RU2187799C2 - Procedure determining impurities in uranium hexafluoride and device for its implementation - Google Patents
Procedure determining impurities in uranium hexafluoride and device for its implementation Download PDFInfo
- Publication number
- RU2187799C2 RU2187799C2 RU2000124840/12A RU2000124840A RU2187799C2 RU 2187799 C2 RU2187799 C2 RU 2187799C2 RU 2000124840/12 A RU2000124840/12 A RU 2000124840/12A RU 2000124840 A RU2000124840 A RU 2000124840A RU 2187799 C2 RU2187799 C2 RU 2187799C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- impurities
- uranium hexafluoride
- mass spectrometer
- pipe
- ionization chamber
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к области анализа материалов, а именно к способам определения содержания в газообразном гексафториде урана следующих примесей:
- бора, присутствующего в форме трифторида (BF3);
- кремния, присутствующего в форме тетрафторида (SiF4);
- фосфора, присутствующего в форме пентафторида (PF5) и фторокиси (РОF3);
- хрома, присутствующего в форме фтористого хромила (CrO2F2);
- молибдена, присутствующего в форме гексафторида (MoF6);
- вольфрама, присутствующего в форме гексафторида (WF6).The invention relates to the field of analysis of materials, and in particular to methods for determining the content of the following impurities in gaseous uranium hexafluoride:
- boron present in the form of trifluoride (BF 3 );
- silicon present in the form of tetrafluoride (SiF 4 );
- phosphorus present in the form of pentafluoride (PF 5 ) and fluoride (POF 3 );
- chromium present in the form of chromium fluoride (CrO 2 F 2 );
- molybdenum present in the form of hexafluoride (MoF 6 );
- tungsten present in the form of hexafluoride (WF 6 ).
- фтористого водорода (HF);
- азота (N2);
- фтора (F2);
- кислорода (О2);
- двуокиси углерода (СО2);
- углеводородов, хлоруглеводородов и частично замещенных галоидоуглеродов, имеющих молекулярную массу до 300 а.е.м.- hydrogen fluoride (HF);
- nitrogen (N 2 );
- fluorine (F 2 );
- oxygen (O 2 );
- carbon dioxide (CO 2 );
- hydrocarbons, chlorohydrocarbons and partially substituted halocarbons having a molecular weight of up to 300 amu
Известны способы определения примесей методом масс-спектрометрии с индуктивно-связанной плазмой [1,2] и прямым (классическим) масс-спектрометрическим методом [3,4,5]. Known methods for determining impurities by mass spectrometry with inductively coupled plasma [1,2] and direct (classical) mass spectrometric method [3,4,5].
При определении содержания микропримесей в гексафториде урана масс-спектрометрическим методом с индуктивно-связанной плазмой (ИСП МС) сначала проводится гидролиз UF6, затем полученный раствор разбавляется дистилированной водой до содержания урана в растворе не более 1 мг/л, и после из раствора с помощью сверхзвукового распылителя получают аэрозоль с размером частиц около 1 мкм. Часть распыленной пробы вводится в плазменную горелку в потоке аргона в область плазменного факела. Плазма образуется в результате воздействия высокочастотного электрического поля, создаваемого генератором. В плазме происходит полная фрагментация молекул на атомы, которые частично ионизируются. Образовавшиеся ионы проходят несколько ступеней газодинамического интерфейса и поступают в область анализатора масс. В качестве масс-анализаторов для работы с источниками ионов на основе ИСП применяют в основном анализаторы квадрупольного типа. Измеряя выходные сигналы урана и присутствующих в растворе примесных элементов, определяют массовую долю элементов. Аналитические характеристики выпускаемых промышленных приборов обеспечивают возможность определения содержания большинства элементов с пределом обнаружения до 1•10-5% г/г урана.When determining the content of trace elements in uranium hexafluoride by an inductively coupled plasma mass spectrometric method (ICP MS), UF 6 is first hydrolyzed, then the resulting solution is diluted with distilled water to a uranium content in the solution of not more than 1 mg / l, and then from the solution using A supersonic atomizer produces an aerosol with a particle size of about 1 μm. A portion of the atomized sample is introduced into the plasma torch in an argon stream into the region of the plasma torch. Plasma is formed as a result of exposure to a high-frequency electric field created by a generator. In plasma, there is a complete fragmentation of molecules into atoms, which are partially ionized. The formed ions pass through several stages of the gas-dynamic interface and enter the region of the mass analyzer. As mass analyzers for working with ICP-based ion sources, mainly quadrupole type analyzers are used. By measuring the output signals of uranium and impurity elements present in the solution, the mass fraction of the elements is determined. The analytical characteristics of manufactured industrial devices provide the ability to determine the content of most elements with a detection limit of up to 1 • 10 -5 % g / g of uranium.
