RU214549U1 - Газоразрядная камера плазменного фокуса - Google Patents
Газоразрядная камера плазменного фокуса Download PDFInfo
- Publication number
- RU214549U1 RU214549U1 RU2022122906U RU2022122906U RU214549U1 RU 214549 U1 RU214549 U1 RU 214549U1 RU 2022122906 U RU2022122906 U RU 2022122906U RU 2022122906 U RU2022122906 U RU 2022122906U RU 214549 U1 RU214549 U1 RU 214549U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- slots
- discharge chamber
- cathode
- gas
- insulator
- Prior art date
Links
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 title claims abstract description 46
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 47
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 41
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005658 nuclear physics Effects 0.000 abstract description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 24
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 6
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 5
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 5
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 230000000149 penetrating Effects 0.000 description 4
- 210000004544 DC2 Anatomy 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000002530 ischemic preconditioning Effects 0.000 description 2
- 241000013987 Colletes Species 0.000 description 1
- 210000003491 Skin Anatomy 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- 230000005520 electrodynamics Effects 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052722 tritium Inorganic materials 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N tritium Chemical compound [3H] YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
Images
Abstract
Полезная модель относится к плазменной технике, к устройствам для генерации нейтронов, в частности к генераторам разовых импульсов нейтронного и рентгеновского излучения, и может быть использована для проведения ядерно-физических исследований, изучения радиационной стойкости, например, электронной аппаратуры, калибровки детекторов ионизирующих излучений. Техническим результатом предлагаемого устройства является увеличение ресурса работы газоразрядной камеры за счёт сниженного теплового и механического воздействия плазменной оболочки на катод в месте соединения с изолятором. Технический результат достигается тем, что газоразрядная камера плазменного фокуса, содержащая последовательно коаксиально расположенные относительно оси газоразрядной камеры внутренний электрод - анод, цилиндрический изолятор, внешний электрод - катод, при этом электроды газоразрядной камеры анод и катод выполнены в виде коаксиальных расположенных одно в другом тел вращения с криволинейной образующей, соосных оси газоразрядной камеры, анод и катод герметично закреплены с изолятором и имеют электрические контакты для соединения с источником электрического тока, промежуток между анодом и катодом заполнен изотопами водорода, на внутренней поверхности катода вблизи цилиндрического изолятора равномерно и радиально симметрично относительно оси газоразрядной камеры выполнены поперечные прорези, количество прорезей равно шести, размеры прорезей удовлетворяют следующим соотношениям: ширина прорези равна расстоянию между прорезями, глубина прорезей не менее ширины прорезей, длина прорезей не более двух размеров ширины прорези. 1 ил., 1 табл.
Description
Полезная модель относится к плазменной технике, к устройствам для генерации нейтронов, в частности к генераторам разовых импульсов нейтронного и рентгеновского излучения, и может быть использована для проведения ядерно-физических исследований, изучения радиационной стойкости, например, электронной аппаратуры, калибровки детекторов ионизирующих излучений.
Известен плазменный источник проникающего излучения, состоящий из газоразрядной камеры, заполненной изотопами водорода и содержащей газоразрядные электроды, и источника электрического питания. Газоразрядная камера состоит из изолятора и газоразрядных электродов в виде коаксиально расположенных один в другом электропроводных тел вращения с криволинейной образующей, ввод внутреннего электрода имеет диаметр, меньший диаметра рабочей части электрода. С целью равномерного распределения тока в разрядной камере, во внешнем электроде выполнены неоднородности в виде несквозных углублений, равномерно распределенных по поверхности внешнего электрода вблизи ввода внутреннего электрода. Авторское свидетельство СССР №347006, МПК Н05Н 1/06, 09.02.1995.
Недостатком данного источника является небольшой ресурс работы (10-100 кумуляций Z-пинча с генерацией нейтронного и рентгеновского излучений).
Известен плазменный источник проникающего излучения, содержащий газоразрядную камеру, заполненную изотопами водорода и содержащую газоразрядные электроды, герметично закрепленные в изоляторе, и источник электрического тока, подсоединенный к электродам газоразрядной камеры, на внешнем электроде вблизи изолятора выполнена проточка треугольного сечения по окружности, центр которой находится на оси газоразрядной камеры. Патент РФ на полезную модель №141449, МПК H05H 1/00, 10.06.2014.
Недостатком прототипа является малый ресурс работы газоразрядной камеры из-за высокого теплового и механического воздействия плазменной оболочки на катод в месте соединения с изолятором.
