубки могут быть расположены в различной последовательности, образуя микроканалы разного переменного сечения.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2010146036/28A RU2440641C1 (ru) | 2010-11-10 | 2010-11-10 | Устройство отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2010146036/28A RU2440641C1 (ru) | 2010-11-10 | 2010-11-10 | Устройство отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2440641C1 true RU2440641C1 (ru) | 2012-01-20 |
Family
ID=45785793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2010146036/28A RU2440641C1 (ru) | 2010-11-10 | 2010-11-10 | Устройство отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2440641C1 (ru) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU190079U1 (ru) * | 2019-02-26 | 2019-06-18 | Акционерное общество "Концерн "Созвездие" | Корпус блока бортовой аппаратуры |
| RU190948U1 (ru) * | 2019-03-12 | 2019-07-17 | Акционерное общество "Концерн "Созвездие" | Корпус блока бортовой аппаратуры |
| RU2796381C1 (ru) * | 2022-07-19 | 2023-05-22 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук | Устройство для формирования расслоенного течения жидкости в микро- и миниканалах |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2206938C1 (ru) * | 2002-01-08 | 2003-06-20 | Таланин Юрий Васильевич | Охладитель |
| US6988534B2 (en) * | 2002-11-01 | 2006-01-24 | Cooligy, Inc. | Method and apparatus for flexible fluid delivery for cooling desired hot spots in a heat producing device |
| RU51441U1 (ru) * | 2005-07-11 | 2006-02-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Устройство охлаждения электронных компонентов |
| RU62290U1 (ru) * | 2006-08-03 | 2007-03-27 | Юрий Николаевич Воробьев | Теплоотвод |
| US20070205792A1 (en) * | 2006-03-06 | 2007-09-06 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor packages, methods of forming semiconductor packages, and methods of cooling semiconductor dies |
| RU75020U1 (ru) * | 2008-01-09 | 2008-07-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Южно-Уральский государственный университет" | Устройство для охлаждения тепловыделяющей аппаратуры |
| RU2332818C1 (ru) * | 2007-02-01 | 2008-08-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Теркон КТТ" | Охлаждающее устройство для элементов электроники |
| US20090085198A1 (en) * | 2007-09-30 | 2009-04-02 | Unnikrishnan Vadakkanmaruveedu | Nanotube based vapor chamber for die level cooling |
| US20090102046A1 (en) * | 2007-10-18 | 2009-04-23 | International Business Machines Corporation | On-chip temperature gradient minimization using carbon nanotube cooling structures with variable cooling capacity |
| US20090294956A1 (en) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | Samsung Electro-Mechanics Co. Ltd. | Cooling fin and package substrate comprising the cooling fin and manufacturing method thereof |
-
2010
- 2010-11-10 RU RU2010146036/28A patent/RU2440641C1/ru active
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2206938C1 (ru) * | 2002-01-08 | 2003-06-20 | Таланин Юрий Васильевич | Охладитель |
| US6988534B2 (en) * | 2002-11-01 | 2006-01-24 | Cooligy, Inc. | Method and apparatus for flexible fluid delivery for cooling desired hot spots in a heat producing device |
| RU51441U1 (ru) * | 2005-07-11 | 2006-02-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Устройство охлаждения электронных компонентов |
| US20070205792A1 (en) * | 2006-03-06 | 2007-09-06 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor packages, methods of forming semiconductor packages, and methods of cooling semiconductor dies |
| RU62290U1 (ru) * | 2006-08-03 | 2007-03-27 | Юрий Николаевич Воробьев | Теплоотвод |
| RU2332818C1 (ru) * | 2007-02-01 | 2008-08-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Теркон КТТ" | Охлаждающее устройство для элементов электроники |
| US20090085198A1 (en) * | 2007-09-30 | 2009-04-02 | Unnikrishnan Vadakkanmaruveedu | Nanotube based vapor chamber for die level cooling |
| US20090102046A1 (en) * | 2007-10-18 | 2009-04-23 | International Business Machines Corporation | On-chip temperature gradient minimization using carbon nanotube cooling structures with variable cooling capacity |
| RU75020U1 (ru) * | 2008-01-09 | 2008-07-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Южно-Уральский государственный университет" | Устройство для охлаждения тепловыделяющей аппаратуры |
| US20090294956A1 (en) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | Samsung Electro-Mechanics Co. Ltd. | Cooling fin and package substrate comprising the cooling fin and manufacturing method thereof |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU190079U1 (ru) * | 2019-02-26 | 2019-06-18 | Акционерное общество "Концерн "Созвездие" | Корпус блока бортовой аппаратуры |
| RU190948U1 (ru) * | 2019-03-12 | 2019-07-17 | Акционерное общество "Концерн "Созвездие" | Корпус блока бортовой аппаратуры |
| RU2796381C1 (ru) * | 2022-07-19 | 2023-05-22 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук | Устройство для формирования расслоенного течения жидкости в микро- и миниканалах |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10410954B2 (en) | Cooling module, water-cooled cooling module and cooling system | |
| US8813834B2 (en) | Quick temperature-equlizing heat-dissipating device | |
| CN102834688A (zh) | 相变冷却器和设有该相变冷却器的电子设备 | |
| CN201044554Y (zh) | 水冷式微槽群与热电组合激光器热控制系统 | |
| WO2017148197A1 (zh) | 散热设备 | |
| CN106052444B (zh) | 一种平板热管阵列式散热器 | |
| CN103424019A (zh) | 自然循环型冷却装置 | |
| CN102194529A (zh) | 带有主动冷却的贴片式散热装置 | |
| CN111741650A (zh) | 热超导散热板、散热器及5g基站设备 | |
| CN113917996A (zh) | 一种运用缩放喷管的相变液冷散热系统 | |
| WO2017186081A1 (zh) | 散热系统及具有所述散热系统的通讯设备 | |
| CN209766407U (zh) | 空气冷却的大功率高热流散热装置 | |
| CN110411258A (zh) | 一种用于cpu散热的重力环路热管散热器 | |
| RU2440641C1 (ru) | Устройство отвода теплоты от кристалла полупроводниковой микросхемы | |
| CN216818326U (zh) | 大功率芯片高效散热冷却装置 | |
| CN201044553Y (zh) | 风冷式微槽群与热电组合激光器热控制系统 | |
| CN109742059B (zh) | 一种应用于大功率半导体模块“何氏”散热结构 | |
| JPH0961074A (ja) | クローズド温度制御システム | |
| CN114901056A (zh) | 散热装置及电子设备 | |
| CN210040184U (zh) | 一种微通道水冷板 | |
| TWI696416B (zh) | 浸入式冷卻設備 | |
| CN201039655Y (zh) | 散热器结构 | |
| CN114518044A (zh) | 一种硅基蒸发器环路热管 | |
| TWI839974B (zh) | 一種利用兩相流循環蒸氣腔與冷液態流體進行熱交換之散熱模組 | |
| KR101897931B1 (ko) | 전자 장치의 프로세서 냉각 시스템 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PC43 | Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions |
Effective date: 20150908 |