RU224312U1 - Device for controlled formation and supply of a train of xenon targets into the chamber of a source of hard ultraviolet radiation - Google Patents
Device for controlled formation and supply of a train of xenon targets into the chamber of a source of hard ultraviolet radiation Download PDFInfo
- Publication number
- RU224312U1 RU224312U1 RU2023135530U RU2023135530U RU224312U1 RU 224312 U1 RU224312 U1 RU 224312U1 RU 2023135530 U RU2023135530 U RU 2023135530U RU 2023135530 U RU2023135530 U RU 2023135530U RU 224312 U1 RU224312 U1 RU 224312U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- chamber
- steel tube
- targets
- compartment
- formation
- Prior art date
Links
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims abstract description 28
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 23
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 19
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 19
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 7
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 4
- 239000008207 working material Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 2
- 238000005329 nanolithography Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
Abstract
Полезная модель относится к устройству для управляемого формирования и подачи эшелона ксеноновых мишеней в камеру источника жесткого ультрафиолетового излучения. Устройство состоит из резервуара, соединенного с изолированной откачиваемой камерой формирования посредством фланца, причем камера формирования состоит из двух отсеков, разделённых переборкой с отверстием, в проходном канале фланца размещена газонепроницаемая переборка с вакуумно-плотно установленной в ней стальной трубкой постоянного диаметра, при этом длина L части стальной трубки, выступающей в первый отсек, 7-10 мм, а ее внутренний диаметр 50-150 мкм, в первом отсеке расположен пьезоэлектрический элемент, предназначенный для возбуждения механических колебаний стальной трубки. Каждый из отсеков камеры оснащён средством газонапуска, независимым средством откачки с регулируемой скоростью и средством контроля давления. Стенка второго отсека содержит отверстие, предназначенное для перехода мишеней в камеру облучения, причем стальная трубка и оба отверстия размещены соосно. Технический результат состоит в отсутствии необходимости использования средства для замедления процесса загрязнения оптических элементов, и, как следствие, упрощении конструкции камеры облучения, а также увеличении производительности работы. 1 ил. The utility model relates to a device for the controlled formation and delivery of a train of xenon targets into the chamber of a source of hard ultraviolet radiation. The device consists of a reservoir connected to an isolated evacuated formation chamber by means of a flange, and the formation chamber consists of two compartments separated by a bulkhead with a hole; in the passage channel of the flange there is a gas-tight bulkhead with a steel tube of constant diameter vacuum-tightly installed in it, length L the part of the steel tube protruding into the first compartment is 7-10 mm, and its internal diameter is 50-150 μm; in the first compartment there is a piezoelectric element designed to excite mechanical vibrations of the steel tube. Each of the chamber compartments is equipped with a gas injection device, an independent pumping device with adjustable speed and a pressure control device. The wall of the second compartment contains a hole intended for the transition of targets into the irradiation chamber, and the steel tube and both holes are placed coaxially. The technical result consists in the absence of the need to use a means to slow down the process of contamination of optical elements, and, as a result, simplifying the design of the irradiation chamber, as well as increasing productivity. 1 ill.
Description
Область техники, к которой относится полезная модельField of technology to which the utility model relates
Полезная модель (ПМ) относится к области источников излучения для процесса нанолитографии на длине волны 11 нм, а именно к устройствам для формирования и подачи мишеней из материала, являющегося источником ультрафиолетового излучения с длиной волны 11 нм (далее EUVL от «extreme ultra violet light») при воздействии на него лазерным излучением.The utility model (PM) relates to the field of radiation sources for the nanolithography process at a wavelength of 11 nm, namely to devices for forming and delivering targets from a material that is a source of ultraviolet radiation with a wavelength of 11 nm (hereinafter EUVL from “extreme ultra violet light” ) when exposed to laser radiation.
