RU2365068C1 - Method of reception of short-wave radiation from vacuum discharge plasma - Google Patents
Method of reception of short-wave radiation from vacuum discharge plasma Download PDFInfo
- Publication number
- RU2365068C1 RU2365068C1 RU2008111306/28A RU2008111306A RU2365068C1 RU 2365068 C1 RU2365068 C1 RU 2365068C1 RU 2008111306/28 A RU2008111306/28 A RU 2008111306/28A RU 2008111306 A RU2008111306 A RU 2008111306A RU 2365068 C1 RU2365068 C1 RU 2365068C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- discharge
- plasma
- electrodes
- short
- auxiliary
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к способу эффективного получения коротковолнового, в частности, экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) излучения из плазмы импульсно-периодического вакуумного разряда преимущественно с вращающимися электродами. Область применений включает ЭУФ литографию, в частности, в спектральной полосе 13.5±0.135 нм, отвечающей диапазону эффективного отражения зеркальной оптики с Mo/Si покрытием.The invention relates to a method for efficiently producing short-wave, in particular extreme ultraviolet (EUV) radiation from a plasma of a pulsed-periodic vacuum discharge, mainly with rotating electrodes. The field of application includes EUV lithography, in particular, in the spectral band of 13.5 ± 0.135 nm, which corresponds to the effective reflection range of mirror optics with a Mo / Si coating.
Известен способ получения коротковолнового, в частности, ЭУФ излучения из лазерной плазмы, в том числе получаемой в режиме с высокой частотой следования импульсов, при фокусировке импульсного лазерного пучка на субмиллиметровой мишени, содержащей рабочее вещество, линии излучения ионов которого находятся в нужной области ЭУФ диапазона [1]. В указанном способе осуществляют подачу следующих друг за другом твердых или жидких субмиллиметровых мишеней, содержащих рабочее вещество, такое как олово (Sn), литий (Li), ксенон (Xe), на которые фокусируют мощное лазерное излучение с высокой частотой повторения импульсов. Одним из достоинств устройства является малый, около 1 мм, размер плазмы, излучающей в ЭУФ диапазоне, что отвечает требованиям, предъявляемым к источникам излучения для ЭУФ литографии. Недостатком источника коротковолнового излучения на основе лазерной плазмы является его малая, по сравнению с газоразрядными ЭУФ источниками, эффективность. Некоторое повышение эффективности возможно при последовательном воздействии на мишень двух лазерных импульсов различной энергии и длительности. Другой недостаток связан со сложностью обеспечения пространственной стабильности излучающей плазмы из-за трудностей согласования времени генерации лазерного импульса с временем прохождения очередной мишени через область фокусировки луча.A known method for producing short-wavelength, in particular, EUV radiation from a laser plasma, including that obtained in the high-pulse repetition mode, is focused on a submillimeter target containing a working substance whose ion emission lines are in the desired region of the EUV range [ one]. In this method, successive feeding of solid or liquid submillimeter targets containing a working substance such as tin (Sn), lithium (Li), xenon (Xe), which focus powerful laser radiation with a high pulse repetition rate, is carried out. One of the advantages of the device is the small, about 1 mm, size of the plasma emitting in the EUV range, which meets the requirements for radiation sources for EUV lithography. The disadvantage of a source of short-wave radiation based on laser plasma is its low efficiency compared to gas-discharge EUV sources. A certain increase in efficiency is possible with the sequential action of two laser pulses of different energy and duration on the target. Another drawback is the difficulty in ensuring the spatial stability of the emitting plasma due to the difficulties in matching the laser pulse generation time with the time the next target travels through the beam focusing region.