Техническим результатом предлагаемого устройства является увеличение ресурса работы газоразрядной камеры за счет сниженного теплового и механического воздействия плазменной оболочки на катод в месте соединения с изолятором.
Технический результат достигается тем, что газоразрядная камера плазменного фокуса, содержащая последовательно коаксиально расположенные относительно оси газоразрядной камеры внутренний электрод - анод, цилиндрический изолятор, внешний электрод - катод, при этом электроды газоразрядной камеры анод и катод выполнены в виде коаксиальных расположенных одно в другом тел вращения с криволинейной образующей, соосных оси газоразрядной камеры, анод и катод герметично закреплены с изолятором и имеют электрические контакты для соединения с источником электрического тока, промежуток между анодом и катодом заполнен изотопами водорода, на внутренней поверхности катода вблизи цилиндрического изолятора равномерно и радиально симметрично относительно оси газоразрядной камеры выполнены поперечные прорези, количество прорезей равно шести, размеры прорезей удовлетворяют следующим соотношениям: ширина прорези равна расстоянию между прорезями, глубина прорезей не менее ширины прорезей, длина прорезей не более двух размеров ширины прорези.
Схема газоразрядной камеры плазменного фокуса приведена чертеже, где: 1 - анод, 2 - катод, 3 - плазменный фокус, 4 - изолятор, 5 - конденсаторная батарея, 6 - высоковольтный коммутатор, 7 - зарядный резистор, 8 - прорези, 9 - ось газоразрядной камеры.
В таблице представлены сравнительные данные прототипа и предлагаемого устройства - расчетные значения напряженностей электрического поля вблизи изолятора и ресурс работы.
Газоразрядная камера плазменного фокуса содержит последовательно коаксиально расположенные относительно оси 9 газоразрядной камеры внутренний электрод - анод 1, цилиндрический изолятор 4, внешний электрод - катод 2. Металлические газоразрядные электроды анод 1 и катод 2 герметично закреплены с изолятором 4, при этом соблюдается следующее расположение электродов 1, 2 и изолятора 4 относительно оси 9 газоразрядной камеры в области расположения изолятора 4 также как и в прототипе: на оси 9 расположен анод 1, далее от оси 9 герметичное соединение анода 1 с внутренней поверхностью изолятора 4, далее изолятор 4, герметичное соединение изолятора 4 с катодом 2, далее от оси 9 катод 4.
Анод 1 и катод 2 имеют электрические контакты для соединения с источником электрического тока, и подсоединяются к источнику электрического тока, анод 1 является внутренним электродом, катод 2 является внешним электродом. Изолятор 4 имеет цилиндрическую форму и обеспечивает электрическую прочность изоляторного узла и герметичность закрепления газоразрядных электродов анода 1 и катода 2. Промежуток между анодом 1 и катодом 2 заполнен изотопами водорода (дейтерий, тритий или их смесь), электроды газоразрядной камеры имеют форму фигур вращения вокруг оси 9 камеры, на внутренней поверхности катода 2 вблизи цилиндрического изолятора 4 равномерно и радиально симметрично относительно оси 9 газоразрядной камеры выполнены поперечные прорези 8, количество прорезей 8 не менее шести, размеры прорезей 8 удовлетворяют следующим соотношениям: ширина прорези 8 dп равна расстоянию между прорезями 8 dм, глубина прорезей 8 hп не менее ширины прорезей 8, длина прорезей не более двух размеров ширины прорези 8.
Электроды газоразрядной камеры анод 1 и катод 2 выполнены в виде коаксиальных расположенных один в другом тел вращения с криволинейной образующей и соосных оси 9 газоразрядной камеры. Электроды газоразрядной камеры анод 1 и катод 2 могут иметь любую форму фигур вращения вокруг оси 9 камеры, позволяющую обеспечивать развитие электрического разряда в газоразрядной камере, на фиг.1 для иллюстрации представлен вариант электродов сферической формы с восемнадцатью прорезями 8.
По изолятору 4 происходит электрический пробой газа, наполняющего газоразрядную камеру, и формируется плазменная оболочка, затем двигающаяся с ускорением между электродами 1, 2 до формирования плазменного фокуса 3 на оси 9 газоразрядной камеры. Прорези 8, расположенные равномерно вокруг изолятора 4, являются обострителями электрического поля и используются для формирования равномерного электрического пробоя газа по изолятору 4. Форма прорезей 8 одинаковая для всех прорезей 8. Газоразрядные электроды 1 и 2, разделенные изолятором 4, присоединяются к источнику электрического тока.