Уровень техникиState of the art
Источник излучения необходим для осуществления процесса нанолитографии на длине волны 11 нм. Оборудование для осуществления указанного процесса представляет собой изолированную от атмосферы камеру облучения, в которой происходит взаимодействие мишеней из рабочего материала с излучением возбуждающего лазера, в результате чего рабочий материал становится источником ультрафиолетового излучения с длиной волны 11 нм. К камере присоединяется устройство для формирования и подачи мишеней из рабочего материала в область фокусировки возбуждающего лазера, где и происходит указанное взаимодействие. Также в камере расположена оптическая система для сбора сформированного излучения и вывода его в направлении литографируемых объектов. В настоящее время существуют промышленные образцы нанолитографов, где в качестве источника излучения используются капли олова. Использование ксенона позволяет решить проблему загрязнения оптической системы для сбора и вывода излучения оседающими парами рабочего материала. Разработки технологии, использующей ксенон в качестве мишени, в настоящее время активно ведутся многими исследователями, но известных промышленных образцов не существует.A radiation source is required to carry out the nanolithography process at a wavelength of 11 nm. The equipment for carrying out this process is an irradiation chamber isolated from the atmosphere, in which targets made of the working material interact with the radiation of the exciting laser, as a result of which the working material becomes a source of ultraviolet radiation with a wavelength of 11 nm. A device is attached to the camera for forming and delivering targets from the working material into the focusing area of the exciting laser, where the specified interaction occurs. Also in the chamber there is an optical system for collecting the generated radiation and outputting it in the direction of the lithographed objects. Currently, there are industrial samples of nanolithographs, where tin drops are used as a radiation source. The use of xenon allows us to solve the problem of contamination of the optical system for collecting and outputting radiation by settling vapors of the working material. The development of technology using xenon as a target is currently being actively developed by many researchers, but there are no known industrial samples.
Известен аналог «Слой из массива линейных нитей» (Linear filament array sheet for EUV production) (EP 1367445 B1). Заявлен источник EUVL, содержащий резервуар, в котором находится материал мишеней под давлением, резервуар имеет отверстия и через них выпускает материал мишеней в виде плоского массива близкорасположенных нитей в камеру, где происходит взаимодействие материала мишеней с излучением возбуждающего лазера для генерации EUVL. Недостатком является то, что с излучением возбуждающего лазера взаимодействует малая часть введенного в рабочую камеру материала мишеней. Большая часть создает помехи для процесса генерации и сбора EUVL и требует применения системы рециклинга большой пропускной способности для его удаления.A known analogue is “Linear filament array sheet for EUV production” (EP 1367445 B1). An EUVL source is claimed to contain a reservoir in which the target material is located under pressure; the reservoir has holes and through them releases the target material in the form of a flat array of closely spaced filaments into the chamber where the target material interacts with the radiation of the exciting laser to generate EUVL. The disadvantage is that a small part of the target material introduced into the working chamber interacts with the radiation of the exciting laser. Most interfere with the EUVL generation and collection process and require a high throughput recycling system to remove it.
Также известен аналог «Устройство подачи мишеней» (Target supply device) в составе «Источника жесткого ультрафиолета» (Extreme ultraviolet light source) (US Patent 7067832 B2). Недостатком является то, что ксенон указан лишь в качестве одного из множества возможных вариантов материала мишени, никаких предложений или расчетов касательно работы устройства, основанных на использовании физических характеристик ксенона, не приведено. Также недостатком можно считать сложность конструкции, включающую в себя модуль для придания мишеням электрического заряда и модуль ускорения заряженных мишеней в электрическом поле.An analogue of the “Target supply device” as part of the “Extreme ultraviolet light source” (US Patent 7067832 B2) is also known. The disadvantage is that xenon is indicated only as one of many possible options for the target material; no proposals or calculations regarding the operation of the device based on the use of the physical characteristics of xenon are given. Another disadvantage is the complexity of the design, which includes a module for imparting an electric charge to targets and a module for accelerating charged targets in an electric field.
Известен «Способ и средство для получения твердых вакуумированных микросфер водорода» Патент США 3,985,841. Устройство применяется для ввода топлива из изотопов водорода в установки для инерциального термоядерного синтеза.Known “Method and means for producing solid evacuated hydrogen microspheres” US Patent 3,985,841. The device is used to introduce fuel from hydrogen isotopes into inertial thermonuclear fusion installations.