Частично этих недостатков лишен способ получения коротковолнового излучения из плазмы разряда пинчевого типа в газе, преимущественно в Xe [2]. В указанном способе перед зажиганием разряда пинчевого типа осуществляют вспомогательные разряды для предыонизации разрядной области и для формирования на ее периферии начальной токово-плазменной оболочки, что повышает энергетическую эффективность и пространственную стабильность ЭУФ источника малого размера. Способ предусматривает, в том числе, использование вращающихся электродов для обеспечения высокого ресурса работы источника излучения. Недостатком указанного способа являются ограниченные возможности повышения частоты следования разрядных импульсов и мощности источника излучения. Другим недостатком указанного способа является его низкая эффективность по сравнению со способом получения коротковолнового излучения из плазмы импульсного вакуумного разряда с использованием в качестве плазмообразующего вещества материала электрода, в частности олова (Sn).Partially these drawbacks lack the method of producing short-wave radiation from a pinch-type discharge plasma in a gas, mainly in Xe [2]. In this method, auxiliary discharges are performed before ignition of the pinch-type discharge to preionize the discharge region and to form an initial current-plasma shell on its periphery, which increases the energy efficiency and spatial stability of the EUV of a small source. The method includes, inter alia, the use of rotating electrodes to ensure a high service life of the radiation source. The disadvantage of this method is the limited ability to increase the repetition rate of discharge pulses and the power of the radiation source. Another disadvantage of this method is its low efficiency compared to the method for producing short-wave radiation from a pulsed vacuum discharge plasma using an electrode material, in particular tin (Sn), as a plasma-forming substance.
Наиболее близким техническим решением, выбранным в качестве прототипа, является способ получения коротковолнового излучения из плазмы вакуумного разряда, заключающийся в облучении сфокусированным лазерным лучом одного из электродов, покрытого плазмообразующим веществом, и осуществлении с помощью импульсного источника питания основного разряда между электродами [3]. В прототипе разряд производят между вращающимися электродами, на которые непрерывно наносят слой плазмообразующего вещества, в частности жидкого олова. Разряд осуществляют непосредственно после перекрытия разрядного промежутка лазерной плазмой в результате ее распространения от одного вращающегося электрода к другому. Область плазмы, излучающей в коротковолновом диапазоне, расположена преимущественно вблизи электрода, на котором производят генерацию лазерной плазмы. В связи с этим полярность электродов обычно выбирают той, при которой достигается меньший размер области плазмы, излучающей в коротковолновом диапазоне.The closest technical solution, selected as a prototype, is a method for producing short-wave radiation from a vacuum discharge plasma, which consists in irradiating with a focused laser beam one of the electrodes coated with a plasma-forming substance and using a pulsed power source for the main discharge between the electrodes [3]. In the prototype, a discharge is produced between rotating electrodes, on which a layer of a plasma-forming substance, in particular liquid tin, is continuously applied. The discharge is carried out immediately after the discharge gap is blocked by laser plasma as a result of its propagation from one rotating electrode to another. The region of the plasma emitting in the short wavelength range is located mainly near the electrode on which the laser plasma is generated. In this regard, the polarity of the electrodes is usually chosen to one which achieves a smaller size of the plasma region emitting in the short-wavelength range.
Прототип позволяет обеспечить большое время жизни электродов при высоких средней мощности и эффективности коротковолнового излучения.The prototype allows for a long electrode life at high average power and short-wavelength radiation efficiency.
Недостатком прототипа является недостаточно высокая для индустриальных применений пространственная и энергетическая стабильность источника коротковолнового излучения. Указанный недостаток частично обусловлен тем, что точная привязка разряда осуществляется на поверхности только одного из электродов - с помощью лазерного луча. Излучение малой яркости из области разрядной плазмы вблизи другого электрода, которая характеризуется большим размером и не имеет точной привязки к поверхности электрода, не используется. Обладая меньшей пространственной и энергетической стабильностью от импульса к импульсу, оно снижает кпд и стабильность источника коротковолнового излучения из плазмы малого объема вблизи электрода, облучаемого лазером.The disadvantage of the prototype is not high enough for industrial applications, the spatial and energy stability of the source of short-wave radiation. This drawback is partially due to the fact that the exact reference of the discharge is carried out on the surface of only one of the electrodes - using a laser beam. Low-brightness radiation from the region of the discharge plasma near another electrode, which is characterized by a large size and does not have an exact reference to the electrode surface, is not used. Having less spatial and energy stability from pulse to pulse, it reduces the efficiency and stability of a source of short-wave radiation from a small volume plasma near the electrode irradiated by a laser.