Источник электрического тока содержит конденсаторную батарею 5, высоковольтный коммутатор 6 и зарядный резистор 7. Конденсаторная батарея 5 заземленными обкладками электрически соединена с внешним газоразрядным электродом катодом 2, заряжаемые обкладки конденсаторной батареи 5 электрически соединены с зарядным резистором 7, через который осуществляется зарядка от внешнего источника напряжения («+»), и с высоковольтным коммутатором 6. Высоковольтный коммутатор 6 электрически соединен с внутренним газоразрядным электродом анодом 1, внешний газоразрядный электрод 2 заземлен. Схема подключения показана на чертеже.
Газоразрядная камера соединяется жестким цанговым соединением с источником электрического тока, цанговое соединение используется для удобства разъединения камеры от источника и для обеспечения равномерной подачи тока от источника тока на электроды 1, 2. Все элементы источника тока (конденсаторная батарея 5, высоковольтный коммутатор 6, зарядный резистор 7) жестко закреплены в едином корпусе болтовыми соединениями для обеспечения надежности электрических контактов и защиты от воздействия внешних факторов.
Устройство работает следующим образом.
После подачи импульса запуска «Пуск» и срабатывания высоковольтного коммутатора 6, предварительно заряженная через зарядный резистор 7 конденсаторная батарея 5 разряжается на электроды 1, 2 газоразрядной камеры, состоящей из двух коаксиально расположенных металлических газоразрядных электродов 1 и 2, разделенных изолятором 4. В газоразрядной камере по изолятору 4 происходит формирование электрического разряда в виде плазменной оболочки. Под действием электродинамической силы плазменная оболочка открывается от изолятора 4 и движется с ускорением между газоразрядными электродами 1 и 2. Затем, плазменная оболочка сжимается на оси 9 газоразрядной камеры и формируется разряд типа плазменный фокус 3, который является источником нейтронного и рентгеновского излучений.
Стабильность процессов формирования плазменной оболочки при пробое по изолятору 4 являются определяющей для формирования однородной плазменной оболочки. Однородность плазменной оболочки обеспечивает стабильное формирование плазменного фокуса 3 и получение максимального выхода нейтронного и рентгеновского излучений. Однородность плазменной оболочки связана со скоростью развития пробоя по изолятору 4 в газоразрядной камере, то есть с пространственным распределением первичных свободных электронов и напряженностью электрического поля у изолятора 4. Целесообразно обеспечивать наибольшее значение напряженности электрического поля у изолятора 4.
Обычно увеличение напряженности электрического поля обеспечивается применением специальной конструкции электродов 1 и 2 вблизи цилиндрического изолятора 4 (острые кромки, проточки треугольного сечения и т.п.). В случае применения острых кромок, проточек и т.п. усилители (обострители) электрического поля располагаются поперек движения плазменной оболочки и подвергаются температурному и механическому воздействию плазмы плазменной оболочки. На этапе отрыва плазменной оболочки от цилиндрического изолятора 4, разрядный ток, сформированный в результате разряда конденсаторной батареи 5, протекает по тонкому слою (скин-слой) на поверхности электродов 1 и 2. Значение разрядного тока на этом этапе составляет от десятков до нескольких сотен килоампер. Это обеспечивает температуру плазменной оболочки на уровне 1÷10 эВ (1,16⋅104÷1,16⋅105 К). В газоразрядной камере после прохождения оболочки и ее взаимодействия с внутренней поверхностью электродов 1 и 2, наблюдаются следы подплавления электродов 1 и 2. Поэтому при каждом формировании плазменной оболочки происходит механическое и тепловое воздействие на обострители напряженности электрического поля, находящиеся на пути движения плазменной оболочки на электродах 1 и 2 (как правило, внешний электрод 2 является катодом и усилители поля располагаются на этом электроде). При их деформации распределение напряженности электрического поля искажается, что приводит к ухудшению условий формирования плазменной оболочки. Поэтому ресурс работы газоразрядной камеры (количество рабочих включений) снижается.