Главными недостатками известного метода являются необходимая пробоподготовка, трудности при определения бора, кремния, фосфора, углерода и воздушных компонентов, вызванные наложениями пиков изобар друг на друга, а также присутствием в использующемся аргоне азота и кислорода. The main disadvantages of this method are the necessary sample preparation, difficulties in determining boron, silicon, phosphorus, carbon and air components caused by overlapping isobar peaks on each other, as well as the presence of nitrogen and oxygen in the argon used.
При определении содержания примесей в гексафториде урана прямым масс-спектрометрическим методом газ непосредственно через игольчатый дозатор вводится в ионизационную камеру источника ионов газового масс-спектрометра. В ионизационной камере под действием электронного удара происходит фрагментация и ионизация молекул. Расчет молярной доли вышеперечисленных примесей в UF6 производится по величине выходных сигналов массовых линий, приведенных в табл. 1, по формуле:
где Ji - истинная (с учетом фона) интенсивность i-ой примеси;
Кi - коэффициент относительной чувствительности для i-ой примеси (см. табл. 1);
Juf5 + - сумма средних значений интенсивностей пиков 238UF5 + и 235UF5 +.When determining the content of impurities in uranium hexafluoride by direct mass spectrometric method, the gas is directly introduced through the needle dispenser into the ionization chamber of the ion source of the gas mass spectrometer. Molecular fragmentation and ionization occur in an ionization chamber under the influence of an electron impact. Calculation of the molar fraction of the above impurities in UF 6 is made according to the value of the output signals of the mass lines given in table. 1, by the formula:
where J i is the true (taking into account the background) intensity of the i-th impurity;
To i is the coefficient of relative sensitivity for the i-th impurity (see table. 1);
J uf5 + is the sum of the average intensities of the peaks 238 UF 5 + and 235 UF 5 + .
Недостатком известного способа измерений является низкий предел обнаружения примесей, который, выраженный в молярных долях, составляет 0,01%, и обусловлен максимально допустимым давлением анализируемой газовой смеси в ионизационной камере масс-спектрометра порядка 1•10-4 мм рт.ст.The disadvantage of this measurement method is the low detection limit of impurities, which, expressed in molar fractions, is 0.01%, and is due to the maximum allowable pressure of the analyzed gas mixture in the ionization chamber of the mass spectrometer of the order of 1 • 10 -4 mm Hg
За прототип предлагаемого способа взят прямой масс-спектрометрический метод. For the prototype of the proposed method taken direct mass spectrometric method.
При определении содержания примесных соединений в гексафториде урана прямым масс-спектрометрическим методом выполняют следующие действия:
- напускают анализируемую газовую пробу UF6 в вакуумную систему масс-спектрометра до дозирующего клапана;
- открывают дозирующий клапан и напускают газ в ионизационную камеру масс-спектрометра;
- записывают масс-спектр пробы;
- по величине выходных сигналов масс-спектра, соответствующих давлениям гексафторида урана и примесных соединений в системе напуска, производят расчет молярной доли примесных соединений по формуле 1.When determining the content of impurity compounds in uranium hexafluoride by a direct mass spectrometric method, the following actions are performed:
- let the analyzed gas sample UF 6 into the vacuum system of the mass spectrometer to the metering valve;
- open the metering valve and let gas into the ionization chamber of the mass spectrometer;
- record the mass spectrum of the sample;
- the magnitude of the output signals of the mass spectrum corresponding to the pressure of uranium hexafluoride and impurity compounds in the inlet system, calculate the molar fraction of impurity compounds according to the formula 1.
