RU2372136C2 - Method of vacuum filtration installation declogging and vacuum filtration installation - Google Patents

Method of vacuum filtration installation declogging and vacuum filtration installation Download PDF

Info

Publication number
RU2372136C2
RU2372136C2 RU2005129183/12A RU2005129183A RU2372136C2 RU 2372136 C2 RU2372136 C2 RU 2372136C2 RU 2005129183/12 A RU2005129183/12 A RU 2005129183/12A RU 2005129183 A RU2005129183 A RU 2005129183A RU 2372136 C2 RU2372136 C2 RU 2372136C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
vacuum
pan
sludge
cleaning
filter
Prior art date
Application number
RU2005129183/12A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2005129183A (en
Inventor
Томоки ХОНМА (JP)
Томоки ХОНМА
Original Assignee
Цукисима Кикаи Ко., Лтд.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Цукисима Кикаи Ко., Лтд. filed Critical Цукисима Кикаи Ко., Лтд.
Publication of RU2005129183A publication Critical patent/RU2005129183A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2372136C2 publication Critical patent/RU2372136C2/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D33/00—Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/44—Regenerating the filter material in the filter
    • B01D33/46—Regenerating the filter material in the filter by scrapers, brushes nozzles or the like acting on the cake-side of the filtering element
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D33/00—Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/58—Handling the filter cake in the filter for purposes other than for regenerating the filter cake remaining on the filtering element
    • B01D33/60—Handling the filter cake in the filter for purposes other than for regenerating the filter cake remaining on the filtering element for washing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Treatment Of Sludge (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)

Abstract

FIELD: filtration.
SUBSTANCE: method of vacuum filtration installation declogging includes: filtration cloth for sludge support and moving, in fact, in horizontal direction; vacuum tray located under filtration cloth; vacuum line connected to vacuum tray; device for suction under vacuum for carrying out vacuum suction of sludge via vacuum line, vacuum tray and vacuum cloth; and device for feeding cleaning liquid for supply of feeding liquid to vacuum tray. In addition during declogging process measurement of vacuum pressure in vacuum line and cleaning of vacuum tray are carried out basing on vacuum pressure.
EFFECT: clogging of through openings and blocking of flow way for liquid filtration are prevented.
6 cl, 3 dwg

Description

Настоящее изобретение относится к способу очистки вакуумной фильтрационной установки и к вакуумной фильтрационной установке, которая фильтрует шлам (суспензию), подаваемый на фильтрационную байку, перемещающуюся по существу в горизонтальном направлении, путем осуществления отсоса под разрежением шлама, посредством вакуумного поддона, расположенного под фильтрационной байкой.The present invention relates to a method for cleaning a vacuum filtration unit and to a vacuum filtration unit that filters sludge (suspension) supplied to a filter bike moving in a substantially horizontal direction by suctioning under vacuum of the sludge by means of a vacuum pan located under the filter bike.

Ранее осуществлялись очистные операции, на которых при помощи фильтрационных операций отделяли маточный раствор от шлама и извлекали кристаллические компоненты, или очищали кристаллические компоненты. Например, при извлечении кристаллических компонентов из органического вещества, растворенного в растворителе, путем отделения кристаллических компонентов из маточного раствора, традиционно такие экстракции производились при помощи центрифуги, фильтрационной установки непрерывного типа или горизонтальных поддонных фильтров и т.д. В таком случае, жидкость охлаждается при контакте и прохождении сквозь осадочный слой и фильтрационную байку по причинам, таким как (i) жидкость, содержащая кристаллические компоненты, является насыщенным раствором, и (ii) в начале операции фильтрации как фильтрационная байка, так и отдел верхней поверхности (сетчатая пластина) вакуумного поддона, находятся в условиях комнатной температуры, которая, как правило, ниже чем рабочие температуры, и отдел верхней поверхности, имеющий большую теплоемкость, влияет на тепловое состояние шлама. В результате, кристаллические компоненты рекристаллизуются и прилипают, в частности, к сквозным отверстия фильтрационной байки, и сквозным отверстиям, и опорным частям сетчатой пластины, таким образом вызывая засорение сквозных отверстий и блокировку пути потока фильтрованной жидкости. Такие проблемы возникают независимо от типа машины (т.е. группового типа обработки или непрерывного типа обработки), и заметно снижается производительность фильтрации. В результате, кристаллические компоненты, имеющие большую чистоту, не могут быть получены, и производительность понижается. По этим причинам требуется периодическая очистка фильтрационной байки и сетчатой пластины, таким образом вызывая пониженную эффективность машины. Такие проблемы также возникают в случае, когда вышеупомянутые механические фильтрующие операции осуществляются для очистки эвтектических шламов или кристаллических компонентов твердых растворов.Previously, purification operations were carried out, in which, using filtration operations, the mother liquor was separated from the sludge and the crystalline components were recovered, or the crystalline components were purified. For example, when extracting crystalline components from an organic substance dissolved in a solvent by separating the crystalline components from the mother liquor, such extractions were traditionally carried out using a centrifuge, a continuous filtering unit, or horizontal pan filters, etc. In this case, the liquid is cooled by contact and passing through the sedimentary layer and the filter medium for reasons such as (i) the liquid containing crystalline components is a saturated solution, and (ii) at the beginning of the filtration operation, both the filter medium and the upper section the surface (mesh plate) of the vacuum pan, are at room temperature, which is usually lower than the operating temperature, and the upper surface, having a high heat capacity, affects the thermal state of the sludge. As a result, the crystalline components recrystallize and adhere, in particular, to the through holes of the filter medium, and the through holes, and the supporting parts of the mesh plate, thereby causing clogging of the through holes and blocking the flow path of the filtered fluid. Such problems arise regardless of the type of machine (i.e., a group processing type or a continuous processing type), and filtering performance is markedly reduced. As a result, crystalline components having high purity cannot be obtained, and productivity decreases. For these reasons, periodic cleaning of the filter bike and the mesh plate is required, thereby causing reduced machine efficiency. Such problems also arise when the aforementioned mechanical filtering operations are carried out to clean eutectic sludge or crystalline components of solid solutions.

В случае когда разница температур между температурой растворения кристаллов органического вещества, растворенного в растворителе, и температурой выделения кристаллов составляет меньше 10°С или в случае когда кристаллические компоненты, имеющие температуру растворения, равную или меньшую 30°С, рекристаллизируются путем отделения их от маточного раствора, вышеупомянутая проблема может быть решена при помощи применения особой фильтрационной установки, такой как описана в Японской Патентной Заявке, Первая публикация № Н02-126902. Однако для выделения кристаллических компонентов, имеющих температурные состояния выше упомянутых, при помощи вышеупомянутой установки установку следует модифицировать соответствующим образом. В результате, возникают проблемы, в которых структура установки становится сложной и, таким образом, возрастает стоимость ее конструкции.In the case where the temperature difference between the dissolution temperature of the crystals of organic matter dissolved in the solvent and the temperature of the crystals is less than 10 ° C or in the case when the crystalline components having a dissolution temperature equal to or lower than 30 ° C are recrystallized by separating them from the mother liquor , the aforementioned problem can be solved by using a special filtration system, such as described in Japanese Patent Application, First publication No. H02-126902. However, in order to isolate crystalline components having a temperature state above those mentioned above, the apparatus should be modified accordingly using the aforementioned apparatus. As a result, problems arise in which the structure of the installation becomes complex and, thus, the cost of its construction increases.

Для решения вышеупомянутых проблем, например, в Японском Патенте № 3497206 описан способ очистки вакуумной фильтрационной установки, в которой жидкость, содержащая кристаллические компоненты, разделяется через фильтрационную байку на кристаллические компоненты и маточный раствор посредством вакуумных поддонов, расположенных под фильтрационной байкой. В этом способе очистки в некоторых вакуумных поддонах кристаллы, прилипшие к нижней стороне фильтрационной байки, собираются при помощи растворения их путем подачи жидкости для очистки поддона на нижнюю сторону фильтрационной байки и заполнения ей вакуумных поддонов. С другой стороны, другие вакуумные поддоны работают как вакуумный поддон для образования осадка, вакуумный поддон для промывания осадка и вакуумный поддон для просушки осадка; тот же тип очистных операций осуществляют для каждого из этих вакуумных поддонов.To solve the aforementioned problems, for example, Japanese Patent No. 3497206 describes a method for cleaning a vacuum filtration system in which a liquid containing crystalline components is separated through a filter bike into crystalline components and a mother liquor by means of vacuum trays located under the filter bike. In this method of cleaning in some vacuum pallets, crystals adhering to the lower side of the filter bike are collected by dissolving them by supplying liquid to clean the pan to the lower side of the filter bike and filling it with vacuum trays. Other vacuum trays, on the other hand, act as a vacuum pan to form a precipitate, a vacuum pan to wash the precipitate and a vacuum pan to dry the precipitate; the same type of treatment operations are carried out for each of these vacuum trays.

Однако при выделении кристаллических компонентов из органического вещества, растворенного в растворителе, посредством отделения их от маточного раствора, как описано выше, в вышеупомянутой вакуумной фильтрационной установке все из множества вакуумных поддонов, как правило, помещены в газонепроницаемую камеру и, таким образом, экранированы от внешней среды. В этом случае, так как вакуумные поддоны заключены в газонепроницаемой камере, сложно подтвердить состояние кристаллов, прилипших к сетчатой пластине и фильтрационной байке. Поэтому время для подачи жидкости для очистки поддона к нижней стороне фильтрационной байки должно быть установлено на момент, когда прошло заданное рабочее время. Однако в этом случае, несмотря на то что жидкость для очистки поддона подают каждый раз в одинаковый определенный период времени, бывают случаи, в которых количество кристаллов, прилипших к фильтрационной байке, изменяется в зависимости от, например, колебаний рабочих условий и т.д. вакуумной фильтрационной установки. Соответственно, бывают случаи, в которых сетчатая пластина очищается несмотря на то, что она не нуждается в очистке, или наоборот, сетчатая пластина не очищается, несмотря на то, что нуждается в очистке. То есть существует проблема, заключающаяся в том, что сложно осуществить очистку с хорошим расчетом времени. Если период времени для очистки поздний, то производительность фильтрации вакуумной фильтрационной установки будет понижена и будет происходить неадекватная очистка или неадекватная сушка, таким образом нанося вред качеству продукта. С другой стороны, если период для очистки слишком ранний, то жидкость для очистки поддона будет тратиться зря.However, when crystalline components are separated from organic matter dissolved in a solvent by separating them from the mother liquor, as described above, in the aforementioned vacuum filtration unit, all of the plurality of vacuum trays are typically placed in a gas-tight chamber and are thus shielded from an external Wednesday. In this case, since the vacuum trays are enclosed in a gas-tight chamber, it is difficult to confirm the state of the crystals adhered to the mesh plate and the filter bike. Therefore, the time for supplying liquid to clean the pan to the bottom of the filter bike should be set at the moment when the specified working time has passed. However, in this case, despite the fact that the liquid for cleaning the pan is supplied every time for the same certain period of time, there are cases in which the number of crystals adhered to the filter bike varies depending on, for example, fluctuations in operating conditions, etc. vacuum filtration unit. Accordingly, there are cases in which the mesh plate is cleaned despite the fact that it does not need to be cleaned, or vice versa, the mesh plate is not cleaned, despite the fact that it needs to be cleaned. That is, there is a problem that it is difficult to carry out cleaning with a good timing. If the time period for cleaning is late, then the filtration performance of the vacuum filtration unit will be reduced and inadequate cleaning or inadequate drying will occur, thereby harming the quality of the product. On the other hand, if the period for cleaning is too early, then the liquid for cleaning the pan will be wasted.