Техническим результатом изобретения является увеличение эффективности преобразования вложенной в разряд электрической энергии в энергию коротковолнового излучения, повышение пространственной и энергетической стабильности излучающей плазмы, а также уменьшение ее эффективного размера.The technical result of the invention is to increase the conversion efficiency of the electrical energy invested in the discharge into short-wave radiation energy, increase the spatial and energy stability of the emitting plasma, and also reduce its effective size.
Указанная задача осуществлена усовершенствованием способа получения коротковолнового излучения из плазмы вакуумного разряда, заключающегося в облучении сфокусированным лазерным лучом одного из электродов, покрытого плазмообразующим веществом, и осуществлении с помощью импульсного источника питания основного разряда между электродами.This task was carried out by improving the method for producing short-wave radiation from a vacuum discharge plasma, which consists in irradiating with a focused laser beam one of the electrodes coated with a plasma-forming substance and using a pulsed power source for the main discharge between the electrodes.
Усовершенствование способа состоит в том, что основной разряд осуществляют с временной задержкой после воздействия лазерного луча, и в течение временной задержки формируют вспомогательный разряд между электродами с помощью вспомогательного импульсного источника питания, причем вспомогательный импульсный разряд осуществляют током, направление которого противоположно направлению тока основного разряда, и с энерговкладом, меньшим по сравнению с энерговкладом в основной разряд.The improvement of the method consists in the fact that the main discharge is carried out with a time delay after exposure to the laser beam, and during the time delay an auxiliary discharge is formed between the electrodes using an auxiliary switching power supply, the auxiliary pulse discharge being carried out by a current whose direction is opposite to the direction of the current of the main discharge, and with an energy input less than that in the main discharge.
Существо изобретения поясняется прилагаемыми чертежами.The invention is illustrated by the accompanying drawings.
На фиг.1 схематично изображен вариант устройства, реализующего способ получения коротковолнового излучения из плазмы вакуумного разряда. На фиг.2а представлены изображения разрядной плазмы при использовании только основного разряда с оптимальной полярностью, на фиг.2б - с применением как основного, так и вспомогательного разрядов различной полярности.Figure 1 schematically shows a variant of a device that implements a method for producing short-wave radiation from a vacuum discharge plasma. On figa presents the image of the discharge plasma when using only the main discharge with optimal polarity, on figb - using both the main and auxiliary discharges of different polarity.
Устройство, реализующее способ получения коротковолнового излучения из плазмы вакуумного разряда содержит электроды - 1, 2, выполненные, например, в виде вращающихся дискообразных элементов. Периферийные части поверхности электродов - 1, 2 покрыты слоями - 3, 4 плазмообразующего вещества, преимущественно жидкого олова. Устройство также содержит импульсный источник питания вспомогательного разряда - 5, лазер - 6 с оптической системой транспортировки и фокусировки луча на поверхность электрода - 1 и импульсный источник питания основного разряда - 7. Импульсные источники питания - 5, 7 подсоединены к вращающимся электродам с помощью скользящих контактов, не показанных на чертеже. Для подачи и формирования на электродах слоев - 3, 4 плазмообразующего вещества устройство, реализующее способ получения коротковолнового излучения из плазмы вакуумного разряда, содержит инжекторы - 8, 9 и системы - 10, 11 регенерации поверхности электродов.A device that implements a method for producing short-wave radiation from a vacuum discharge plasma contains electrodes - 1, 2, made, for example, in the form of rotating disk-shaped elements. The peripheral parts of the surface of the electrodes - 1, 2 are covered with layers - 3, 4 of a plasma-forming substance, mainly liquid tin. The device also contains a pulsed power source for auxiliary discharge - 5, a laser - 6 with an optical system for transporting and focusing the beam on the electrode surface - 1 and a pulsed power source for the main discharge - 7. Switching power supplies - 5, 7 are connected to the rotating electrodes by means of sliding contacts not shown in the drawing. For supplying and forming plasma-forming substance layers - 3, 4 on the electrodes, a device that implements a method for producing short-wave radiation from a vacuum discharge plasma contains injectors - 8, 9 and systems - 10, 11 for regenerating the surface of the electrodes.