Задачей, на решение которой направлено заявляемое изобретение, является повышение точности и чувствительности масс-спектрометрического метода измерений. The task to which the invention is directed is to increase the accuracy and sensitivity of the mass spectrometric measurement method.
Поставленная задача решается за счет того, что в известном способе определения примесей прямым масс-спектрометрическим методом, заключающемся в прямом напуске анализируемой газовой смеси через игольчатый дозатор в источник ионов масс-спектрометра, предварительно проводят криогенное концентрирование примесей в области высокого вакуума масс-спектрометра за дозирующим клапаном. Концентрирование проводится путем частичной конденсации гексафторида урана. При этом примеси, имеющие более высокие значения давлений насыщенных паров и меньшее, в сравнении с гексафторидом урана, давление в потоке, свободно проходят в ионизационную камеру масс-спектрометра. Степень концентрирования примесей зависит от потока гексафторида урана через дозирующий клапан и составляет в среднем 1000÷1500 раз. Давление ГФУ в ионизационной камере источника ионов не зависит от расхода ГФУ через игольчатый дозатор и определяется значением температуры части напускной системы (концентратора), в которой происходит конденсация ГФУ. The problem is solved due to the fact that in the known method of determining impurities by direct mass spectrometric method, which consists in direct inlet of the analyzed gas mixture through a needle dispenser into the ion source of the mass spectrometer, cryogenic concentration of impurities in the high vacuum region of the mass spectrometer is preliminarily performed after the dosing valve. Concentration is carried out by partial condensation of uranium hexafluoride. In this case, impurities having higher values of saturated vapor pressures and lower pressure in the stream, in comparison with uranium hexafluoride, freely pass into the ionization chamber of the mass spectrometer. The degree of concentration of impurities depends on the flow of uranium hexafluoride through the metering valve and averages 1000 ÷ 1500 times. The pressure of HFCs in the ionization chamber of the ion source does not depend on the flow rate of HFCs through the needle dispenser and is determined by the temperature value of the part of the inlet system (concentrator) in which HFC condensation occurs.
Определение молярной доли примесей проводят относительным методом с использованием калибровочных смесей (КС) с известным содержанием примесей. При этом осуществляют последовательный напуск через концентратор КС и пробы. Determination of the molar fraction of impurities is carried out by the relative method using calibration mixtures (CS) with a known content of impurities. In this case, a sequential inlet is carried out through the concentrator KS and samples.
Молярную долю примесей (Сi n) в пробе гексафторида урана в процентах определяют по формуле:
где Сi кс - молярная доля i-й примеси в КС, %;
Ii n - величина выходного сигнала измерительной системы масс-спектрометра, пропорциональная доле i-й примеси в пробе, В;
Ii кс - величина выходного сигнала i-й примеси в КС, В;
Pn; Ркс - давления пробы и КС перед дозирующим клапаном, мм рт.ст.The molar fraction of impurities (C i n ) in the sample of uranium hexafluoride in percent is determined by the formula:
where C i ks is the molar fraction of the i-th impurity in KS,%;
I i n is the value of the output signal of the measuring system of the mass spectrometer, proportional to the proportion of the i-th impurity in the sample, V;
I i ks is the value of the output signal of the i-th impurity in KS, V;
P n ; F kc - sample pressure and the COP before the metering valve mmHg
Для тех примесей, которые не содержатся в КС, расчет молярной доли проводят по формуле с использованием коэффициентов относительной чувствительности (табл. 1):
где Кi, Кj - коэффициент относительной чувствительности для i-й и j-й примесей.For those impurities that are not contained in the COP, the calculation of the molar fraction is carried out according to the formula using the coefficients of relative sensitivity (table. 1):
where K i , K j - relative sensitivity coefficient for the i-th and j-th impurities.