Настоящее изобретение было выполнено ввиду вышеупомянутых обстоятельств, и его задачей является обеспечение способа очистки вакуумной фильтрационной установки и вакуумной фильтрационной установки, оба из которых могут плавно удалять кристаллы, расположенные и прилипшие к фильтрационной байке и сетчатой пластине в правильный период времени, таким образом предотвращая засорение сквозных отверстий и блокировку пути потока для фильтрованной жидкости.The present invention has been completed in view of the above circumstances, and its object is to provide a method for cleaning a vacuum filtration unit and a vacuum filtration unit, both of which can smoothly remove crystals located and adhering to the filtration bike and the mesh plate in the correct period of time, thereby preventing clogging of through openings and blocking the flow path for filtered fluid.

Вышеупомянутая задача достигается путем создания способа очистки вакуумной фильтрационной установки, включающей фильтрационную байку для поддержания шлама и перемещения по существу в горизонтальном направлении; вакуумный поддон, расположенный под фильтрационной байкой; вакуумную линию, присоединенную к вакуумному поддону; устройство отсоса под разрежением для осуществления отсоса под разрежением шлама по вакуумной линии, вакуумному поддону и фильтрационной байке; и подающее устройство очистительной жидкости для подачи очистительной жидкости к вакуумному поддону. Способ очистки включает в себя этапы, на которых осуществляют измерение давления вакуума в вакуумной линии и очистку вакуумного поддона, основанную на давлении вакуума.The aforementioned task is achieved by creating a method for cleaning a vacuum filtration unit, including a filtration bike to maintain sludge and move in a substantially horizontal direction; a vacuum pan located under the filter bike; a vacuum line attached to the vacuum pan; a suction device under vacuum for suction under a rarefaction of sludge in a vacuum line, a vacuum pan and a filter bike; and a cleaning fluid supply device for supplying the cleaning fluid to the vacuum pan. The cleaning method includes the steps of measuring a vacuum pressure in a vacuum line and cleaning a vacuum pan based on vacuum pressure.

Дополнительно, для достижения вышеупомянутой задачи настоящее изобретение также обеспечивает вакуумную фильтрационную установку, включающую фильтрационную байку для поддержания шлама и перемещения по существу в горизонтальном направлении; вакуумный поддон, расположенный под фильтрационной байкой; вакуумную линию, присоединенную к вакуумному поддону; устройство отсоса под разрежением для осуществления отсоса под разрежением шлама через вакуумную линию, вакуумный поддон и фильтрационную байку; подающее устройство очистительной жидкости для подачи очистительной жидкости к вакуумному поддону; устройство измерения давления вакуума для измерения давления вакуума в вакуумной линии; и устройство управления для подачи очистительной жидкости с помощью устройства подачи очистительной жидкости к вакуумному поддону для очистки вакуумного поддона, основываясь на давлении вакуума.Additionally, to achieve the aforementioned object, the present invention also provides a vacuum filtration unit including a filtration bike for maintaining sludge and moving in a substantially horizontal direction; a vacuum pan located under the filter bike; a vacuum line attached to the vacuum pan; a suction device under rarefaction for suction under a rarefaction of sludge through a vacuum line, a vacuum pan and a filter bike; a cleaning fluid supply device for supplying a cleaning fluid to the vacuum pan; a vacuum pressure measuring device for measuring a vacuum pressure in a vacuum line; and a control device for supplying the cleaning fluid using the cleaning fluid supplying device to the vacuum pan for cleaning the vacuum pan based on the vacuum pressure.

В соответствии с еще одним из способов очистки вакуумной фильтрационной установки и вакуумной фильтрационной установки по настоящему изобретению время для подачи очистительной жидкости к вакуумному поддону определяется, основываясь на давлении вакуума в вакуумной линии. Таким образом, становится возможным утвердить количество кристаллических компонентов шлама, отложившихся и прилипших к сетчатой пластине вакуумного поддона и т.д., независимо от колебаний рабочих условий и т.д. вакуумной фильтрационной установки; и поэтому очистка сетчатой пластины и т.д. может быть осуществлена с правильным расчетом времени. То есть давление вакуума будет расти, если количество кристаллических компонентов, отложившихся на сетчатой пластине и т.д., велико, в то время как давление вакуума будет понижаться, если количество кристаллических компонентов, расположенных на сетчатой пластине и т.д. мало. Таким образом, может быть устроено так, что очистка для вакуумного поддона осуществляется, когда давление вакуума становиться выше, чем предписанное значение, например -40 кПа. При помощи этого вред качеству продукта, вызванный недостаточной очисткой или недостаточным осушением, и трата очистительной жидкости могут быть предотвращены.According to another method for cleaning the vacuum filtration unit and the vacuum filtration unit of the present invention, the time for supplying the cleaning liquid to the vacuum pan is determined based on the vacuum pressure in the vacuum line. Thus, it becomes possible to approve the number of crystalline components of the sludge deposited and adhered to the mesh plate of the vacuum pan, etc., regardless of fluctuations in operating conditions, etc. vacuum filtration unit; and therefore cleaning the mesh plate, etc. can be done with the correct timing. That is, the vacuum pressure will increase if the number of crystalline components deposited on the mesh plate, etc., is large, while the vacuum pressure will decrease if the number of crystalline components located on the mesh plate, etc. few. Thus, it can be arranged that the cleaning for the vacuum pan is carried out when the vacuum pressure becomes higher than the prescribed value, for example -40 kPa. With this, damage to product quality caused by inadequate cleaning or insufficient drainage and waste of cleaning fluid can be prevented.

Соответственно, так как кристаллы, отложившиеся на фильтрационной байке и сетчатой пластине и т.д., могут быть своевременно мягко удалены, может быть предотвращено засорение сквозных отверстий и блокировка пути потока фильтрованной жидкости.Accordingly, since crystals deposited on the filter bike and mesh plate, etc., can be gently removed in a timely manner, clogging of the through holes and blocking of the flow path of the filtered liquid can be prevented.

Множество вакуумных поддонов и соответствующих вакуумных линий может быть выполнено вдоль направления движения фильтрационной байки и, ссылаясь на давление вакуума в по меньшей мере одной из вакуумных линий, может быть осуществлена очистка вакуумного поддона, присоединенного к вакуумной линии, на давление вакуума в которой сделана ссылка. Альтернативно, множество вышеуказанных вакуумных поддонов и соответствующих вакуумных линий может быть оборудовано вдоль направления движения фильтрационной байки; давление вакуумов в каждой из вакуумных линий может быть измерено; и только тот вакуумный поддон, в котором давление вакуума превышает установленное значение, может быть очищен.A plurality of vacuum trays and corresponding vacuum lines can be made along the direction of movement of the filtering bike and, referring to the vacuum pressure in at least one of the vacuum lines, the vacuum pan connected to the vacuum line to which the vacuum pressure is referenced can be cleaned. Alternatively, a plurality of the aforementioned vacuum trays and corresponding vacuum lines may be equipped along the direction of movement of the filter bike; vacuum pressure in each of the vacuum lines can be measured; and only that vacuum pan in which the vacuum pressure exceeds the set value can be cleaned.

В этих случаях становится возможным предотвращение очистки вакуумного поддона, который не нуждается в очистки в этот период времени, таким образом избегая трату очистительной жидкости. Соответственно, может быть реализована высокоэффективная очистка.In these cases, it becomes possible to prevent cleaning of the vacuum pan, which does not need to be cleaned during this period of time, thereby avoiding wasting of the cleaning liquid. Accordingly, highly effective cleaning can be realized.

Может быть устроено так, что вакуумный поддон очищается в то время, когда очистительная жидкость подается так, что очистительная жидкость переливается из вакуумного поддона.It can be arranged so that the vacuum pan is cleaned while the cleaning liquid is supplied so that the cleaning liquid is poured from the vacuum pan.

Например, если очистительная жидкость не переливается из вакуумного поддона и в вакуумном поддоне поддерживается уровень жидкости определенной высоты, существует возможность того, что участок поверхности жидкости очистительной жидкости будет охлаждаться в ходе очистительных процессов, таким образом приводя к падению температуры. Поэтому существует вероятность того, что кристаллические компоненты, растворенные в участке жидкой поверхности очистительной жидкости, будут рекристаллизовываться и оседать на поверхности стенки вакуумного поддона, контактирующего с участком поверхности жидкости.For example, if the cleaning liquid does not overflow from the vacuum pan and the liquid level of a certain height is maintained in the vacuum pan, it is possible that the surface portion of the liquid of the cleaning liquid will be cooled during the cleaning process, thereby causing a drop in temperature. Therefore, it is likely that crystalline components dissolved in the liquid surface area of the cleaning liquid will crystallize and settle on the wall surface of the vacuum pan in contact with the liquid surface area.

Наоборот, в соответствии с настоящим изобретением, так как очистительная жидкость подается так, что она переливается из вакуумного поддона, не будет образовываться стоячего жидкого тела. Соответственно, становиться возможным (i) предотвратить рекристаллизацию кристаллических компонентов на стенке вакуумного поддона, (ii) предотвратить падение температуры очистительной жидкости в вакуумном поддоне и (iii) ускорить растворение кристаллических компонентов, отложившихся на сетчатой пластине и т.д., в очистительной жидкости. В результате можно предотвратить недостаточную очистку.On the contrary, in accordance with the present invention, since the cleaning fluid is supplied so that it is poured from the vacuum pan, no standing fluid body will be formed. Accordingly, it becomes possible (i) to prevent recrystallization of the crystalline components on the wall of the vacuum pan, (ii) to prevent the temperature of the cleaning liquid from falling in the vacuum pan, and (iii) to accelerate the dissolution of the crystalline components deposited on the mesh plate, etc., in the cleaning liquid. As a result, insufficient cleaning can be prevented.

Более того, путем поднятия уровня жидкой поверхности очистительной жидкости посредством ее переливания из вакуумного поддона, близко к нижней стороне фильтрационной байки, не только сетчатая пластина, а также и нижняя поверхность фильтрационной байки может быть погружена в очистительную жидкость. В результате, кристаллические компоненты шлама, отложившиеся на нижней поверхности очистительной байки, могут быть очищены и удалены.Moreover, by raising the level of the liquid surface of the cleaning liquid by pouring it from the vacuum pan, close to the lower side of the filter medium, not only the mesh plate, but also the lower surface of the filter medium can be immersed in the cleaning liquid. As a result, the crystalline components of the sludge deposited on the lower surface of the cleaning bike can be cleaned and removed.

Способ очистки для вакуумной фильтрационной установки может дополнительно включать в себя поддержание температуры очистительной жидкости выше температуры рекристаллизации кристаллических компонентов, содержащихся в шламе. Альтернативно, вакуумный поддон может включать в себя вакуумный поддон для образования осадка, вакуумный поддон для промывания осадка и вакуумный поддон для осушения осадка, каждый из них расположен вдоль направления движения фильтрационной байки; и устройство для измерения давления вакуума и устройство подачи очистительной жидкости могут быть обеспечены по меньшей мере для вакуумной линии, присоединенной к вакуумному поддону для осушения осадка.The cleaning method for a vacuum filtration unit may further include maintaining the temperature of the cleaning liquid above the temperature of recrystallization of the crystalline components contained in the sludge. Alternatively, the vacuum pan may include a vacuum pan to form a cake, a vacuum pan to wash the cake and a vacuum pan to dry the cake, each of which is located along the direction of movement of the filter bike; and a vacuum pressure measuring device and a cleaning fluid supply device can be provided for at least a vacuum line connected to a vacuum pan to drain the sludge.