Устройство позволяет получать эшелон следующих одна за другой мишеней приблизительно шарообразной формы диаметром от 50 мкм до 200 мкм. Материал мишеней - водород в твердом агрегатном состоянии. Эшелон способен двигаться по инерции в изолированной камере при давлении остаточного газа близком к давлению тройной точки водорода.The device makes it possible to obtain a train of targets of approximately spherical shape, one after the other, with a diameter from 50 μm to 200 μm. The target material is hydrogen in a solid state. The echelon is capable of moving by inertia in an isolated chamber at a residual gas pressure close to the pressure of the triple point of hydrogen.
Микросферы изготавливаются путем формирования струи жидкого водорода и возбуждения в струе механических волн соответствующей частоты таким образом, что струя распадается на капли с пузырьком, образующимся в каждой капле в результате кавитации.Microspheres are made by forming a jet of liquid hydrogen and exciting mechanical waves of the appropriate frequency in the jet so that the jet breaks up into droplets with a bubble formed in each droplet as a result of cavitation.
Капли находятся в среде, где давление меньше, чем давление насыщенных паров жидкого водорода, так что пузырек, который образуется внутри каждой капли, расширяется.The drops are in an environment where the pressure is less than the saturated vapor pressure of liquid hydrogen, so that the bubble that forms inside each drop expands.
Капли, содержащие пузырьки, перемещаются в среду, где давление чуть меньше давления тройной точки жидкого водорода, и, таким образом, они замерзают, образуя твердые, вакуумированные сферы водорода.The bubble-containing droplets move into an environment where the pressure is slightly less than the triple point pressure of liquid hydrogen, and thus they freeze to form solid, evacuated spheres of hydrogen.
Недостатком аналога является то, что давление тройной точки водорода, вблизи которого формируются твердотельные мишени, сопоставимо с давлением в рабочей камере, где они используются. Так что нет необходимости согласовывать эти давления по величине.The disadvantage of this analogue is that the pressure of the triple point of hydrogen, near which solid targets are formed, is comparable to the pressure in the working chamber where they are used. So there is no need to match these pressures in magnitude.
В качестве прототипа выбран патент JP2006210157 «Источник жесткого ультрафиолетового излучения на основе лазерного метода генерации плазмы».The patent JP2006210157 “Source of hard ultraviolet radiation based on the laser method of plasma generation” was chosen as a prototype.
Устройство представляет собой источник жесткого ультрафиолетового излучения, в котором излучение испускается плазмой, образовавшейся в результате облучения лазерным лучом капель или струи жидкого SnH4. Источник содержит: резервуар для сжижения SnH4 путем охлаждения и поддержания при повышенном давлении; канал для выпуска SnH4, находящегося в резервуаре под давлением в жидком состоянии, в виде капель или струи жидкости; блока генерации плазмы для превращения SnH4 из жидких капель или струй в плазму в определенной точке пространства лазерным лучом; и лазерное устройство для испускания лазерного луча. Блок генерации плазмы включает в себя камеру формирования капель и камеру облучения лазерным лучом, которые разделены перегородкой, имеющей отверстие малого диаметра.The device is a source of hard ultraviolet radiation, in which the radiation is emitted by plasma formed as a result of irradiation of drops or a jet of liquid SnH 4 with a laser beam. The source contains: a reservoir for liquefying SnH 4 by cooling and maintaining at elevated pressure; a channel for the release of SnH 4 located in the reservoir under pressure in a liquid state, in the form of drops or a stream of liquid; a plasma generation unit for converting SnH 4 from liquid drops or jets into plasma at a certain point in space with a laser beam; and a laser device for emitting a laser beam. The plasma generation unit includes a droplet formation chamber and a laser beam irradiation chamber, which are separated by a partition having a small diameter hole.
К недостаткам данного устройства относится использование металлосодержащего материала капель, что приводит к осаждению в процессе работы устройства паров олова в виде металлической пленки на оптических элементах в камере облучения, что приводит к необходимости применять специальное оборудование для замедления процесса осаждения и проводить регулярное техническое обслуживание оборудования.The disadvantages of this device include the use of metal-containing droplet material, which leads to the deposition of tin vapor in the form of a metal film on the optical elements in the irradiation chamber during operation of the device, which leads to the need to use special equipment to slow down the deposition process and carry out regular maintenance of the equipment.