Способ получения коротковолнового излучения из плазмы вакуумного разряда реализуют следующим образом.A method of obtaining short-wave radiation from a vacuum discharge plasma is implemented as follows.
Производят равномерное вращение дискообразных электродов - 1, 2, покрытых слоями - 3, 4 плазмообразующего вещества. В качестве плазмообразующего вещества преимущественно используют жидкое олово. Включают вспомогательный импульсный источник питания - 5, в результате чего на электродах - 1, 2 и на вакуумном промежутке между электродами нарастает напряжение. Лучом импульсного лазера - 6, сфокусированным на слой - 3 плазмообразующего вещества на электроде - 1, испаряют и ионизируют малую порцию плазмообразующего вещества. Лазерно-индуцированная плазма в процессе разлета распространяется от электрода - 1 к электроду - 2. После замыкания лазерно-индуцированной плазмой разрядного промежутка между электродами - 1, 2 с помощью вспомогательного импульсного источника питания - 5 производят вспомогательный разряд с малым энерговкладом, недостаточным для эффективной генерации коротковолнового излучения. В процессе вспомогательного разряда формируют плазменный канал, в частности, локализуют место привязки разрядного канала к электроду, не облучаемому лазером. После воздействия лазерного луча с временной задержкой, необходимой для реализации вспомогательного разряда, включают импульсный источник питания - 7 и в разрядном плазменном канале, предварительно сформированном на стадии вспомогательного разряда, осуществляют основной импульсный сильноточный разряд между электродами - 1, 2. При этом основной разряд осуществляют током, направление которого противоположно направлению тока вспомогательного разряда. За счет выбора плазмообразующего вещества, в частности олова, линии излучения ионов которого находятся в нужной области коротковолнового диапазона спектра, из плазмы вакуумного разряда обеспечивается высокоэффективная генерация коротковолнового излучения. После поворота электродов - 1, 2 на угол, достаточный для ввода в зону разряда свежих участков слоев - 3, 4 плазмообразующего вещества, цикл работы повторяют. Расход плазмообразующего вещества и деформация его поверхности в процессе работы компенсируются с помощью инжекторов - 8, 9 плазмообразующего вещества и систем - 10, 11 регенерации поверхности электродов. Охлаждение элементов источника коротковолнового излучения в процессе работы производят циркулирующей в них жидкостью.The disc-shaped electrodes are uniformly rotated - 1, 2, coated with layers - 3, 4 of a plasma-forming substance. Liquid plasma tin is predominantly used as the plasma-forming substance. They include an auxiliary switching power supply - 5, as a result of which voltage increases on the electrodes - 1, 2 and on the vacuum gap between the electrodes. A pulsed laser beam - 6, focused on the layer - 3 of the plasma-forming substance on the electrode-1, evaporates and ionizes a small portion of the plasma-forming substance. The laser-induced plasma during the expansion process propagates from the electrode - 1 to the electrode - 2. After the laser-induced plasma closes the discharge gap between the electrodes - 1, 2 using an auxiliary switching power supply - 5, an auxiliary discharge is produced with a small energy input insufficient for efficient generation shortwave radiation. In the process of auxiliary discharge, a plasma channel is formed, in particular, the place where the discharge channel is attached to an electrode not irradiated by a laser is localized. After exposure to a laser beam with a time delay necessary for the implementation of the auxiliary discharge, turn on the pulse power source - 7 and in the discharge plasma channel previously formed at the stage of the auxiliary discharge, carry out the main pulsed high-current discharge between the electrodes - 1, 2. In this case, the main discharge is carried out current, the direction of which is opposite to the direction of the auxiliary discharge current. Due to the choice of a plasma-forming substance, in particular tin, whose ion emission lines are in the desired region of the short-wave range of the spectrum, highly efficient generation of short-wave radiation is provided from the vacuum discharge plasma. After turning the electrodes - 1, 2 at an angle sufficient to introduce into the discharge zone fresh sections of the layers - 3, 4 of the plasma-forming substance, the work cycle is repeated. The consumption of the plasma-forming substance and the deformation of its surface during operation are compensated by injectors - 8, 9 of the plasma-forming substance and systems - 10, 11 of the surface regeneration of the electrodes. The cooling of the elements of the source of short-wave radiation during operation is carried out by the liquid circulating in them.