В вакуумном поддоне для осушения осадка, так как количество маточного раствора, содержащегося в шламе, мало, и так как количество газа, который следует откачать, велико, температура фильтрованной жидкости легко падает, таким образом приводя к рекристаллизации кристаллических компонентов, особенно на сетчатой пластине и т.д.In a vacuum pan for draining the precipitate, since the amount of the mother liquor contained in the sludge is small, and since the amount of gas to be pumped out is large, the temperature of the filtered liquid easily drops, thus leading to recrystallization of crystalline components, especially on the mesh plate and etc.

Напротив, в соответствии с настоящим изобретением, так как вакуумный поддон для осушения осадка, в котором кристаллические компоненты легко осаждаются, снабжен устройством измерения давления вакуума и устройством подачи очистительной жидкости, рекристаллизованные кристаллические компоненты могут быть эффективно растворены и удалены.In contrast, in accordance with the present invention, since the vacuum pan for drying the precipitate, in which the crystalline components are easily deposited, is provided with a vacuum pressure measuring device and a purification fluid supply, recrystallized crystalline components can be effectively dissolved and removed.

В особенности, если оборудовано множество вакуумных поддонов для осушения осадка и соответствующих вакуумных линий и если в каждой из вакуумных линий расположены устройство измерения давления вакуума и устройство подачи очистительной жидкости, становится возможным продолжить процесс осушения вакуумных поддонов для осушения осадка в то время как один из вакуумных поддонов для осушения осадка очищается. В результате, становится возможным осуществить очистку без остановки откачивающих фильтраций фильтруемой жидкости в вакуумном фильтрационном аппарате, таким образом реализуя высокоэффективный процесс очистки.In particular, if a plurality of vacuum pallets are equipped to drain the sludge and the corresponding vacuum lines, and if a vacuum pressure measuring device and a cleaning fluid supply device are located in each of the vacuum lines, it becomes possible to continue the process of drying the vacuum pallets to drain the sludge while one of the vacuum trays for draining the sludge are cleaned. As a result, it becomes possible to carry out cleaning without stopping the pumping filtrations of the filtered liquid in a vacuum filtration apparatus, thereby realizing a highly efficient cleaning process.

Сущность изобретения поясняется чертежами, гдеThe invention is illustrated by drawings, where

Фиг.1 - простая схема расположения, показывающая одно воплощение вакуумной фильтрационной установки в соответствии с настоящим изобретением.Figure 1 is a simple arrangement showing one embodiment of a vacuum filtration plant in accordance with the present invention.

Фиг.2 - вид сбоку вакуумной фильтрационной установки.Figure 2 is a side view of a vacuum filtration unit.

Фиг.3 - частично увеличенный вид в поперечном сечении вакуумного поддона, показанного на Фиг.2, по линии А-А, показанной на Фиг.2.FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of the vacuum pan shown in FIG. 2 along line AA shown in FIG. 2.

Ниже описано одно воплощение способа очистки для вакуумной фильтрационной установки и вакуумной фильтрационной установки по настоящему изобретению со ссылками на Фиг.1-3.One embodiment of the cleaning method for the vacuum filtration unit and the vacuum filtration unit of the present invention is described below with reference to FIGS. 1-3.

Как показано на Фиг.1, вакуумная фильтрационная установка настоящего воплощения снабжена главным корпусом 10, вакуумной линией 20, устройством отсоса 30 под разрежением и линией управления 50 температурой камеры. Подробные описания каждого из главного корпуса 10, вакуумной линии 20, устройства отсоса 30 под разрежением и линии управления 50 температурой камеры будут приведены дальше.As shown in FIG. 1, the vacuum filtration unit of the present embodiment is provided with a main body 10, a vacuum line 20, a suction device 30 under vacuum and a temperature control line 50 of the chamber. Detailed descriptions of each of the main body 10, the vacuum line 20, the suction device 30 under vacuum and the temperature control line 50 of the chamber will be given later.

Как показано на Фиг.2, главный корпус 10 установки содержит множество роликов 12 и фильтрационную байку 11 в виде бесконечной ленты, обернутую вокруг роликов 12. Участок верхней стороны фильтрационной байки 11 образует фильтрационный участок 11А, расположенный так, что он проходит горизонтально. Ролик 12А, расположенный на одной стороне фильтрационного участка 11А и обернутый фильтрационной байкой 11, присоединен к приводному устройству (не показано). Ролик 12А вращательно движется в направлении по часовой стрелке на Фиг.2 при помощи приводного устройства, таким образом вращательно перемещая фильтрационную байку 11 вокруг роликов 12. Наряду с вращением фильтрационной байки 11, фильтрационный участок 11А фильтрационной байки 11 постоянно перемещается в направлении движения стрелки F, показанной на Фиг.2.As shown in FIG. 2, the main housing 10 of the installation contains a plurality of rollers 12 and a filter bike 11 in the form of an endless belt wrapped around the rollers 12. A portion of the upper side of the filter bike 11 forms a filter portion 11A arranged so that it extends horizontally. A roller 12A located on one side of the filtration section 11A and wrapped in a filter bike 11 is connected to a drive device (not shown). The roller 12A rotates in a clockwise direction in FIG. 2 using a drive device, thereby rotationally moving the filter bike 11 around the rollers 12. Along with the rotation of the filter bike 11, the filter section 11A of the filter bike 11 is constantly moving in the direction of arrow F, shown in figure 2.

Множество (пять в настоящем воплощении) вакуумных поддонов 16, каждый из которых присоединен к устройству отсоса 30 под разрежением, оборудовано под нижним фильтрационным отделением 11А от положения сразу под устройством подачи шлама 13 (что будет объяснено позже) вдоль направления движения F фильтрационного отделения 11А. Среди этих вакуумных поддонов 16 вакуумный поддон 16А, расположенный на начальной стороне направления движения F и сразу под устройством подачи шлама 13, применяется для образования осадка (здесь и далее «поддон 16 для образования осадка»); вакуумный поддон 16В, расположенный рядом с поддоном 16А для образования осадка и основательно сразу под устройством для промывки осадка 21 (что будет объяснено далее), используется для промывки осадка (здесь и далее « поддон 16В для промывки осадка»); и множество вакуумных поддонов 16С, 16D и 16Е, расположенных рядом с поддоном 16В для промывки осадка и также расположенных вдоль направления движения F, применяются для осушения (здесь и далее вакуумные поддоны с 16С по 16Е называются «первым поддоном 16С для осушения осадка», «вторым поддоном 16D для осушения осадка» и «третьим поддоном 16Е для осушения осадка»).A plurality (five in the present embodiment) of vacuum trays 16, each of which is attached to the suction device 30 under vacuum, is equipped under the lower filtration compartment 11A from a position immediately below the slurry feeder 13 (which will be explained later) along the direction of movement F of the filtration compartment 11A. Among these vacuum pallets 16, a vacuum pan 16A, located on the initial side of the direction of travel F and immediately below the slurry feed device 13, is used to form a precipitate (hereinafter, “pan 16 to form a precipitate”); the vacuum pan 16B located next to the pan 16A for the formation of sediment and thoroughly immediately below the device for washing the precipitate 21 (which will be explained later) is used to flush the precipitate (hereinafter “the pan 16B for washing the precipitate”); and a plurality of vacuum pallets 16C, 16D and 16E located adjacent to the sump 16B for washing the sludge and also located along the direction of travel F are used for drainage (hereinafter, the vacuum pallets 16C to 16E are called the "first sump 16C for draining the sludge", " the second sump 16D for draining sludge "and" the third sump 16E for draining sludge ").

Вакуумные поддоны 16, соседствующиеся друг с другом вдоль направления движения F, присоединены друг к другу. Как показано на Фиг.2, ведущий цилиндр 18, такой как воздушный цилиндр, присоединенный к раме 10А главного корпуса 10 установки и простирающийся в направлении движения F, присоединен к вакуумному поддону 16, расположенному на начальной стороне направления движения F (т.е. поддону 16А для образования осадка) из вакуумных поддонов 16А. Посредством этого ведущего цилиндра 18 все вакуумные поддоны 16 способны перемещаться как единый блок вперед и назад вдоль направления движения F с заданным тактом. То есть все вакуумные поддоны 16 могут перемещаться вперед и назад вдоль направления движения F.Vacuum trays 16 adjacent to each other along the direction of travel F are attached to each other. As shown in FIG. 2, a driving cylinder 18, such as an air cylinder attached to a frame 10A of the main body 10 of the installation and extending in the direction of travel F, is attached to a vacuum pan 16 located on the initial side of the direction of travel F (i.e., the pallet 16A to form a precipitate) from the vacuum trays 16A. By means of this master cylinder 18, all the vacuum trays 16 are able to move as a single unit forward and backward along the direction of movement F with a given stroke. That is, all vacuum pallets 16 can move back and forth along the direction of travel F.

Как показано на Фиг.2, главный корпус 10 установки оборудован парой рельс 22, расположенных на обеих сторонах по ширине и на донной стороне вакуумных поддонов 16 и проходящих вдоль направления движения F; множеством вращающихся опорных роликов 19, каждый из которых контактирует с соответствующим вакуумным поддоном 16 на его нижней стороне, таким образом поддерживая вакуумные поддоны 16, и имеющих между собой промежутки по ширине фильтрационной байки 11. Вакуумные поддоны 16 выполнены с возможностью возвратно-поступательного перемещения на вращательных опорных роликах 19. С другой стороны, каждый из опорных роликов 19 приводится во вращение вместе с движениями вперед и назад вакуумных поддонов 16, приводимых ведущим цилиндром 18. Все опорные ролики 19 имеют одинаковые размеры и одинаковую форму и каждый из них присоединен на раму 10А главного корпуса 10 установки посредством кронштейнов или тому подобных приспособлений, направляясь вверх, так что каждый из роликов 19 может свободно вращаться вокруг оси вращения, проходящей горизонтально в направлении ширины вакуумных поддонов 16. Каждый из опорных роликов 19 имеет либо форму диска, имеющего ось вращения в его центре и большую толщину, либо цилиндрическую форму, имеющую короткую ось. Более того, эти опорные ролики 19 расположены вдоль краев на обеих сторонах по ширине донных поверхностей вакуумных поддонов 16, так что опорные ролики 19 образуют два ряда, проходящих параллельно направлению движения F. Все опорные ролики 19 в каждом ряду расположены так, что они образуют постоянные зазоры между собой вдоль направления движения F; все опорные ролики 19, смежные друг с другом в направлении ширины между рядами, образуют пару; и каждый элемент каждой пары опорных роликов 19 имеет одинаковую высоту и то же горизонтальное положение в направлении движения F.As shown in FIG. 2, the main body 10 of the installation is equipped with a pair of rails 22 located on both sides in width and on the bottom side of the vacuum pallets 16 and extending along the direction of travel F; a plurality of rotating support rollers 19, each of which is in contact with a corresponding vacuum pan 16 on its lower side, thereby supporting the vacuum pallets 16, and having spaces between them along the width of the filter bike 11. The vacuum pallets 16 are made with the possibility of reciprocating movement on rotational support rollers 19. On the other hand, each of the support rollers 19 is rotated together with the forward and backward movements of the vacuum trays 16 driven by the drive cylinder 18. All support roles ki 19 have the same dimensions and the same shape and each of them is attached to the frame 10A of the main body 10 of the installation by means of brackets or the like, heading upward so that each of the rollers 19 can freely rotate around an axis of rotation extending horizontally in the width direction of the vacuum pallets 16. Each of the support rollers 19 has either a disk shape having an axis of rotation in its center and a large thickness, or a cylindrical shape having a short axis. Moreover, these support rollers 19 are located along the edges on both sides along the width of the bottom surfaces of the vacuum pallets 16, so that the support rollers 19 form two rows parallel to the direction of movement F. All the support rollers 19 in each row are arranged so that they form constant gaps between themselves along the direction of motion F; all support rollers 19 adjacent to each other in the width direction between the rows form a pair; and each element of each pair of support rollers 19 has the same height and the same horizontal position in the direction of movement F.