В предлагаемой конструкции напряженность электрического поля увеличивается за счет снятия части материала (внесение прорезей 8 в конструкцию) газоразрядного электрода - катода 2. При выполнении прорезей 8 образовавшиеся поперечные грани приводят к локальному усилению электрического поля, при расположении прорезей 8 равномерно вокруг изолятора 4, электрическое поле усилится со всех сторон, что приведет к оптимальной работе устройства. В данном случае усиление (обострение) электрического поля обеспечивается без размещения на пути плазменной оболочки дополнительных элементов, движение плазменной оболочки происходит по поверхности электрода 2 над прорезями 8, что приводит к отсутствию или к существенному уменьшению деформации геометрии прорезей 8 в процессе работы, и, следовательно, к увеличению ресурса работы устройства. Поскольку усиление (обострение) электрического поля происходит на поперечных гранях прорезей 8, равномерность усиления электрического поля со всех сторон изолятора 4 обеспечивается одинаковым расстоянием между всеми поперечными гранями прорезей 8, что выполняется при равенстве ширины прорези dп и расстояния между прорезями dм, то есть dп=dм. Глубина прорези hп выбирается исходя из толщины газоразрядного электрода 2 и должна быть не меньше ширины прорези dп для получения максимального обострения электрического поля, то есть: hп ≥ dп. Количество прорезей 8 определяется диаметром используемого цилиндрического изолятора 4 и рабочим током источника электрического тока. С увеличением тока и с увеличением диаметра цилиндрического изолятора 4 количество прорезей 8 увеличивается. С целью обеспечения равномерности усиления электрического поля со всех сторон изолятора 4 и с учетом волокнистой структуры плазменной оболочки количество прорезей 8 должно быть не менее шести. Длина прорезей 8 lп определяется формой катода и не более двух размеров ширины прорези 8: lп ≤ 2dп.
Для сравнения эффективности работы типовых конструкций прототипа и полезной модели рассмотрены два вариантов конструкции газоразрядной камеры: плазменных источников проникающего излучения с разрядной камерой с обострителем электрического поля в виде проточки треугольного сечения (прототип) и с газоразрядной камерой с обострителем электрического поля в виде шести и восемнадцати прорезей 8. Результаты сравнения представлены в Таблице. Расчетное значения напряженности электрического поля вблизи изолятора на катоде в рассматриваемых случаях составляет ≈3,7×107 В/м при значения зарядного напряжения конденсаторной батареи 20 кВ источника тока. При использовании проточки треугольного сечения увеличение эффективности работы газоразрядной камеры сопровождалось уменьшением ресурса работы источника из-за механического и теплового воздействия плазменной оболочки на обостритель и его разрушения. Экспериментальные значения ресурса работы газоразрядной камеры в прототипе составляют от 100 до 180 включений. В случае использования обострителя электрического поля в виде поперечных прорезей 8, расположенных на газоразрядном электроде 2 равномерно вокруг цилиндрического изолятора 4, в оптимальных условиях (dп=dм и hп ≥ dп) наблюдалась эффективность работы плазменного источника, аналогичная случаю использования острой кромки, но ввиду отсутствия непосредственного контакта обострителя с плазменной оболочкой разрушение обострителя не наблюдалось, в результате чего ресурс работы (количество рабочих включений) газоразрядной камеры плазменного фокуса увеличен и составлял от 200 до 500 включений.
Таким образом, в полезной модели достигается заявленный технический результат, а именно увеличение ресурса работы газоразрядной камеры из-за сниженного теплового и механического воздействия плазменной оболочки на катод в месте соединения с изолятором.
| Газоразрядная камера плазменного фокуса | ||
| Напряженность электрического поля в области обострителя (зарядное напряжение 20 кВ), В/м | Ресурс (количество рабочих включений) | |
| Плазменный источник проникающего излучения с газоразрядной камерой с обострителем электрического поля в виде проточки треугольного сечения (прототип) | 3,7×107 | (100÷180) |
| Газоразрядная камера плазменного фокуса с обострителем электрического поля в виде шести прорезей | 3,7×107 | (200÷500) |
| Газоразрядная камера плазменного фокуса с обострителем электрического поля в виде восемнадцати прорезей | 3,6×107 | (200÷500) |
Claims (1)
- Газоразрядная камера плазменного фокуса, содержащая последовательно коаксиально расположенные относительно оси газоразрядной камеры внутренний электрод - анод, цилиндрический изолятор, внешний электрод - катод, при этом электроды газоразрядной камеры анод и катод выполнены в виде коаксиальных расположенных одно в другом тел вращения с криволинейной образующей, соосных оси газоразрядной камеры, анод и катод герметично закреплены с изолятором и имеют электрические контакты для соединения с источником электрического тока, промежуток между анодом и катодом заполнен изотопами водорода, отличающаяся тем, что на внутренней поверхности катода вблизи цилиндрического изолятора равномерно и радиально симметрично относительно оси газоразрядной камеры выполнены поперечные прорези, количество прорезей равно шести, размеры прорезей удовлетворяют следующим соотношениям: ширина прорези равна расстоянию между прорезями, глубина прорезей не менее ширины прорезей, длина прорезей не более двух размеров ширины прорези.