При получении коротковолнового излучения из плазмы вакуумного разряда указанным способом предварительно с помощью вспомогательного разряда формируют разрядный канал, и за счет выбора полярности вспомогательного разряда осуществляют привязку формируемого разрядного канала к не облучаемому лазером электроду - 2. На стадии вспомогательного разряда не облучаемый лазером электрод - 2 обычно используют в качестве катода, в этом случае катодное пятно, к которому осуществляется привязка искрового канала, формируется в определенном месте электрода - 2. Как правило, привязка происходит в том месте электрода - 2, к которому в первую очередь приходит плазма, индуцированная лазером на электроде - 1. На стадии зажигания основного сильноточного разряда направление разрядного тока и полярность электродов меняют на противоположные, которые оптимальны для получения коротковолнового излучения из малой области разрядной плазмы вблизи электрода - 1. В отличие от прототипа, привязку разряда осуществляют не только с помощью лазерного луча на электроде - 1, но и с помощью вспомогательного разряда на не облучаемом электроде - 2.Upon receipt of short-wave radiation from a vacuum discharge plasma in the indicated manner, a discharge channel is formed using the auxiliary discharge first, and due to the choice of the auxiliary discharge polarity, the generated discharge channel is linked to an electrode not irradiated with a laser - 2. At the auxiliary discharge stage, a non-laser-irradiated electrode - 2 usually used as a cathode, in this case, the cathode spot, to which the spark channel is attached, is formed in a certain place ctrode - 2. As a rule, the binding takes place at that place of the electrode - 2, to which the plasma induced by the laser on the electrode - 1 comes first. At the stage of ignition of the main high-current discharge, the direction of the discharge current and the polarity of the electrodes are reversed, which are optimal for receiving short-wave radiation from a small region of the discharge plasma near the electrode - 1. In contrast to the prototype, the discharge is linked not only with the laser beam on the electrode - 1, but also with the help of an auxiliary discharge but not at the irradiated electrode - 2.
В результате применения вспомогательного разряда с полярностью, противоположной полярности основного разряда, наблюдается значительное повышение стабильности импульса тока основного разряда. Все это приводит к повышению энергетической и пространственной стабильности источника коротковолнового излучения от импульса к импульсу. Кроме того, в результате вспомогательного разряда электрическое сопротивление разрядного канала вблизи не облучаемого лазером электрода - 2 уменьшается. Соответственно доля энергии, выделяемая в области эффективно излучающей плазмы вблизи электрода - 1, возрастает по сравнению с прототипом. Вследствие этого уменьшается эффективный размер плазмы, излучающей в коротковолновом диапазоне спектра, а кпд источника излучения или коэффициент преобразования электрической энергии в энергию коротковолнового излучения возрастает.As a result of the use of an auxiliary discharge with a polarity opposite to that of the main discharge, a significant increase in the stability of the current pulse of the main discharge is observed. All this leads to an increase in the energy and spatial stability of the source of short-wave radiation from pulse to pulse. In addition, as a result of the auxiliary discharge, the electrical resistance of the discharge channel near the electrode 2 not irradiated by the laser decreases. Accordingly, the proportion of energy released in the region of effectively emitting plasma near the electrode - 1, increases compared with the prototype. As a result, the effective size of the plasma emitting in the short-wavelength range of the spectrum decreases, and the efficiency of the radiation source or the coefficient of conversion of electric energy into short-wave energy increases.