Устройство подачи шлама 13 для подачи шлама S на фильтрационную байку 11 расположено над другой концевой стороной (слева на Фиг.1 и 2) фильтрационного отделения 11А фильтрационной байки 11 (т.е. над начальной стороной направления движения F). Шлам S, подаваемый из устройства подачи шлама 13 на фильтрационную байку 11, перемещается в направлении движения F в соответствии с движением фильтрационного отделения 11А, и в то же время осуществляется вакуумный отсос шлама S каждым из вакуумных поддонов 16 через фильтрационную байку 11, таким образом осуществляя фильтрацию. Устройство для промывания осадка 21 для подачи жидкости L для промывания осадка на фильтрационную байку 11 расположено над положением фильтрационной байки 11, которое находится на более передней стороне, чем устройство подачи шлама 13 в направлении движения F. Устройство для промывания осадка 21 подает жидкость L для промывки осадка на слой осадка, полученный осуществлением вакуумного отсоса шлама S. Нож 14 расположен после фильтрационной байки 11 для срезания и удаления высушенного осадка, который был отфильтрован и осушен, от фильтрационной байки 11. Более того, устройство 15 для очистки фильтра для очистки фильтрационной байки 11, с которой посредством ножа 14 был удален шлам S, оборудуется в положении на одной концевой стороне фильтрационного отделения 11А фильтрационной байки 11 (т.е. на правой стороне на Фиг.1, или на концевой стороне в направлении движения F и под фильтрационным отделением 11А).The sludge supply device 13 for supplying sludge S to the filter bike 11 is located above the other end side (left in FIGS. 1 and 2) of the filter compartment 11A of the filter bike 11 (i.e., above the start side of the direction of travel F). The sludge S supplied from the sludge feed device 13 to the filter bike 11 is moved in the direction of movement F in accordance with the movement of the filter compartment 11A, and at the same time, the sludge S is sucked off by each of the vacuum trays 16 through the filter bike 11, thereby filtering. A device for washing sludge 21 for supplying liquid L for washing sludge to the filter bike 11 is located above the position of the filter bike 11, which is on the more front side than the device for feeding sludge 13 in the direction of travel F. The device for washing the sludge 21 supplies liquid L for washing sludge on the sludge layer obtained by vacuum suction of the sludge S. The knife 14 is located after the filter bale 11 to cut and remove the dried sludge, which has been filtered and dried, from the filter ba 11. Moreover, the filter cleaning device 15 for cleaning the filter dirt 11, with which the slurry S has been removed by means of the knife 14, is equipped in a position on one end side of the filter compartment 11A of the filter dirt 11 (i.e., on the right side in FIG. .1, or on the end side in the direction of travel F and under the filtration compartment 11A).

В настоящем воплощении, как показано на Фиг.1, вышеупомянутая установка 10, устройство подачи шлама 13 и устройство промывки шлама 21 заключены в газонепроницаемую камеру R и, таким образом, отгорожены от внешней среды.In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the aforementioned installation 10, the sludge supply device 13 and the sludge washing device 21 are enclosed in a gas-tight chamber R and are thus enclosed from the external environment.

Как показано на Фиг.3, каждый из вакуумных поддонов 16 имеет участок плоской поверхности 16F, проходящий вдоль нижней поверхности фильтрационного отделения 11А и контактирующий с нижней поверхностью фильтрационного отделения 11А по своей верхней поверхности; и пару участков стен 16G, каждая из которых проходит вверх и наружу от обоих концов по ширине участка плоской поверхности 16F, так что промежуток между ними по ширине становится больше при движении вверх. Участок плоской поверхности 16F является составным элементом, в котором сетчатая пластина 16I, имеющая сквозные отверстия 16J, образованные на ней, присоединена к пластине 16Н.As shown in FIG. 3, each of the vacuum trays 16 has a portion of a flat surface 16F extending along the lower surface of the filtration compartment 11A and in contact with the lower surface of the filtration compartment 11A along its upper surface; and a pair of wall sections 16G, each of which extends up and out from both ends across the width of a portion of a flat surface 16F, so that the gap between them becomes wider when moving up. The flat surface portion 16F is an integral element in which a mesh plate 16I having through holes 16J formed thereon is attached to the plate 16H.

Сторона верхней поверхности сетчатой пластины 16I контактирует с нижней поверхностью фильтрационного отделения 11А, в то время как нижняя поверхность сетчатой пластины 16I присоединена к вакуумной линии 20, присоединенной к устройству отсоса 30 под разрежением.The side of the upper surface of the mesh plate 16I is in contact with the lower surface of the filtration compartment 11A, while the lower surface of the mesh plate 16I is connected to a vacuum line 20 connected to the suction device 30 under vacuum.

Как показано на Фиг.1, устройство отсоса 30 под разрежением оборудовано баками 31-33 для разделения газа и жидкости для разделения фильтрованной жидкости, извлеченной из вакуумных поддонов 16, на газ и жидкость; вакуумный насос 34, присоединенный к бакам 31-33 для разделения газа и жидкости и применяющий отсос под разрежением к шламу S на фильтрационном отделении 11А через баки 31-33 для разделения жидкости и газа; и охладитель 35, который расположен между баками 31-33 для разделения жидкости и газа и вакуумным насосом 34 и охлаждает газы, выброшенные из баков 31-33 для разделения жидкости и газа до их прохождения через вакуумный насос 34.As shown in FIG. 1, the suction device 30 under vacuum is equipped with tanks 31-33 for separating gas and liquid for separating the filtered liquid extracted from the vacuum trays 16 into gas and liquid; a vacuum pump 34 connected to the tanks 31-33 for separating gas and liquid and applying suction under vacuum to the sludge S in the filtration compartment 11A through tanks 31-33 for separating liquid and gas; and a cooler 35, which is located between the tanks 31-33 for separating liquid and gas and the vacuum pump 34 and cools the gases ejected from the tanks 31-33 for separating liquid and gas before they pass through the vacuum pump 34.

Первый бак 31 для разделения газа и жидкости присоединен к поддону 16А для образования осадка; второй бак 32 для разделения газа и жидкости присоединен к поддону 16В для промывки осадка; и третий бак 33 для разделения газа и жидкости присоединен к первому поддону 16С для осушения осадка, второму поддону 16D для осушения осадка и третьему поддону 16Е для осушения осадка. Каждый из баков 31-33 для разделения газа и жидкости оборудован устройствами, измеряющими уровень жидкости 36-38 для измерения количества фильтрованной жидкости, извлеченной из баков 31-33 для разделения газа и жидкости; насосами 39-41 для фильтрованной жидкости для выброса фильтрованной жидкости из баков 31-33 для разделения газа и жидкости; и автоматическими клапанами SV1-SV3, которые открывают и закрывают проходы для выброса фильтрованной жидкости из баков 31-33 для разделения газа и жидкости на основании результатов измерений устройств, измеряющих уровень жидкости, 36-38.A first gas and liquid separation tank 31 is attached to a sump 16A to form a precipitate; a second gas and liquid separation tank 32 is attached to the sump 16B for washing the sludge; and a third gas and liquid separation tank 33 is connected to the first sump 16C for draining the sludge, the second sump 16D for draining the sludge and the third sump 16E for draining the sludge. Each of the tanks 31-33 for separating gas and liquid is equipped with devices that measure the level of liquid 36-38 for measuring the amount of filtered liquid extracted from tanks 31-33 for separating gas and liquid; filtered fluid pumps 39-41 for discharging filtered fluid from tanks 31-33 for separating gas and liquid; and automatic valves SV1-SV3, which open and close passages for ejecting filtered liquid from the tanks 31-33 for separating gas and liquid based on the measurement results of devices that measure the liquid level, 36-38.

Первое устройство для измерения температуры 42 для измерения температуры газа расположено между баками 31-33 для разделения жидкости и газа и охладителем 35. Охладитель 35 управляется посредством регулирования степени открытия управляющего клапана CV1, основанной на результатах измерений первого устройства 42 для измерения температуры; и в результате контролируется температура газа.A first gas temperature measuring device 42 is located between the liquid and gas separation tanks 31-33 and the cooler 35. The cooler 35 is controlled by adjusting the degree of opening of the control valve CV1 based on the measurement results of the first temperature measuring device 42; and as a result, the gas temperature is controlled.

Установка вакуумной фильтрации настоящего изобретения оборудована линией управления температурой камеры 50, присоединенной к вакуумному насосу 34. Линия управления температурой камеры 50 контролирует температуру в газонепроницаемой камере R путем приема газа, охлажденного охладителем 35, и путем подачи газа в газонепроницаемую камеру R после регулирования температуры газа. Линия управления температурой камеры 50 включает в себя первый нагреватель 51 для нагрева газа, поданного из вакуумного насоса 34; второе устройство измерения температуры 52 для измерения температуры в газонепроницаемой камере R; и устройство измерения расхода 53 для измерения расхода газа, нагреваемого первым нагревателем 51 и текущего в газонепроницаемую камеру R. Вакуумная фильтрационная установка в соответствии с настоящим изобретением дополнительно оборудована клапаном управления CV2 для управления первым нагревателем 51, основываясь на результатах измерений второго устройства измерения температуры 52, и клапаном управления CV3 для управления расходом газа, подаваемого в газонепроницаемую камеру R, основываясь на результатах измерений устройства измерения расхода 53. Газ, температура и расход которого регулируются вышеупомянутыми устройствами, проходит в газонепроницаемую камеру R через автоматический клапан V4.The vacuum filtration unit of the present invention is equipped with a temperature control line of the chamber 50 connected to the vacuum pump 34. The temperature control line of the chamber 50 controls the temperature in the gas tight chamber R by receiving gas cooled by cooler 35 and by supplying gas to the gas tight chamber R after adjusting the gas temperature. The temperature control line of the chamber 50 includes a first heater 51 for heating the gas supplied from the vacuum pump 34; a second temperature measuring device 52 for measuring temperature in the gas tight chamber R; and a flow measuring device 53 for measuring a flow of gas heated by the first heater 51 and flowing into the gas tight chamber R. The vacuum filtration unit according to the present invention is further equipped with a control valve CV2 for controlling the first heater 51 based on the measurement results of the second temperature measuring device 52, and a control valve CV3 for controlling the flow rate of gas supplied to the gas tight chamber R, based on the measurement results of the measuring device ra stroke 53. The gas whose temperature and flow rate regulated by the aforementioned devices, extends in gas-tight chamber R through the automatic valve V4.