При определении содержания примесных соединений в гексафториде урана масс-спектрометрическим методом с криогенным концентрированием примесей выполняют следующие действия:
- напускают анализируемую газовую пробу UF6 в вакуумную систему масс-спектрометра до дозирующего клапана;
- открывают дозирующий клапан и напускают газ через концентратор в ионизационную камеру масс-спектрометра;
- записывают масс-спектр пробы и регистрируют давление ГФУ перед дозирующим клапаном;
- прокачивают вакуумную систему масс-спектрометра;
- напускают калибровочную смесь в вакуумную систему масс-спектрометра до дозирующего клапана;
- записывают масс-спектр КС и регистрируют давление КС перед дозирующим клапаном;
- по величине выходных сигналов масс-спектра, соответствующих содержанию примесных соединений в пробе и калибровочной смеси, производят расчет молярной доли примесных соединений по формуле 2 или 3.When determining the content of impurity compounds in uranium hexafluoride by a mass spectrometric method with cryogenic concentration of impurities, the following actions are performed:
- let the analyzed gas sample UF 6 into the vacuum system of the mass spectrometer to the metering valve;
- open the metering valve and let gas through the hub into the ionization chamber of the mass spectrometer;
- record the mass spectrum of the sample and record the pressure of the HFCs in front of the metering valve;
- pump the vacuum system of the mass spectrometer;
- let the calibration mixture into the vacuum system of the mass spectrometer to the metering valve;
- record the mass spectrum of the COP and record the pressure of the COP in front of the metering valve;
- the magnitude of the output signals of the mass spectrum corresponding to the content of impurity compounds in the sample and the calibration mixture, calculate the molar fraction of impurity compounds according to the
Предложенный выше способ реализуется в устройстве концентрирования примесей, изображенном на фиг. 1, которое устанавливается между ионизационной камерой масс-спектрометра и дозирующим клапаном 10, и которое состоит из двух трубопроводов: для потока азота 2, испаряемого из сосуда Дьюара, и для потока гексафторида урана 1, поступающего через игольчатый клапан в ионизационную камеру. Трубопроводы спаяны между собой по всей длине концентратора сплавом из олова 8. Весь концентратор разбит на пять одинаковых участков. На каждом участке расположены обмотка прогрева 7 и термодатчик 4, включенные в электрическую схему термостабилизации. The method proposed above is implemented in the impurity concentration device shown in FIG. 1, which is installed between the ionization chamber of the mass spectrometer and the metering valve 10, and which consists of two pipelines: for the stream of
Поток газообразного азота охлаждает поверхность трубопровода для гексафторида урана. Регулируя подвод тепла с помощью обмоток нагрева, по всей длине концентратора устанавливают равномерный градиент температур от -80oС (Т1) до -50oС (T5). Контроль температур осуществляется с помощью пяти термопар медь-константан 3, расположенных на каждом из участков. Вся система помещена в термоизоляционный кожух 9.A stream of nitrogen gas cools the surface of the pipeline for uranium hexafluoride. By adjusting the heat supply by means of heating windings, a uniform temperature gradient from -80 ° C (T 1 ) to -50 ° C (T 5 ) is established along the entire length of the concentrator. Temperature control is carried out using five copper-constantan 3 thermocouples located in each of the sections. The whole system is placed in a heat-insulating casing 9.
Для исключения сорбционных потерь примесей, имеющих более высокую температуру кипения (например, гексафторида вольфрама и молибдена), разность температур между соседними участками концентратора не превышает 5÷6oС.To exclude sorption losses of impurities having a higher boiling point (for example, tungsten hexafluoride and molybdenum), the temperature difference between adjacent sections of the concentrator does not exceed 5 ÷ 6 o C.
Для оптимального прохождения через концентратор сильно гигроскопичных примесей, таких как трифторид бора, оксифторид и пентафторид фосфора, конденсация гексафторида урана проводится на поверхности фторопластовой трубки 6 марки Ф4МБ, плотно вставленной в газовый трубопровод 1, как показано на фиг. 1. For optimal passage through the concentrator of highly hygroscopic impurities, such as boron trifluoride, oxyfluoride and phosphorus pentafluoride, the condensation of uranium hexafluoride is carried out on the surface of fluoroplastic tube 6 of grade F4MB, tightly inserted into gas pipeline 1, as shown in FIG. 1.