На фиг.2 представлены изображения разрядной плазмы, излучающей в спектральном диапазоне вблизи 13,5 нм, которые иллюстрируют положительный результат, достигаемый за счет предложенного способа. Как видно из фиг.2а, на которой размер кадра составляет 6 мм×6 мм, при использовании только основного разряда с оптимальной полярностью из сферической области разрядной плазмы с диаметром 1.5 мм излучается лишь около 50% всей энергии коротковолнового излучения, остальная часть энергии излучения приходится на область большого размера и не может быть использована. Фиг.2б в том же масштабе иллюстрирует результат применения вспомогательного разряда. В этом случае практически вся энергия коротковолнового излучения, а именно до 90% всей энергии, излучается из области разрядной плазмы малого размера, что значительно увеличивает эффективность использования источника излучения. Кроме того, возрастают пространственная и энергетическая стабильность источника коротковолнового излучения, и, в зависимости от условий, примерно на 20-50% возрастает эффективность преобразования вложенной в разряд электрической энергии в энергию коротковолнового излучения.Figure 2 presents the image of the discharge plasma emitting in the spectral range near 13.5 nm, which illustrate the positive result achieved by the proposed method. As can be seen from Fig. 2a, in which the frame size is 6 mm × 6 mm, when using only the main discharge with optimal polarity, only about 50% of the total short-wave radiation energy is emitted from the spherical region of the discharge plasma with a diameter of 1.5 mm, the rest of the radiation energy is to a large area and cannot be used. Fig.2b on the same scale illustrates the result of the use of auxiliary discharge. In this case, almost all the energy of short-wave radiation, namely, up to 90% of all energy, is emitted from the region of the small discharge plasma, which significantly increases the efficiency of using the radiation source. In addition, the spatial and energy stability of the source of short-wave radiation increases, and, depending on the conditions, the efficiency of converting the electrical energy invested in the discharge into short-wave radiation energy increases by about 20-50%.
Таким образом, предложенный способ позволяет повысить эффективность преобразования вложенной в разрядную плазму электрической энергии в энергию коротковолнового излучения, то есть повысить кпд источника излучения и увеличить среднюю мощность коротковолнового излучения в импульсно-периодическом режиме, уменьшить размер плазмы, излучающей в коротковолновом диапазоне спектра, и улучшить ее пространственную и энергетическую стабильность.Thus, the proposed method allows to increase the efficiency of conversion of electrical energy deposited in the discharge plasma into short-wave radiation energy, that is, to increase the efficiency of the radiation source and increase the average power of short-wave radiation in a pulse-periodic mode, reduce the size of the plasma emitting in the short-wave range of the spectrum, and improve its spatial and energy stability.
Использованные источники информацииInformation Sources Used
1. Патент WO 03085707; МКИ6 H01L 21/027, H05H 1/24; заявлено 04.04.2003.1. Patent WO 03085707; MKI6 H01L 21/027, H05H 1/24; claimed 04.04.2003.
2. Патент РФ №2252496, МКИ 7 H05G 2/00, заявлено 31.07.2002, опубликовано: RU БИМП №2, 20.01.2004, стр.431-432.2. RF patent No. 2252496, MKI 7 H05G 2/00, filed July 31, 2002, published: RU BIMP No. 2, January 20, 2004, pp. 431-432.