Как показано на Фиг.1, вакуумная линия 20 включает в себя первую вакуумную линию 20А, присоединенную между донной поверхностью поддона 16А для образования осадка и первым баком 31 для разделения жидкости и газа; вторую вакуумную линию 20В, расположенную между донной поверхность поддона 16В для промывки осадка и вторым баком 32 для разделения газа и жидкости; и третью вакуумную линию 20С, расположенную между (i) первым поддоном 16С для осушения осадка, вторым поддоном 16D для осушения осадка, и третьим поддоном 16Е для осушения осадка, и (ii) баком 33 для разделения жидкости и газа. Первая вакуумная линия 20А имеет первую верхнюю трубу 22, вторая вакуумная линия 20В имеет вторую верхнюю трубу 23, и третья вакуумная линия имеет третью верхнюю трубу 24. Внутреннее пространство третьей верхней трубы 24, присоединенной к первому поддону 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка, разделено двумя разделительными пластинами 25 на три пространства, каждое из которых имеет по существу одинаковый объем. И каждое из этих пространств присоединено к одному из первого поддона 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка соответственно.As shown in FIG. 1, the vacuum line 20 includes a first vacuum line 20A connected between the bottom surface of the sump 16A to form a precipitate and the first liquid and gas separation tank 31; a second vacuum line 20B located between the bottom surface of the sludge pan 16B and a second tank 32 for separating gas and liquid; and a third vacuum line 20C disposed between (i) a first sump drier 16C, a second sump drier 16D, and a third sludge drainer 16E, and (ii) a liquid and gas separation tank 33. The first vacuum line 20A has a first upper pipe 22, the second vacuum line 20B has a second upper pipe 23, and the third vacuum line has a third upper pipe 24. The inner space of the third upper pipe 24 connected to the first sump 16C to drain the sludge to the third sump 16E for drainage of the precipitate is divided by two separation plates 25 into three spaces, each of which has essentially the same volume. And each of these spaces is attached to one of the first sump 16C for draining the sludge to the third sump 16E for draining the sludge, respectively.

В следующем описании среди разделенных внутренних пространств в третьей верхней трубе 24 пространство, присоединенное к первому поддону 16С для осушения осадка, называется «третьей верхней трубой 24А», другое пространство, присоединенное ко второму поддону 16D для осушения осадка, называется «третьей верхней трубой 24В», и другое пространство, присоединенное к третьему поддону 16Е для осушения осадка, называется «третьей верхней трубой 24С».In the following description, among the divided interior spaces in the third upper pipe 24, the space connected to the first sump drain 16C is called the "third upper pipe 24A", the other space connected to the second sump drain 16D is called the "third upper pipe 24B" , and another space attached to the third sump 16E for draining the sludge is called the "third upper pipe 24C."

Устройство 26 подачи жидкости для очистки поддона для подачи жидкости для очистки поддона, которая может растворять кристаллические компоненты шлама S, к первому поддону 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка расположено между (i) первым поддоном 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка и (ii) третьей верхней трубой 24А до третьей верхней трубы 24С. Автоматический клапан SV5 расположен между третьей верхней трубой 24А и устройством 26 для подачи жидкости для очистки поддона; автоматический клапан SV6 расположен между третьей верхней трубой 24В и устройством 26 для подачи жидкости для очистки поддона; и автоматический клапан SV7 расположен между третьей верхней трубой 24В и устройством 26 для подачи жидкости для очистки поддона. Первое устройство 27А измерения давления вакуума для измерения давления вакуума внутри диапазона от устройства отсоса 30 под разрежением до части нижней поверхности фильтрационного отделения 11А, к которой обращена верхняя поверхность первого поддона 16С для осушения осадка, оборудовано в третьей верхней трубе 24А. Второе устройство 27В измерения давления вакуума для измерения давления вакуума внутри диапазона от устройства отсоса 30 под разрежением до части нижней поверхности фильтрационного отделения 11А, к которой обращена верхняя поверхность второго поддона 16D для осушения осадка, расположено в третьей верхней трубе 24В. Третье устройство 27С измерения давления вакуума для измерения давления вакуума внутри диапазона от устройства отсоса 30 под разрежением до части нижней поверхности фильтрационного отделения 11А, к которой обращена верхняя поверхность первого поддона 16Е для осушения осадка, расположено в третьей верхней трубе 24С.A device for supplying liquid to a pan for supplying a liquid for cleaning a pan that can dissolve the crystalline components of the sludge S to the first pan 16C for drying the sludge to the third pan 16E for draining the sludge is located between (i) the first pan 16C for draining the sludge to the third pan 16E for draining the sludge and (ii) the third upper pipe 24A to the third upper pipe 24C. An automatic valve SV5 is located between the third upper pipe 24A and the device 26 for supplying liquid to clean the pan; an automatic valve SV6 is located between the third upper pipe 24B and the device 26 for supplying liquid for cleaning the pan; and an automatic valve SV7 is located between the third upper pipe 24B and the device 26 for supplying liquid for cleaning the pan. The first vacuum pressure measuring device 27A for measuring vacuum pressure within the range from the suction device 30 under vacuum to a portion of the lower surface of the filtration compartment 11A, to which the upper surface of the first sump 16C is used to drain the sludge, is equipped in the third upper pipe 24A. The second vacuum pressure measuring device 27B for measuring vacuum pressure within the range from the suction device 30 under vacuum to a portion of the lower surface of the filtration compartment 11A, to which the upper surface of the second sump 16D is used to drain the sludge, is located in the third upper pipe 24B. The third vacuum pressure measuring device 27C for measuring vacuum pressure within the range from the suction device 30 under vacuum to a portion of the lower surface of the filtration compartment 11A to which the upper surface of the first sump 16E is used to drain the sludge is located in the third upper pipe 24C.

Как показано на Фиг.1, устройство 26 подачи жидкости для очистки поддона оборудовано автоматическим клапаном SV8, присоединенным к первому поддону 16С для осушения осадка; автоматическим клапаном SV9, присоединенным ко второму поддону 16D для осушения осадка; автоматическим клапаном SV10, присоединенным к третьему поддону 16Е для осушения осадка; третьим устройством измерения температуры 26А для измерения температуры жидкости для очистки поддона до того, как она подается в первый поддон 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка; вторым нагревателем 16В для нагрева жидкости для очистки поддона; клапаном управления CV4 для регулирования расхода нагревательной среды, подаваемой во второй нагреватель 26В, основываясь на результатах измерений третьего устройства для измерения температуры 26А; и насосом (не показано) для подачи жидкости для очистки поддона для первого поддона 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка через автоматические клапаны SV8-SV10. При такой конфигурации температура жидкости для очистки поддона, подаваемой к первому поддону 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка через автоматические клапаны SV8-SV10, регулируется так, что температура становится на 5-10°С выше, чем температура, при которой начинается кристаллизация маточного раствора.As shown in FIG. 1, the tray cleaning fluid supply device 26 is equipped with an automatic valve SV8 connected to the first drip tray 16C; an automatic valve SV9 connected to a second sump 16D for draining the sludge; an SV10 automatic valve connected to a third sump 16E for draining the sludge; a third temperature measuring device 26A for measuring the temperature of the liquid for cleaning the pan before it is supplied to the first pan 16C for draining the sludge to the third pan 16E for draining the sludge; a second heater 16B for heating the pan cleaning fluid; a CV4 control valve for controlling the flow rate of the heating medium supplied to the second heater 26B based on the measurement results of the third temperature measuring device 26A; and a pump (not shown) for supplying liquid to clean the pan for the first pan 16C for draining the sludge to the third pan 16E for draining the sludge through the automatic valves SV8-SV10. With this configuration, the temperature of the pan cleaning fluid supplied to the first pan 16C for draining the sludge to the third pan 16E for draining the sludge through the automatic valves SV8-SV10 is controlled so that the temperature becomes 5-10 ° C higher than the temperature at which crystallization of the mother liquor begins.

Вакуумная фильтрационная установка настоящего воплощения оборудована устройством управления, которое не показано на чертежах. Устройства измерения давления вакуума 27А-27С, автоматические клапаны SV5-SV7 и SV8-SV10 и вышеупомянутый насос устройства 26 для очистки поддона присоединены к устройству управления. Выходные сигналы, выходящие из устройств измерения давления вакуума 27А-27С, передаются через устройство управления к насосу и автоматическим клапанам SV5-SV7 и SV8-SV10. То есть, когда давления вакуумов, измеренные устройствами измерения давлений вакуума 27А-27С, ниже назначенного значения (например, -40кПа), устройство управления закрывает автоматические клапаны SV8-SV10, открывает автоматические клапаны SV5-SV7, останавливает подачу жидкости для очистки поддона в первый поддон 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка и подает фильтрованную жидкость, извлеченную из шлама S через фильтрационное отделение 11А в третью верхнюю трубу 24. С другой стороны, когда давления вакуума выше чем требуемое, устройство управления открывает автоматические клапаны SV8-SV10, закрывает автоматические клапаны SV5-SV7, останавливает подачу фильтрованной жидкости в третью верхнюю трубу 24 и подает жидкость для очистки поддона в первый поддон 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка.The vacuum filtration unit of the present embodiment is equipped with a control device that is not shown in the drawings. The vacuum pressure measuring devices 27A-27C, the automatic valves SV5-SV7 and SV8-SV10 and the aforementioned pump of the pan cleaning device 26 are connected to the control device. The output signals from the 27A-27C vacuum pressure measuring devices are transmitted through the control device to the pump and automatic valves SV5-SV7 and SV8-SV10. That is, when the vacuum pressures measured by the vacuum pressure measuring devices 27A-27C are lower than the set value (for example, -40kPa), the control device closes the automatic valves SV8-SV10, opens the automatic valves SV5-SV7, stops the flow of liquid to clean the pan in the first sump 16C for draining the sludge to the third sump 16E for draining the sludge and delivers the filtered liquid extracted from the sludge S through the filter compartment 11A to the third upper pipe 24. On the other hand, when the vacuum pressure is higher than required e, the control unit opens automatic valves SV8-SV10, closes the automatic valves SV5-SV7, stops the supply of filtered fluid into the third upper pipe 24 and supplies the cleaning liquid in the first sump tray 16C for dewatering sludge to the third pallet 16E dewatering sludge.

Основываясь на результатах измерений устройств измерения давления вакуума 27А-27С, устройство управления открывает и закрывает автоматические клапаны SV5-SV7 и SV8-SV10 соответственно, таким образом очищая первый поддон 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка соответственно. То есть автоматические клапаны SV5 и SV8 открываются и закрываются, основываясь на результатах измерений первого устройства для измерения давления вакуума 28А; автоматические клапаны SV6 и SV9 открываются и закрываются, основываясь на результатах измерений второго устройства для измерения давления вакуума 28В; автоматические клапаны SV7 и SV10 открываются и закрываются, основываясь на результатах измерений третьего устройства для измерения давления вакуума 28С.Based on the measurement results of the vacuum pressure measuring devices 27A-27C, the control device opens and closes the automatic valves SV5-SV7 and SV8-SV10, respectively, thereby cleaning the first sump 16C for draining the sludge to the third sump 16E for draining the sludge, respectively. That is, the automatic valves SV5 and SV8 open and close based on the measurement results of the first vacuum pressure measuring device 28A; automatic valves SV6 and SV9 open and close, based on the measurement results of the second device for measuring vacuum pressure 28V; automatic valves SV7 and SV10 open and close, based on the measurement results of the third device for measuring vacuum pressure 28C.

Далее будет описан способ применения вакуумной фильтрационной установки, имеющий вышеуказанную конфигурацию.Next, a method of using a vacuum filtration unit having the above configuration will be described.