Пример. Проводилось определение молярной доли следующих примесей в калибровочных смесях гексафторида урана: WF6; MoF6; SiF4; BF3; PF5; N2; CH4. Смеси были приготовлены на основе чистых веществ. Результаты определений, рассчитанные по формулам (2,3), приведены в табл. 2.Example. The molar fraction of the following impurities in the calibration mixtures of uranium hexafluoride was determined: WF 6 ; MoF 6 ; SiF 4 ; BF 3 ; PF 5 ; N 2 ; CH 4 . Mixtures were prepared on the basis of pure substances. The results of the determinations calculated by formulas (2.3) are given in table. 2.
Анализ приведенных данных подтверждает, что в заявленном изобретении, в сравнении с прототипом:
- обеспечивается большая чувствительность масс-спектрометрического определения примесей: предел обнаружения составляет порядка 1•10-5%;
- обеспечивается увеличение точности масс-спектрометрического метода: относительная ошибка единичного определения не превышает 15%.Analysis of the data confirms that in the claimed invention, in comparison with the prototype:
- provides a high sensitivity mass spectrometric determination of impurities: the detection limit is about 1 • 10 -5 %;
- provides an increase in the accuracy of the mass spectrometric method: the relative error of a single determination does not exceed 15%.
Источники информации
1. А.А. Сысоев, В.Б. Артаев, В.В. Кащеев, Изотопная масс-спектрометрия, -М.: Энергоатомиздат, 1993г., с. 202-208;
2. Roy W. Morrow, Jeffrey S. Crain, "Applications of Inductivetly Couled Plasma - Mass Spectrometry to Radionuclide Determinations", ASTM, 1998;
3. H.A. Шеховцов. Изотопная масс-спектрометрия, -М.: Атомиздат, 1971г. ;
4. И. Л. Агафонов, Г.Г. Девятых. Масс-спектрометрический анализ газов и паров особой чистоты, -М.: Наука, 1980г.Sources of information
1. A.A. Sysoev, V.B. Artaev, V.V. Kashcheev, Isotope Mass Spectrometry, -M.: Energoatomizdat, 1993, p. 202-208;
2. Roy W. Morrow, Jeffrey S. Crain, "Applications of Inductivetly Couled Plasma - Mass Spectrometry to Radionuclide Determinations", ASTM, 1998;
3. HA Shekhovtsov. Isotope mass spectrometry, -M.: Atomizdat, 1971. ;
4. I. L. Agafonov, G.G. Ninth. Mass spectrometric analysis of gases and vapors of high purity, Moscow: Nauka, 1980.
5. Патент RU 2154028 С1 "Способ определения содержания перфторуглеродных соединений в гексафториде урана" (Уральский Электрохимический комбинат), 10.08.2000 г. 5. Patent RU 2154028 C1 "Method for determining the content of perfluorocarbon compounds in uranium hexafluoride" (Ural Electrochemical Plant), 08/10/2000
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2000124840/12A RU2187799C2 (en) | 2000-09-29 | 2000-09-29 | Procedure determining impurities in uranium hexafluoride and device for its implementation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2000124840/12A RU2187799C2 (en) | 2000-09-29 | 2000-09-29 | Procedure determining impurities in uranium hexafluoride and device for its implementation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2187799C2 true RU2187799C2 (en) | 2002-08-20 |
RU2000124840A RU2000124840A (en) | 2002-08-20 |
Family
ID=20240546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2000124840/12A RU2187799C2 (en) | 2000-09-29 | 2000-09-29 | Procedure determining impurities in uranium hexafluoride and device for its implementation |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2187799C2 (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100378456C (en) * | 2006-08-22 | 2008-04-02 | 中国核工业总公司五○四厂 | Method for measuring trace B/Si elements in uranium hexafluoride |
RU2482470C2 (en) * | 2007-12-31 | 2013-05-20 | Имплант Сайенсиз Корпорэйшн | Using 5-nitrovanillin as calibrant for calibrating drift time in ion mobility spectrometer |
RU2649136C1 (en) * | 2017-04-25 | 2018-03-29 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ) | Method for gold and cobalt alloying additives determination in semiconductor materials based on tin dioxide |
RU2691769C1 (en) * | 2018-09-20 | 2019-06-18 | Акционерное общество "Уральский электрохимический комбинат" | Method of controlling uranium hexafluoride quality |
RU2762276C1 (en) * | 2021-02-09 | 2021-12-17 | Акционерное общество "Уральский электрохимический комбинат" | Method for determining nitrogen content in uranium hexafluoride |