Раскрытие сущности ПМDisclosure of the essence of PM
Таким образом, технической проблемой, на решение которой направлена заявляемая полезная модель, является расширение арсенала средств для формирования и подачи эшелона мишеней в камеру источника жесткого ультрафиолетового излучения с длиной волны 11 нм, при этом необходимо устранить проблему устройства, реализующего технологию подачи жидкого SnH4 в область фокусировки возбуждающего лазера, и присущий этой технологии недостаток, заключающийся в загрязнении оптических элементов в камере облучения.Thus, the technical problem to be solved by the claimed utility model is to expand the arsenal of means for forming and supplying a train of targets into the chamber of a source of hard ultraviolet radiation with a wavelength of 11 nm, while it is necessary to eliminate the problem of a device that implements the technology of supplying liquid SnH 4 to the focusing area of the excitation laser, and the inherent disadvantage of this technology is contamination of the optical elements in the irradiation chamber.
Сущность заявляемой полезной модели заключается в том, что устройство для управляемого формирования и подачи эшелона ксеноновых мишеней в камеру источника жесткого ультрафиолетового излучения состоит из резервуара, соединенного с изолированной откачиваемой камерой формирования посредством фланца, причем камера формирования состоит из двух отсеков, разделенных переборкой с отверстием, в проходном канале фланца размещена газонепроницаемая переборка с вакуумно-плотно установленной в ней стальной трубкой постоянного диаметра, при этом длина L части стальной трубки, выступающей в первый отсек, 7-10 мм, а ее внутренний диаметр 50-150 мкм, в первом отсеке расположен пьезоэлектрический элемент, предназначенный для возбуждения механических колебаний стальной трубки, каждый из отсеков камеры формирования оснащен средством газонапуска, независимым средством откачки с регулируемой скоростью и средством контроля давления, стенка второго отсека содержит отверстие, предназначенное для перехода мишеней в камеру облучения, причем стальная трубка и оба отверстия размещены соосно.The essence of the claimed utility model is that the device for the controlled formation and supply of a train of xenon targets into the chamber of the source of hard ultraviolet radiation consists of a reservoir connected to an isolated evacuated formation chamber by means of a flange, and the formation chamber consists of two compartments separated by a bulkhead with a hole, in the passage channel of the flange there is a gas-tight bulkhead with a steel tube of constant diameter installed in it vacuum-tightly, while the length L of the part of the steel tube protruding into the first compartment is 7-10 mm, and its internal diameter is 50-150 microns, located in the first compartment a piezoelectric element designed to excite mechanical vibrations of a steel tube, each of the compartments of the formation chamber is equipped with a gas inlet means, an independent pumping means with adjustable speed and a pressure control device, the wall of the second compartment contains a hole designed for the transition of targets into the irradiation chamber, and the steel tube and both the holes are placed coaxially.
Технический результат заключается в том, что за счет решения задачи заявляемым устройством управляемого формирования и подачи эшелона ксеноновых мишеней в камеру источника жесткого ультрафиолетового излучения, достигается упрощение конструкции камеры облучения, так как отсутствует необходимость размещения в ней средства для замедления процесса загрязнения оптических элементов, а также увеличение производительности за счет отсутствия необходимости в проведении технического обслуживания для очистки оптических элементов.The technical result is that by solving the problem of the claimed device for the controlled formation and supply of a train of xenon targets into the chamber of the source of hard ultraviolet radiation, a simplification of the design of the irradiation chamber is achieved, since there is no need to place a means in it to slow down the process of contamination of optical elements, and also increased productivity due to the absence of the need for maintenance to clean optical elements.
Краткое описание чертежейBrief description of drawings
На прилагаемом к описанию чертеже показано схематическое изображение заявляемого устройства.The drawing attached to the description shows a schematic representation of the proposed device.