Во-первых, при нормальной работе, так же как и в традиционных установках, устройство подачи шлама 13 подает шлам S на место на фильтрационном отделении 11А, которое расположено над поддоном 16А для образования осадка, и давление вакуума, примененное к поддону 16А для образования осадка, будет откачивать и фильтровать жидкость, находящуюся в шламе S, и, таким образом, формировать осадок. Затем слой осадка перемещается фильтрационным отделением 11А и располагается над поддоном 16В для промывки осадка. Затем устройство для промывки осадка 21 будет подавать жидкость L для промывания осадка на слой осадка, таким образом промывая осадок. Более того, этот слой осадка осушается посредством его последовательного перемещения из первого поддона 16С для осушения осадка к третьему поддону 16Е для осушения осадка. В это время, фильтрованные жидкости, извлеченные каждым из вакуумных поддонов 16, будут проходить через верхние трубы 22-24, и будут помещаться в соответствующий из баков 31-33 для разделения газа и жидкости, и, таким образом, разделяться на газ и жидкость.Firstly, during normal operation, as well as in conventional installations, the sludge supply device 13 feeds the sludge S into place in the filtration compartment 11A, which is located above the sump 16A for the formation of sludge, and the vacuum pressure applied to the sump 16A for the formation of sludge , will pump out and filter the liquid in the sludge S, and thus form a precipitate. Then, the sludge layer is moved by the filtration compartment 11A and is located above the sump 16B for washing the sludge. Then, the sludge washing device 21 will supply a liquid L to wash the sludge onto the sludge layer, thereby washing the sludge. Moreover, this sludge layer is drained by sequentially moving it from the first sump 16C to drain the sludge to the third sump 16E to drain the sludge. At this time, the filtered liquids recovered by each of the vacuum trays 16 will pass through the upper pipes 22-24, and will be placed in the respective tanks 31-33 to separate the gas and liquid, and thus be separated into gas and liquid.

Уровни жидкости фильтрованных жидкостей в баках 31-33 для разделения газа и жидкости постоянно измеряются соответствующими устройствами измерения уровня жидкости 36-38; и основываясь на результатах измерений, фильтрованные жидкости в баках 31-33 для разделения газа и жидкости переводятся в произвольные процессы через насосы 39-41 для фильтрованной жидкости и автоматические клапаны SV1-SV3. С другой стороны, так как каждый из газов, выброшенных из баков 31-33 для разделения газа и жидкости, содержит немного раствора, раствор термически конденсируется и удаляется при прохождении газов через охладитель 35 и затем возвращается во вторые баки 32 для разделения газа и жидкости. При помощи осуществления этого процесса газ, откачанный вакуумным насосом 34, приводится в высушенное состояние и затем возвращается в газонепроницаемую камеру R через линию 50 управления температурой камеры. В это время, так как температуру газа следует поддерживать выше чем температура осаждения кристаллов маточного раствора, температура в газонепроницаемой камере R регулярно измеряется вторым устройством измерения температуры 52. И, в соответствии с выходом из второго устройства измерения температуры 52, температура газа регулируется посредством первого нагревателя 51 и клапана управления СV2, так что температура становится на 5-20°С выше чем температура, при которой в маточном растворе начинается кристаллизация. При помощи осуществления этого процесса температура в газонепроницаемой камере R поддерживается при постоянных температурных условиях, имеющих определенную температуру.The liquid levels of the filtered liquids in the tanks 31-33 for separating gas and liquid are constantly measured by appropriate liquid level measuring devices 36-38; and based on the measurement results, the filtered liquids in the gas and liquid separation tanks 31-33 are transferred to arbitrary processes through the filtered liquid pumps 39-41 and the automatic valves SV1-SV3. On the other hand, since each of the gases ejected from the gas and liquid separation tanks 31-33 contains a small amount of solution, the solution is thermally condensed and removed when gases pass through the cooler 35 and then returned to the second gas and liquid separation tanks 32. By carrying out this process, the gas evacuated by the vacuum pump 34 is brought to a dried state and then returned to the gas tight chamber R via the chamber temperature control line 50. At this time, since the gas temperature should be maintained higher than the crystal deposition temperature of the mother liquor, the temperature in the gas-tight chamber R is regularly measured by the second temperature measuring device 52. And, in accordance with the output from the second temperature measuring device 52, the gas temperature is controlled by the first heater 51 and control valve CV2, so that the temperature becomes 5-20 ° C higher than the temperature at which crystallization begins in the mother liquor. By carrying out this process, the temperature in the gas tight chamber R is maintained at constant temperature conditions having a certain temperature.

Температура жидкости L для промывки осадка также регулярно измеряется посредством четвертого устройства для измерения температуры (не показано). Дополнительно, в соответствии с результатами измерений четвертого устройства измерения температуры температура жидкости L для промывки осадка регулируется так, что температура становиться на 5-10°С выше чем температура, при который в маточном растворе начинается кристаллизация. При помощи осуществления этого процесса температура маточного раствора и фильтрованной жидкости поддерживаются выше чем температура, при которой маточный раствор начинает кристаллизоваться. В результате, становится возможным предотвращение отложения кристаллов и достижение стабильной работы на многие часы.The temperature of the liquid L for washing the precipitate is also regularly measured by a fourth temperature measuring device (not shown). Additionally, in accordance with the measurement results of the fourth temperature measuring device, the temperature of the liquid L for washing the precipitate is controlled so that the temperature becomes 5-10 ° C higher than the temperature at which crystallization begins in the mother liquor. By carrying out this process, the temperature of the mother liquor and the filtered liquid are maintained higher than the temperature at which the mother liquor begins to crystallize. As a result, it becomes possible to prevent the deposition of crystals and achieve stable operation for many hours.

Однако даже когда вакуумная фильтрационная установка работает с вышеупомянутыми контрмерами для предотвращения отложения кристаллов, существует возможность того, что кристаллические компоненты шлама S будут приставать к нижней поверхности фильтрационного отделения 11А и к сетчатым пластинам 16I первого поддона 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка.However, even when the vacuum filtration unit operates with the aforementioned countermeasures to prevent the deposition of crystals, it is possible that the crystalline components of the sludge S will adhere to the bottom surface of the filtration compartment 11A and to the mesh plates 16I of the first sump 16C to drain the sludge to the third sump 16E to drain the sludge .

Ниже описан случай, в котором кристаллические компоненты группируются и налипают на первый поддон 16С. В этом случае давление вакуума между (i) частью нижней поверхности фильтрационного отделения 11А, которая соответствует первому поддону 16С для осушения осадка, и (ii) устройством отсоса 30 под разрежением возрастает. И если первое устройство измерения давления вакуума 27А, расположенное на третьей верхней трубе 24А, показывает, что давление вакуума стало больше заданного значения, то выходной сигнал от первого устройства измерения давления вакуума 27А передается на автоматические клапаны SV8 и SV5 и насосу через устройство управления. В результате, автоматический клапан SV8 откроется, и автоматический клапан SV5 закроется. Затем, пока остановлен отсос под разрежением первым поддоном 16С для осушения осадка, жидкость для очистки поддона, в которой расход и температура регулируются заранее устройством 26 для подачи жидкости для очистки поддона, будет подана в первый поддон 16С для осушения осадка. С другой стороны, несмотря на то что вакуумный отсос первого поддона 16С для осушения осадка остановлен, работа вакуумного отсоса другими вакуумными поддонами 16 (т.е. поддоном 16А для образования осадка, поддоном 16В для промывки осадка, и первым поддоном 16С для осушения осадка, вторым поддоном 16D для осушения осадка и третьим поддоном 16Е для осушения осадка) будет продолжаться.A case is described below in which crystalline components are grouped together and adhere to a first tray 16C. In this case, the vacuum pressure between (i) the portion of the lower surface of the filtration compartment 11A, which corresponds to the first sump 16C for draining the sludge, and (ii) the suction device 30 under vacuum increases. And if the first vacuum pressure measuring device 27A, located on the third upper pipe 24A, shows that the vacuum pressure has become greater than the set value, then the output signal from the first vacuum pressure measuring device 27A is transmitted to the automatic valves SV8 and SV5 and to the pump through the control device. As a result, the automatic valve SV8 opens and the automatic valve SV5 closes. Then, while the suction is stopped under rarefaction by the first sump 16C for draining the sludge, the liquid for cleaning the sump, in which the flow rate and temperature are adjusted in advance by the device 26 for supplying liquid to clean the sump, will be supplied to the first sump 16C for draining the sludge. On the other hand, although the vacuum suction of the first sump drier 16C is stopped, the operation of the vacuum suction by other vacuum trays 16 (i.e., a sludge trap 16A, a sludge trap 16B, and a first sludge drier 16C, the second sump 16D for draining the sludge and the third sump 16E for draining the sludge) will continue.

Операция фильтрации продолжается требуемое время, в то время как жидкость для очистки поддона, помещенная в первый поддон 16С для осушения осадка, переливается из него, так что сетчатая пластина 16I погружена в жидкость для очистки поддона и так что нижняя поверхность фильтрационного отделения 11А погружена в жидкость для очистки поддона. Между тем, в соответствии с движениями вперед и назад каждого из вакуумных поддонов 16, жидкость для очистки поддона будет автоматически встряхиваться, таким образом осуществляя эффективную операцию очистки. В особенности, так как жидкость для очистки поддона подается так, что малое количество жидкости для очистки поддона переливается из первого поддона 16С для осушения осадка, очистительная жидкость, содержащая кристаллические компоненты, не будет продолжать касаться внутренней стенки первого поддона 16С для осушения осадка и не будет охлаждаться. Поэтому можно предотвратить рекристаллизацию кристаллических компонентов на внутренней стенке. После прохождения заданного времени подача жидкости для очистки поддона прекращается путем закрытия автоматического клапана SV8, и жидкость для очистки поддона возвращается как фильтрованная жидкость путем открытия автоматического клапана SV5.The filtration operation continues for the required time, while the pan cleaning liquid placed in the first pan 16C for draining the sludge is poured out of it, so that the mesh plate 16I is immersed in the pan cleaning liquid and so the bottom surface of the filtration compartment 11A is immersed in the liquid to clean the pallet. Meanwhile, in accordance with the forward and backward movements of each of the vacuum trays 16, the cleaning fluid of the tray will be automatically shaken, thereby performing an effective cleaning operation. In particular, since the liquid for cleaning the pan is supplied so that a small amount of liquid for cleaning the pan is poured from the first pan 16C to dry the sludge, the cleaning liquid containing the crystalline components will not continue to touch the inner wall of the first pan 16C to dry the sludge and will not cool. Therefore, recrystallization of crystalline components on the inner wall can be prevented. After a predetermined time has passed, the supply of liquid for cleaning the pan is stopped by closing the automatic valve SV8, and the liquid for cleaning the pan is returned as filtered liquid by opening the automatic valve SV5.

Для очистки второго поддона 16D для осушения осадка автоматический клапан SV6 закрывается, и автоматический клапан SV9 открывается, и, таким образом, осуществляется операция очистки, так же как описано выше. Также для очистки третьего поддона 16Е для осушения осадка автоматический клапан SV7 закрывается, и автоматический клапан SV10 открывается, и, таким образом, осуществляется операция очистки, так же как было описано выше.To clean the second drip tray 16D, the automatic valve SV6 is closed and the automatic valve SV9 is opened, and thus the cleaning operation is carried out as described above. Also, to clean the third drain pan 16E, the automatic valve SV7 is closed and the automatic valve SV10 is opened, and thus the cleaning operation is carried out, as described above.