-
2000
- 2000-09-29 RU RU2000124840/12A patent/RU2187799C2/en active
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100378456C (en) * | 2006-08-22 | 2008-04-02 | 中国核工业总公司五○四厂 | Method for measuring trace B/Si elements in uranium hexafluoride |
RU2482470C2 (en) * | 2007-12-31 | 2013-05-20 | Имплант Сайенсиз Корпорэйшн | Using 5-nitrovanillin as calibrant for calibrating drift time in ion mobility spectrometer |
RU2649136C1 (en) * | 2017-04-25 | 2018-03-29 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ) | Method for gold and cobalt alloying additives determination in semiconductor materials based on tin dioxide |
RU2691769C1 (en) * | 2018-09-20 | 2019-06-18 | Акционерное общество "Уральский электрохимический комбинат" | Method of controlling uranium hexafluoride quality |
RU2762276C1 (en) * | 2021-02-09 | 2021-12-17 | Акционерное общество "Уральский электрохимический комбинат" | Method for determining nitrogen content in uranium hexafluoride |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Junninen et al. | A high-resolution mass spectrometer to measure atmospheric ion composition | |
Jones et al. | Investigation of gas–solid reactions by modulated molecular beam mass spectrometry | |
Snell et al. | Species specific isotope dilution calibration for determination of mercury species by gas chromatography coupled to inductively coupled plasma-or furnace atomisation plasma ionisation-mass spectrometry | |
Fernández-Maestre et al. | Chemical standards in ion mobility spectrometry | |
CN112816436B (en) | Spectrum-mass spectrum combined device and detection method | |
Li et al. | Hydride generation-point discharge microplasma-optical emission spectrometry for the determination of trace As, Bi, Sb and Sn | |
Okamoto | Determination of fluorine in aqueous samples by electrothermal vaporisation inductively coupled plasma mass spectrometry (ETV-ICP-MS) | |
Whitson Jr et al. | Temperature dependence of the quenching of vibrationally excited N2 by NO and H2O | |
RU2187799C2 (en) | Procedure determining impurities in uranium hexafluoride and device for its implementation | |
JP2005150027A (en) | Component measuring apparatus for humidifying gas | |
Scheffler et al. | Effect of N 2 on the emission profile and excitation temperature in axially viewed plasma-ICP OES | |
Szekely et al. | Thermal analysis-mass spectrometry coupling and its applications | |
Sortino et al. | A new method for sampling fumarolic gases: Analysis of major, minor and metallic trace elements with ammonia solutions | |
Driedger et al. | Determination of part-per-trillion levels of atmospheric sulfur dioxide by isotope dilution gas chromatography/mass spectrometry | |
US3974380A (en) | Mass spectrometer | |
CA3107338C (en) | System for introducing particle-containing samples to an analytical instrument and methods of use | |
Han et al. | Determination of alcohol compounds using corona discharge ion mobility spectrometry | |
Well et al. | Continuous flow equilibration for mass spectrometric analysis of dinitrogen emissions | |
Clyne et al. | Kinetic studies of diatomic free radicals using mass spectrometry. Part 1.—System description and applications to F atoms and FO radicals | |
Chen et al. | Water-assisted low temperature plasma ionization source for sensitive detection of explosives | |
RU2277238C2 (en) | Method of measurement of concentration of impurities in nitrogen, hydrogen and oxygen by means of ion mobility spectrometry | |
CN110514733A (en) | Organic and inorganic mixed gas fast quantitative analysis mass spectrometry method and instrument | |
Haraldsson et al. | Determination of mercury isotope ratios in samples containing sub-nanogram amounts of mercury using inductively coupled plasma mass spectrometry | |
JP2006266774A (en) | Analyzing method and analyzing apparatus for mixed gas | |
Lee et al. | Evaluation method on destruction and removal efficiency of perfluorocompounds from semiconductor and display manufacturing |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD4A | Correction of name of patent owner | ||
PD4A | Correction of name of patent owner |