Осуществление ПМImplementation of PM
Заявляемое Устройство для управляемого формирования и подачи эшелона ксеноновых мишеней в камеру источника жесткого ультрафиолетового излучения позволяет получать направленный непрерывный одночастичный поток мишеней из ксенона, приблизительно шарообразной формы, диаметром около 200 мкм из материала в твердом агрегатном состоянии. Подача материала осуществляется по стальной трубке постоянного диаметра, формирование мишеней происходит при давлении около давления тройной точки ксенона в камере формирования, которая вакуумно отделена с помощью средства дифференциальной откачки от камеры источника жесткого ультрафиолетового излучения, давление в которой существенно ниже давления тройной точки ксенона и обычно составляет 0,1-1 Па.The inventive Device for the controlled formation and supply of a train of xenon targets into the chamber of a source of hard ultraviolet radiation makes it possible to obtain a directed continuous single-particle flow of xenon targets, approximately spherical in shape, with a diameter of about 200 microns from a material in a solid state of aggregation. The material is supplied through a steel tube of constant diameter, the formation of targets occurs at a pressure near the xenon triple point pressure in the formation chamber, which is vacuum separated by means of differential pumping from the hard ultraviolet radiation source chamber, the pressure in which is significantly lower than the xenon triple point pressure and is usually 0.1-1 Pa.
Заявляемое устройство состоит из резервуара 1, соединенного с изолированной откачиваемой камерой, в которой происходит формирование ксеноновых мишеней (камерой формирования) посредством фланца 2. Резервуар 1 предназначен для содержания жидкого ксенона. В проходном канале фланца 2 установлена газонепроницаемая переборка 3 с отверстием малого диаметра. В данное отверстие вакуумно плотно вставлена стальная трубка 4 постоянного диаметра с длиной выступающей в камеру формирования части L 7-10 мм, с внутренним диаметром 50-150 мкм. Давление жидкого ксенона в резервуаре избыточно относительно давления в камере для формирования мишеней. В устройстве предусмотрена возможность возбуждения механических колебаний стальной трубки 4 с помощью пьезоэлектрического элемента 5. Камера формирования состоит из двух отсеков: первого - 6 и второго - 7, разделенных переборкой 8 с отверстием 9. Каждый из отсеков камеры формирования оснащен средством газонапуска 10, независимым средством откачки 11 с регулируемой скоростью и средством контроля давления 12, так что давление в каждом из отсеков может устанавливаться независимо.The inventive device consists of a reservoir 1 connected to an insulated evacuated chamber in which the formation of xenon targets (formation chamber) occurs via a flange 2. The reservoir 1 is designed to contain liquid xenon. A gas-tight bulkhead 3 with a small-diameter hole is installed in the passage channel of the flange 2. A steel tube 4 of constant diameter with a length L of 7-10 mm protruding into the formation chamber, with an internal diameter of 50-150 microns, is vacuum-tightly inserted into this hole. The pressure of liquid xenon in the reservoir is excessive relative to the pressure in the chamber for forming the targets. The device provides the ability to excite mechanical vibrations of a steel tube 4 using a piezoelectric element 5. The formation chamber consists of two compartments: the first - 6 and the second - 7, separated by a bulkhead 8 with a hole 9. Each of the compartments of the formation chamber is equipped with a gas inlet 10, an independent means pumping 11 with adjustable speed and pressure control 12, so that the pressure in each of the compartments can be set independently.