Как описано выше, в соответствии с вакуумной фильтрационной установкой настоящего изобретения, так как время для подачи жидкости для очистки поддона в вакуумные поддоны 16 определяется, основываясь на давлении вакуума в вакуумной линии 20, становится возможным утвердить состояние кристаллических компонентов, отложившихся и прилипших к сетчатой пластине 16I и т.д., несмотря на изменения рабочих условий и т.д. вакуумной фильтрационной установки. Соответственно, очистка сетчатой пластины 16I и т.д. может быть осуществлена своевременно. То есть давление вакуума будет расти, если количество кристаллических компонентов, отложившихся на сетчатой пластине 16I и т.д., велико, в то время как давление вакуума будет понижаться, если количество кристаллических компонентов, расположенных на сетчатой пластине 16I и т.д., мало. Таким образом, можно организовать, чтобы вакуумные поддоны 16 очищались, когда давление вакуума становится больше заданного значения, например -40 кПа. При помощи этого вред качеству продукта, нанесенный недостаточной очисткой или недостаточной сушкой, и потери чистой воды могут быть предотвращены.As described above, in accordance with the vacuum filtration unit of the present invention, since the time for supplying the liquid to clean the pan to the vacuum trays 16 is determined based on the vacuum pressure in the vacuum line 20, it becomes possible to confirm the state of the crystalline components deposited and adhered to the mesh plate 16I, etc., despite changes in operating conditions, etc. vacuum filtration unit. Accordingly, the cleaning of the mesh plate 16I, etc. can be done in a timely manner. That is, the vacuum pressure will increase if the number of crystalline components deposited on the mesh plate 16I, etc., is large, while the vacuum pressure will decrease if the number of crystalline components located on the mesh plate 16I, etc., few. Thus, it can be arranged that the vacuum trays 16 are cleaned when the vacuum pressure becomes greater than a predetermined value, for example -40 kPa. With this, damage to the quality of the product caused by insufficient cleaning or insufficient drying and the loss of pure water can be prevented.

Дополнительно, так как давление вакуума в вакуумной линии 20 измеряется для каждого из первого поддона 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка и так как очищается только тот вакуумный поддон, в котором давление вакуума превышает заданное значение, становится возможным предотвращение потерь чистой жидкости и реализация высокоэффективной очистки.Additionally, since the vacuum pressure in the vacuum line 20 is measured for each of the first sump 16C for draining the sludge to the third sump 16E for draining the sludge, and since only the vacuum pan in which the vacuum pressure exceeds a predetermined value is cleaned, it becomes possible to prevent loss of pure liquid and the implementation of highly efficient cleaning.

Дополнительно, во время очистки первого поддона 16С для осушения осадка, при помощи непрерывной работы второго поддона 16D для осушения осадка и третьего поддона 16Е для осушения осадка, становится возможным продолжение операции осушения без остановки отсасывающих фильтраций фильтрованной жидкости в вакуумной фильтрационной установке, таким образом реализуя высокоэффективные операции очистки. Боле того, так как отсасывающая фильтрация вакуумной фильтрационной установкой продолжается во время того, как сетчатая пластина 16I погружена в жидкость для очистки поддона, жидкость для очистки поддона будет автоматически встряхиваться, таким образом реализуя высокоэффективные операции очистки.Additionally, during the cleaning of the first sump 16C for drying the sludge, by the continuous operation of the second sump 16D for drying the sludge and the third sump 16E for drying the sludge, it is possible to continue the drying operation without stopping the suction filtrations of the filtered liquid in a vacuum filtration system, thereby realizing highly efficient cleaning operations. Moreover, since the suction filtration by the vacuum filtration unit continues while the mesh plate 16I is immersed in the pan cleaning liquid, the pan cleaning liquid will be automatically shaken, thereby performing highly efficient cleaning operations.

Более того, так как жидкость для очистки поддона подается в вакуумные поддоны 16 так, что жидкость для очистки поддона переливается из вакуумных поддонов 16, не только сетчатая пластина 16I, но также нижняя поверхность фильтрационного отделения 11А могут быть погружены в жидкость для очистки поддона. В результате, кристаллические компоненты, отложившиеся и прилипшие как к сетчатой пластине 16I, так и к фильтрационному отделению 11А, могут быть удовлетворительно растворены и удалены.Moreover, since the pan cleaning liquid is supplied to the vacuum trays 16 so that the pan cleaning liquid is poured out of the vacuum trays 16, not only the mesh plate 16I, but also the bottom surface of the filtration compartment 11A can be immersed in the pan cleaning liquid. As a result, crystalline components deposited and adhered to both the mesh plate 16I and the filtration compartment 11A can be satisfactorily dissolved and removed.

То есть, если каждая из очистительных жидкостей не переливается из вакуумных поддонов 16 и поддерживает уровень жидкости определенной высоты в вакуумных поддонах 16, существует возможность того, что каждый из участков поверхностей жидкости очистительных жидкостей будет охлаждаться в ходе процесса очистки, таким образом приводя к падению их температуры. Поэтому существует вероятность того, что кристаллические компоненты, растворенные на участках поверхности жидкости очистительных жидкостей, будут рекристаллизовываться и оседать на поверхностях стенок вакуумных поддонов 16, контактирующих с участками поверхности жидкости.That is, if each of the cleaning liquids does not overflow from the vacuum trays 16 and maintains a liquid level of a certain height in the vacuum trays 16, there is a possibility that each of the sections of the liquid surface of the cleaning liquids will cool during the cleaning process, thereby causing them to fall temperature. Therefore, it is likely that crystalline components dissolved in sections of the liquid surface of the cleaning liquids will recrystallize and settle on the wall surfaces of the vacuum trays 16 in contact with the liquid surface sections.

Наоборот, в соответствии с вакуумной фильтрационной установкой настоящего изобретения, так как очистительная жидкость подается так, что она переливается из вакуумных поддонов 16, не будет образовываться стоячего жидкого тела. Соответственно, становится возможным (i) предотвращение рекристаллизации кристаллических компонентов на стенках вакуумных поддонов 16, и (ii) предотвращение падения температуры очистительных жидкостей в вакуумных поддонах 16. В результате, растворение кристаллических компонентов, осевших на сетчатой пластине и т.д., в очистительной жидкости увеличивается; и, таким образом, может быть предотвращена недостаточная очистка.On the contrary, in accordance with the vacuum filtration unit of the present invention, since the cleaning liquid is supplied so that it is poured from the vacuum trays 16, no standing fluid body will be formed. Accordingly, it becomes possible (i) to prevent recrystallization of the crystalline components on the walls of the vacuum trays 16, and (ii) to prevent the temperature of the cleaning liquids from falling in the vacuum trays 16. As a result, the crystalline components deposited on the mesh plate, etc., are dissolved in the cleaning fluid increases; and thus, insufficient cleaning can be prevented.

Более того, путем поднятия высоты поверхности жидкости очистительной жидкости так, что она переливается из вакуумных поддонов 16 вблизи от нижней стороны фильтрационного отделения 11А, не только сетчатая пластина 16I, но также нижняя поверхность фильтрационного отделения 11А могут быть погружены в очистительную жидкость. В результате, кристаллические компоненты шлама S, отложившиеся на нижней поверхности фильтрационного отделения 11А, могут быть очищены и удалены. В особенности, в соответствии с вакуумной фильтрационной установкой настоящего воплощения, так как температура очистительной жидкости поддерживается больше чем температура рекристаллизации кристаллических компонентов, можно усилить растворение кристаллических компонентов в жидкости для очистки поддона.Moreover, by raising the height of the liquid surface of the cleaning liquid so that it is poured from the vacuum trays 16 close to the lower side of the filtration compartment 11A, not only the mesh plate 16I, but also the lower surface of the filtration compartment 11A can be immersed in the cleaning fluid. As a result, the crystalline components of sludge S deposited on the lower surface of the filtration compartment 11A can be cleaned and removed. Particularly, in accordance with the vacuum filtration apparatus of the present embodiment, since the temperature of the cleaning liquid is maintained higher than the temperature of recrystallization of the crystalline components, the dissolution of the crystalline components in the pan cleaning liquid can be enhanced.

В первом поддоне 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка, так как количество маточного раствора, содержащегося в шламе S, мало и так как количество газа, подлежащего откачиванию, велико, температура фильтрованной жидкости легко падает, таким образом приводя к рекристаллизации кристаллических компонентов, в особенности на сетчатой пластине 16 и т.д. Наоборот, в соответствии с вакуумной фильтрационной установкой настоящего изобретения, так как вакуумные поддоны 16, в которых кристаллические компоненты легко откладываются, оборудуются устройствами 27А-27С измерения давления вакуума и устройством 26 для подачи очистительной жидкости, рекристаллизованные кристаллические компоненты, отложившиеся в вакуумной фильтрационной установке, могут быть эффективно растворены и удалены. Дополнительно, в соответствии с вакуумной фильтрационной установкой настоящего изобретения, даже когда очищается один из множества из первого поддона 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка, можно продолжать процесс осушения в других, таким образом обеспечивая реализацию высокоэффективных операций очистки.In the first sump 16C for draining the sludge to the third sump 16E for draining the sludge, since the amount of the mother liquor contained in the sludge S is small, and since the amount of gas to be pumped out is large, the temperature of the filtered liquid easily drops, thus leading to crystalline recrystallization components, especially on the mesh plate 16, etc. Conversely, in accordance with the vacuum filtration apparatus of the present invention, since the vacuum trays 16 in which the crystalline components are easily deposited are equipped with vacuum pressure measuring devices 27A-27C and a cleaning fluid supply 26, recrystallized crystalline components deposited in the vacuum filtration apparatus, can be effectively dissolved and removed. Additionally, in accordance with the vacuum filtration unit of the present invention, even when one of the plurality of the first pan 16C for draining the sludge is cleaned to the third pan 16E for draining the sludge, it is possible to continue the draining process in others, thereby providing highly efficient cleaning operations.

Несмотря на то что выше было объяснено и проиллюстрировано предпочтительное воплощение изобретения, следует понимать, что это является примером изобретения и не должно рассматриваться как ограничение. Дополнения, пропуски, замещения и другие модификации могут быть произведены, не выходя за рамки или сущность настоящего изобретения. Соответственно, изобретение не должно рассматриваться как ограниченное вышеизложенным описанием, и оно ограничивается лишь рамками прилагаемой формулы изобретения.Although the preferred embodiment of the invention has been explained and illustrated above, it should be understood that this is an example of the invention and should not be construed as limiting. Additions, omissions, substitutions, and other modifications may be made without departing from the scope or essence of the present invention. Accordingly, the invention should not be construed as limited by the foregoing description, and it is limited only by the scope of the attached claims.

В настоящем изобретении первое устройство 27А измерения давления вакуума до третьего устройства 27С измерения давления вакуума и устройства 26 подачи очистительной жидкости присоединены к каждой из вакуумных линий 20, подсоединенных к первому поддону 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка. Однако конфигурация вакуумной фильтрационной установки настоящего изобретения этим не ограничивается, но также возможно обеспечение первого устройства 27А для измерения давления вакуума по третье устройство 27С для измерения давления вакуума и устройства 26 для подачи очистительной жидкости на одной из вакуумных линий 20, расположенной между устройством отсоса 30 под разрежением и одним из первого поддона 16С для осушения осадка до третьего поддона 16Е для осушения осадка. То есть, например, устройство 27 измерения давления вакуума и устройство 26 подачи очистительной жидкости могут быть выполнены только на одной или на всех из первой вакуумной линии 20А, второй вакуумной линии 20В и третьей вакуумной линии 20С.In the present invention, the first vacuum pressure measuring device 27A to the third vacuum pressure measuring device 27C and the cleaning liquid supply 26 are connected to each of the vacuum lines 20 connected to the first sump 16C for draining the sludge to the third sump 16E for draining the sludge. However, the configuration of the vacuum filtration unit of the present invention is not limited to this, but it is also possible to provide a first vacuum pressure measuring device 27A according to a third vacuum pressure measuring device 27C and a cleaning liquid supply device 26 on one of the vacuum lines 20 located between the suction device 30 under vacuum and one of the first pan 16C for draining the sludge to the third pan 16E for draining the sludge. That is, for example, the vacuum pressure measuring device 27 and the cleaning liquid supply device 26 can be performed on only one or all of the first vacuum line 20A, the second vacuum line 20B and the third vacuum line 20C.