3. Jeroen Jonkers 2006 Plasma Sources Sci. Technol. 15 S8-S16,3. Jeroen Jonkers 2006 Plasma Sources Sci. Technol. 15 S8-S16,
http://www.iop.org/EJ/abstract/0963-0252/15/2/S02/.http://www.iop.org/EJ/abstract/0963-0252/15/2/S02/.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008111306/28A RU2365068C1 (en) | 2008-03-26 | 2008-03-26 | Method of reception of short-wave radiation from vacuum discharge plasma |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008111306/28A RU2365068C1 (en) | 2008-03-26 | 2008-03-26 | Method of reception of short-wave radiation from vacuum discharge plasma |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2365068C1 true RU2365068C1 (en) | 2009-08-20 |
Family
ID=41151433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2008111306/28A RU2365068C1 (en) | 2008-03-26 | 2008-03-26 | Method of reception of short-wave radiation from vacuum discharge plasma |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2365068C1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2523445C2 (en) * | 2012-07-19 | 2014-07-20 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) | Method of generating directed extreme ultraviolet (euv) radiation for high-resolution projection lithography and directed euv source for realising said method |
| RU2789275C1 (en) * | 2022-01-17 | 2023-02-01 | Акционерное Общество "Эуф Лабс" | Target material, high-brightness euv source and 13.5 nm radiation generation method |
-
2008
- 2008-03-26 RU RU2008111306/28A patent/RU2365068C1/en not_active IP Right Cessation
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Jeroen Jonkers 2006 Plasma Sources Sci. Technol. 15 S8-S16. * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2523445C2 (en) * | 2012-07-19 | 2014-07-20 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) | Method of generating directed extreme ultraviolet (euv) radiation for high-resolution projection lithography and directed euv source for realising said method |
| RU2789275C1 (en) * | 2022-01-17 | 2023-02-01 | Акционерное Общество "Эуф Лабс" | Target material, high-brightness euv source and 13.5 nm radiation generation method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5591824B2 (en) | System and method for generating fast ions | |
| US8536549B2 (en) | Light source employing laser-produced plasma | |
| TWI255394B (en) | Lithographic apparatus with debris suppression means and device manufacturing method | |
| JPH10319195A (en) | Plasma focus high-energy photon source | |
| US9711319B2 (en) | System for fast ions generation and a method thereof | |
| Harilal et al. | Spectral control of emissions from tin doped targets for extreme ultraviolet lithography | |
| Baldacchini et al. | High-contrast photoluminescent patterns in lithium fluoride crystals produced by soft x-rays from a laser-plasma source | |
| US20060098781A1 (en) | Method and apparatus for nanoscale surface analysis using soft X-rays | |
| CN105333953A (en) | Tunable broadband laser plasma pole ultraviolet light source | |
| US20070019789A1 (en) | Systems and methods for achieving a required spot says for nanoscale surface analysis using soft x-rays | |
| EP2170020B1 (en) | Extreme ultraviolet light source device and method for generating extreme ultraviolet radiation | |
| EP2203033B1 (en) | Extreme ultraviolet light source device | |
| RU2365068C1 (en) | Method of reception of short-wave radiation from vacuum discharge plasma | |
| US9897724B2 (en) | Optical device and method of in situ treating an EUV optical component to enhance a reduced reflectivity | |
| JP2007258097A (en) | Plasma processing apparatus | |
| JP2010205651A (en) | Plasma generation method, and extreme ultraviolet light source device using the same | |
| JPH06231735A (en) | Ashing device formed by using dielectric barrier discharge lamp | |
| RU2365069C1 (en) | Device for reception of powerful short-wave radiation from plasma discharge | |
| Annenkov et al. | Conversion of the'Iskra-5'iodine laser to second-harmonic operating mode | |
| JP3490770B2 (en) | Target device and X-ray laser device | |
| JP2544236B2 (en) | Multi-charged ion generation method | |
| RU2523445C2 (en) | Method of generating directed extreme ultraviolet (euv) radiation for high-resolution projection lithography and directed euv source for realising said method | |
| Ganeev et al. | Generation of higher harmonics in laser plasma formed on the surface of a silver target | |
| Janulewicz et al. | X-ray lasers pumped by low-energy laser drivers | |
| Kaku et al. | Vacuum ultraviolet Ar2* excimer excited by an ultrashort pulse high intensity laser |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20110327 |