Устройство работает следующим образом. Струя жидкого ксенона 13, истекающая из стальной трубки 4 в первый отсек 6 изолированной камеры для формирования мишеней, в результате развития неустойчивости Плато-Рэлея распадается на капли. Возбуждение механических колебаний различной частоты и амплитуды в стальной трубке с помощью пьезоэлектрического элемента 5 позволяет управлять временем развития неустойчивости Плато-Рэлея, размером мишеней и расстоянием между последовательными мишенями в потоке. Давление в первом отсеке камеры формирования поддерживается выше давления тройной точки ксенона (8,2⋅104 Па), так что время развития неустойчивости Плато-Рэлея не превышает времени охлаждения струи до температуры замерзания за счет испарения. Сформировавшиеся капли покидают первый отсек камеры формирования через отверстие 9. Переборка 8, в которой находится это отверстие, отделяет первый отсек камеры формирования от второго отсека 7 камеры формирования, где давление поддерживается на уровне существенно ниже (например, менее 8⋅103 Па) давления тройной точки ксенона, вследствие чего происходит охлаждение капель в результате испарения материала с их поверхности и их переход в твердое агрегатное состояние. Таким образом формируется поток твердых мишеней. Сформировавшиеся твердые мишени покидают камеру формирования через отверстие 14 в стенке 15 и попадают в камеру облучения 16, где происходит взаимодействие сформировавшихся мишеней с лазерным излучением 17. Стальная трубка 4, отверстия 9 и 14 расположены соосно. Камера облучения 16 оснащена фланцем 18 для присоединения к стенке 15 камеры формирования.The device works as follows. The jet of liquid xenon 13 flowing from the steel tube 4 into the first compartment 6 of the isolated chamber for forming targets, as a result of the development of the Plateau-Rayleigh instability, breaks up into drops. Excitation of mechanical vibrations of various frequencies and amplitudes in a steel tube using a piezoelectric element 5 makes it possible to control the development time of the Plateau-Rayleigh instability, the size of the targets and the distance between successive targets in the flow. The pressure in the first compartment of the formation chamber is maintained above the triple point pressure of xenon (8.2⋅10 4 Pa), so that the development time of the Plateau-Rayleigh instability does not exceed the time of cooling of the jet to the freezing temperature due to evaporation. The formed drops leave the first compartment of the formation chamber through hole 9. The bulkhead 8, in which this hole is located, separates the first compartment of the formation chamber from the second compartment 7 of the formation chamber, where the pressure is maintained at a level significantly lower (for example, less than 8⋅10 3 Pa) pressure xenon triple point, as a result of which the droplets are cooled as a result of the evaporation of material from their surface and their transition to a solid state of aggregation. In this way, a stream of solid targets is formed. The formed solid targets leave the formation chamber through hole 14 in the wall 15 and enter the irradiation chamber 16, where the formed targets interact with laser radiation 17. The steel tube 4, holes 9 and 14 are located coaxially. The irradiation chamber 16 is equipped with a flange 18 for connection to the wall 15 of the formation chamber.
Claims (1)
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU224312U1 true RU224312U1 (en) | 2024-03-21 |
Family
ID=
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3985841A (en) * | 1975-11-06 | 1976-10-12 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Method and means for producing solid evacuated microspheres of hydrogen |
| SU1144549A1 (en) * | 1983-10-10 | 1992-09-23 | Предприятие П/Я В-8315 | High charged ion laser source |
| US5991360A (en) * | 1997-02-07 | 1999-11-23 | Hitachi, Ltd. | Laser plasma x-ray source, semiconductor lithography apparatus using the same and a method thereof |
| JP2000002800A (en) * | 1998-06-18 | 2000-01-07 | Toyota Motor Corp | X-ray generator |
| US6377651B1 (en) * | 1999-10-11 | 2002-04-23 | University Of Central Florida | Laser plasma source for extreme ultraviolet lithography using a water droplet target |
| US7067832B2 (en) * | 2002-04-05 | 2006-06-27 | Gigaphoton, Inc. | Extreme ultraviolet light source |
| JP2006210157A (en) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Ushio Inc | Laser generated plasma method extreme ultraviolet light source |
| EP1367445B1 (en) * | 2002-05-31 | 2010-12-29 | University of Central Florida Foundation, Inc. | Linear filament array sheet for EUV production |