Дополнительно, в настоящем воплощении жидкость для очистки поддона автоматически подается в вакуумные поддоны 16; однако может быть возможно расположение первого устройства 27А измерения давления вакуума до третьего устройства 27С измерения давления вакуума с внешней стороны газонепроницаемой камеры R, так что измеряемые давления вакуумов, таким образом, могут наблюдаться оператором, и это позволяет оператору вручную управлять устройством 26 подачи очистительной жидкости и т.д.Additionally, in the present embodiment, the liquid for cleaning the pan is automatically supplied to the vacuum trays 16; however, it may be possible to arrange the first vacuum pressure measuring device 27A to the third vacuum pressure measuring device 27C from the outside of the gas tight chamber R, so that the measured vacuum pressures can thus be observed by the operator, and this allows the operator to manually control the cleaning liquid supply 26 and etc.

Claims (6)

1. Способ очистки вакуумной фильтрационной установки, содержащей: фильтрационную байку для поддержания шлама и перемещения по существу в горизонтальном направлении; вакуумный поддон, расположенный под фильтрационной байкой; вакуумную линию, присоединенную к вакуумному поддону; устройство отсоса под разрежением для осуществления вакуумного откачивания шлама через вакуумную линию, вакуумный поддон, и фильтрационную байку; и устройство подачи очистительной жидкости для ее подачи к вакуумному поддону, включающий этапы, на которых осуществляют: измерение давления вакуума в вакуумной линии; и очистку вакуумного поддона, основанную на давлении вакуума, при этом используют множество вакуумных поддонов и соответствующих вакуумных линий, расположенных вдоль направления перемещения фильтрационной байки; и на основании давления вакуума в по меньшей мере одной из вакуумных линий, осуществляют очистку вакуумного поддона, присоединенного к вакуумной линии, на чье давление вакуума сделана ссылка.1. A method of cleaning a vacuum filtration plant, comprising: a filter bike to maintain sludge and move essentially in the horizontal direction; a vacuum pan located under the filter bike; a vacuum line attached to the vacuum pan; a suction device under vacuum for vacuum pumping of sludge through a vacuum line, a vacuum pan, and a filter bike; and a cleaning fluid supply device for supplying it to a vacuum tray, comprising the steps of: measuring a vacuum pressure in a vacuum line; and cleaning the vacuum pan based on vacuum pressure, using a plurality of vacuum pans and corresponding vacuum lines located along the direction of movement of the filter bike; and based on the vacuum pressure in at least one of the vacuum lines, a vacuum pan connected to the vacuum line, to which the vacuum pressure is referenced, is cleaned. 2. Способ очистки вакуумной фильтрационной установки по п.1, в котором используют множество вышеуказанных вакуумных поддонов и соответствующих вакуумных линий, расположенных вдоль направления перемещения фильтрационной байки; измеряют давление вакуума в каждой из вакуумных линий; и только тот вакуумный поддон, в котором давление вакуума превышает заданное значение, очищают.2. The method of cleaning a vacuum filtration unit according to claim 1, wherein a plurality of the above vacuum trays and corresponding vacuum lines are used located along the direction of movement of the filtration filter; measure the vacuum pressure in each of the vacuum lines; and only that vacuum pan in which the vacuum pressure exceeds a predetermined value is cleaned. 3. Способ очистки вакуумной фильтрационной установки по п.1, в котором вакуумный поддон очищают, в то время как очистительную жидкость подают так, что она переливается из вакуумного поддона.3. The method of cleaning the vacuum filtration unit according to claim 1, in which the vacuum pan is cleaned, while the cleaning liquid is supplied so that it overflows from the vacuum pan. 4. Способ очистки вакуумной фильтрационной установки по п.1, в котором дополнительно осуществляют поддержание температуры очистительной жидкости выше температуры рекристаллизации кристаллических компонентов, содержащихся в шламе.4. The method of cleaning the vacuum filtration system according to claim 1, in which additionally maintain the temperature of the cleaning liquid above the temperature of recrystallization of crystalline components contained in the sludge. 5. Вакуумная фильтрационная установка, содержащая: фильтрационную байку для поддержания шлама и перемещения по существу в горизонтальном направлении; вакуумный поддон, расположенный под фильтрационной байкой; вакуумную линию, присоединенную к вакуумному поддону; устройство отсоса под разрежением для осуществления отсоса под разрежением шлама по вакуумной линии, вакуумному поддону и фильтрационной байке; устройство подачи очистительной жидкости для подачи очистительной жидкости к вакуумному поддону; устройство измерения давления вакуума для измерения давления вакуума в вакуумной линии; и устройство управления для того, чтобы устройство подачи очистительной жидкости подавало очистительную жидкость в вакуумный поддон для очистки вакуумного поддона, основываясь на давлении вакуума, при этом используют множество вакуумных поддонов и соответствующих вакуумных линий, расположенных вдоль направления перемещения фильтрационной байки; и на основании давления вакуума в по меньшей мере одной из вакуумных линий, осуществляют очистку вакуумного поддона, присоединенного к вакуумной линии, на чье давление вакуума сделана ссылка.5. A vacuum filtration plant, comprising: a filter bike to maintain sludge and move essentially in the horizontal direction; a vacuum pan located under the filter bike; a vacuum line attached to the vacuum pan; a suction device under vacuum for suction under a rarefaction of sludge in a vacuum line, a vacuum pan and a filter bike; a cleaning fluid supply device for supplying a cleaning fluid to a vacuum pan; a vacuum pressure measuring device for measuring a vacuum pressure in a vacuum line; and a control device so that the cleaning fluid supply device delivers the cleaning fluid to the vacuum pan for cleaning the vacuum pan based on vacuum pressure, using a plurality of vacuum trays and corresponding vacuum lines located along the direction of movement of the filter medium; and based on the vacuum pressure in at least one of the vacuum lines, a vacuum pan connected to the vacuum line, to which the vacuum pressure is referenced, is cleaned. 6. Вакуумная фильтрационная установка по п.5, в которой вакуумный поддон содержит вакуумный поддон для образования осадка, вакуумный поддон для промывки осадка и вакуумный поддон для осушения осадка, каждый из которых расположен вдоль направления перемещения фильтрационной байки; и устройство измерения давления вакуума и устройство подачи очистительной жидкости оборудованы для по меньшей мере вакуумной линии, присоединенной к вакуумному поддону для осушения осадка. 6. The vacuum filtration unit according to claim 5, in which the vacuum pan contains a vacuum pan for the formation of sediment, a vacuum pan for washing the cake and a vacuum pan for draining the cake, each of which is located along the direction of movement of the filter bike; and the vacuum pressure measuring device and the cleaning fluid supply are equipped for at least a vacuum line connected to a vacuum pan to drain the sludge.
RU2005129183/12A 2004-09-22 2005-09-19 Method of vacuum filtration installation declogging and vacuum filtration installation RU2372136C2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004-275815 2004-09-22
JP2004275815A JP4368773B2 (en) 2004-09-22 2004-09-22 Cleaning method for vacuum filtration device and vacuum filtration device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2005129183A RU2005129183A (en) 2007-04-10
RU2372136C2 true RU2372136C2 (en) 2009-11-10

Family

ID=36229502

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2005129183/12A RU2372136C2 (en) 2004-09-22 2005-09-19 Method of vacuum filtration installation declogging and vacuum filtration installation

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4368773B2 (en)
KR (1) KR101047972B1 (en)
CN (1) CN100464813C (en)
RU (1) RU2372136C2 (en)
TW (1) TW200610571A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018134474A1 (en) * 2017-01-17 2018-07-26 Lappeenrannan Teknillinen Yliopisto A method and a system for determining a leak flow of a vacuum system of a vacuum filter

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101135940B1 (en) * 2009-10-29 2012-04-18 한국전력공사 An apparatus for removing impurity of slurry
KR101269139B1 (en) 2011-04-28 2013-05-29 주식회사 라우텍 Water Recycling System by Using Vacuum Inhalation
KR102304049B1 (en) * 2014-01-10 2021-09-17 츠키시마기카이가부시키가이샤 Equipment for solid-liquid separation and drying of fine-powder slurry, and method therefor

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7210541A (en) * 1972-08-01 1974-02-05
JPS62134200A (en) 1985-12-04 1987-06-17 Nagaharu Okuno Measuring method for dehydrated cake separatability of dehydrator
JP2001300214A (en) * 2000-04-20 2001-10-30 Tsukishima Kikai Co Ltd Horizontal vacuum filter apparatus and waste treatment equipment equipped therewith
JP2003275508A (en) * 2002-03-22 2003-09-30 Taiheiyo Cement Corp Belt filter
CN2614768Y (en) * 2003-04-09 2004-05-12 李根林 Continuous horizontal vacuum band type filter

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018134474A1 (en) * 2017-01-17 2018-07-26 Lappeenrannan Teknillinen Yliopisto A method and a system for determining a leak flow of a vacuum system of a vacuum filter

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060027293A (en) 2006-03-27
JP4368773B2 (en) 2009-11-18
JP2006088024A (en) 2006-04-06
KR101047972B1 (en) 2011-07-13
TW200610571A (en) 2006-04-01
TWI332859B (en) 2010-11-11
CN100464813C (en) 2009-03-04
CN1751770A (en) 2006-03-29
RU2005129183A (en) 2007-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2372136C2 (en) Method of vacuum filtration installation declogging and vacuum filtration installation
JP3698165B2 (en) Method and apparatus for concentrating lime mud with a disk filter
JP4944558B2 (en) Etching solution regeneration method, etching method and etching apparatus
JP5890198B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2011166006A (en) Etching method
CA1238862A (en) Edible oil cleaner
RU2762472C2 (en) Filtering device and method for preparing water
JP4705465B2 (en) Sludge separator for electrotin plating solution
JP5019337B2 (en) Membrane module cleaning apparatus and cleaning method
JP4173349B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
US5505924A (en) Multistage countercurrent recrystallization process and apparatus for performing same
JP2541443B2 (en) Wet etching apparatus and filter regeneration method
JP2006026594A (en) Filtering device
EP0383384A1 (en) Apparatus for drying fruit or vegetable slices or pieces
SU1651824A1 (en) Apparatus for treating fruits with protective solutions
JPH0747209A (en) Method for cleaning in filtration machine
JP2706854B2 (en) Continuous decompression fryer
JPH0420491Y2 (en)
JP2791834B2 (en) Continuous decompression frying method and apparatus
EP1413363A1 (en) Machine for defrosting deep-frozen food, in particular fish products
JP2894848B2 (en) Decompression fryer
JPH08266815A (en) Filter medium transfer device in moving filter bed type filter
JPH1033111A (en) Water sprinkling thawing machine
JP2001347110A (en) Device for cleaning filter cloth in filter cloth travelling type dehydrator
JP2739257B2 (en) Method and apparatus for decompression water removal of decompression fryer