| RU2459393C1 (en) * | 2010-12-27 | 2012-08-20 | Учреждение Российской Академии Наук Институт Сильноточной Электроники Сибирского Отделения Ран (Исэ Со Ран) | Method and apparatus for generating soft x-ray radiation from liner-type gas discharge plasma |
| RU2633726C1 (en) * | 2016-05-18 | 2017-10-17 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН) | DEVICE FOR RECEIVING DIRECTIONAL EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION WITH WAVELENGTH OF 11,2 nm ±1% FOR HIGH-RESOLUTION PROJECTIVE LITHOGRAPHY |
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3985841A (en) * | 1975-11-06 | 1976-10-12 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Method and means for producing solid evacuated microspheres of hydrogen |
| SU1144549A1 (en) * | 1983-10-10 | 1992-09-23 | Предприятие П/Я В-8315 | High charged ion laser source |
| US5991360A (en) * | 1997-02-07 | 1999-11-23 | Hitachi, Ltd. | Laser plasma x-ray source, semiconductor lithography apparatus using the same and a method thereof |
| JP2000002800A (en) * | 1998-06-18 | 2000-01-07 | Toyota Motor Corp | X-ray generator |
| US6377651B1 (en) * | 1999-10-11 | 2002-04-23 | University Of Central Florida | Laser plasma source for extreme ultraviolet lithography using a water droplet target |
| US7067832B2 (en) * | 2002-04-05 | 2006-06-27 | Gigaphoton, Inc. | Extreme ultraviolet light source |
| EP1367445B1 (en) * | 2002-05-31 | 2010-12-29 | University of Central Florida Foundation, Inc. | Linear filament array sheet for EUV production |
| JP2006210157A (en) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Ushio Inc | Laser generated plasma method extreme ultraviolet light source |
| RU2459393C1 (en) * | 2010-12-27 | 2012-08-20 | Учреждение Российской Академии Наук Институт Сильноточной Электроники Сибирского Отделения Ран (Исэ Со Ран) | Method and apparatus for generating soft x-ray radiation from liner-type gas discharge plasma |
| RU2633726C1 (en) * | 2016-05-18 | 2017-10-17 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН) | DEVICE FOR RECEIVING DIRECTIONAL EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION WITH WAVELENGTH OF 11,2 nm ±1% FOR HIGH-RESOLUTION PROJECTIVE LITHOGRAPHY |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6738452B2 (en) | Gasdynamically-controlled droplets as the target in a laser-plasma extreme ultraviolet light source | |
| US6647088B1 (en) | Production of a dense mist of micrometric droplets in particular for extreme UV lithography | |
| US8272576B2 (en) | Gas dynamic virtual nozzle for generation of microscopic droplet streams | |
| US7368742B2 (en) | Arrangement and method for metering target material for the generation of short-wavelength electromagnetic radiation | |
| US7306316B2 (en) | Nanoscale ink-jet printing | |
| EP2951643B1 (en) | Euv light source using cryogenic droplet targets in mask inspection | |
| US7692165B2 (en) | Charged particle beam device with a gas field ion source and a gas supply system | |
| US7067832B2 (en) | Extreme ultraviolet light source | |
| US20100258748A1 (en) | System, method and apparatus for droplet catcher for prevention of backsplash in a euv generation chamber | |
| US20090065714A1 (en) | Eletrofluid collisional accelerator and fusion reactor | |
| KR20030090745A (en) | Method and device for generating extreme ultraviolet radiation in particular for lithography | |
| EP1182912A1 (en) | Liquid sprays as the target for a laser-plasma extreme ultraviolet light source | |
| EP1615482B1 (en) | Laser plasma producing method and device | |
| Ripin et al. | Laboratory laser-produced astrophysical-like plasmas | |
| JP3759066B2 (en) | Laser plasma generation method and apparatus | |
| RU224312U1 (en) | Device for controlled formation and supply of a train of xenon targets into the chamber of a source of hard ultraviolet radiation | |
| JP4628122B2 (en) | Nozzle for extreme ultraviolet light source device | |
| CN112286011B (en) | EUV light source target drop generating device and method | |
| EP1367445B1 (en) | Linear filament array sheet for EUV production | |
| JP5717165B2 (en) | Electron accelerator | |
| Gouge et al. | A cryogenic xenon droplet generator for use in a compact laser plasma x-ray source | |
| US20100140510A1 (en) | Method and device for cooling a gas | |
| US6864497B2 (en) | Droplet and filament target stabilizer for EUV source nozzles | |
| DePonte et al. | Sample injection for pulsed x-ray sources | |
| TW202209933A (en) | Apparatus for and method of accelerating droplets in a droplet generator for an euv source |