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU214549U1 true RU214549U1 (ru) | 2022-11-03 |
Family
ID=
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115724594A (zh) * | 2022-11-28 | 2023-03-03 | 宁波云涂科技有限公司 | 一种光伏幕墙炫彩玻璃的加工方法及其设备 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001037309A1 (en) * | 1999-11-18 | 2001-05-25 | Cymer, Inc. | Plasma focus light source with improved pulse power system |
| US6297594B1 (en) * | 1999-02-02 | 2001-10-02 | Nissin Electric Co., Ltd | Plasma source ion implanting apparatus using the same |
| RU2297117C1 (ru) * | 2005-08-15 | 2007-04-10 | Российская Федерация в лице Федерального агентства по атомной энергии | Устройство для получения импульсного рентгеновского и нейтронного излучения |
| RU2342810C1 (ru) * | 2007-05-17 | 2008-12-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Плазменный источник проникающего излучения |
| RU141449U1 (ru) * | 2014-03-04 | 2014-06-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Плазменный источник проникающего излучения |
| RU2743572C1 (ru) * | 2020-09-04 | 2021-02-20 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Эуф Лабс" | Высокояркостный источник коротковолнового излучения (варианты) |
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6297594B1 (en) * | 1999-02-02 | 2001-10-02 | Nissin Electric Co., Ltd | Plasma source ion implanting apparatus using the same |
| WO2001037309A1 (en) * | 1999-11-18 | 2001-05-25 | Cymer, Inc. | Plasma focus light source with improved pulse power system |
| RU2297117C1 (ru) * | 2005-08-15 | 2007-04-10 | Российская Федерация в лице Федерального агентства по атомной энергии | Устройство для получения импульсного рентгеновского и нейтронного излучения |
| RU2342810C1 (ru) * | 2007-05-17 | 2008-12-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Плазменный источник проникающего излучения |
| RU141449U1 (ru) * | 2014-03-04 | 2014-06-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Плазменный источник проникающего излучения |
| RU2743572C1 (ru) * | 2020-09-04 | 2021-02-20 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Эуф Лабс" | Высокояркостный источник коротковолнового излучения (варианты) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115724594A (zh) * | 2022-11-28 | 2023-03-03 | 宁波云涂科技有限公司 | 一种光伏幕墙炫彩玻璃的加工方法及其设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Moak et al. | Duo plasmatron ion source for use in accelerators | |
| WO1988008198A1 (en) | Plasma focus apparatus with field distortion elements | |
| US3406349A (en) | Ion beam generator having laseractivated ion source | |
| RU214549U1 (ru) | Газоразрядная камера плазменного фокуса | |
| US3660715A (en) | Ion source with mosaic ion extraction means | |
| RU187270U1 (ru) | Импульсный генератор нейтронов | |
| RU141449U1 (ru) | Плазменный источник проникающего излучения | |
| Sereda et al. | The plasma parameters of Penning discharge with negatively biased metal hydride cathode at longitudinal emission of H–ions | |
| Conrads | Dense plasma focus as a neutron source for fusion research | |
| RU185318U1 (ru) | Плазменный источник проникающего излучения | |
| Inoue et al. | Acceleration of 1 MeV, 100 mA Class H− ion beams in a proof-of-principle accelerator for ITER | |
| RU2754347C1 (ru) | Источник импульсных электронных пучков | |
| US3532915A (en) | High frequency ion source formed by a discharge between a secondary-emitting electrode and a grid | |
| RU2297117C1 (ru) | Устройство для получения импульсного рентгеновского и нейтронного излучения | |
| Freeman et al. | Magnetic flux compression generator powered electron beam experiments | |
| JP2988764B2 (ja) | 直流電圧型加速器の加速管 | |
| Moiseenko et al. | Control of the runaway electron flow in torsatron | |
| Oreshko | The combined discharge for receiving of neutrons | |
| Kassel et al. | Soviet research and development of high-power gap switches | |
| Fumelli et al. | The annular duopigatron and the direct recovery of the charged beam fraction | |
| US3667058A (en) | Electrostatic accelerated-charged-particle deflector | |
| CA1040735A (en) | Generation of corona for laser excitation | |
| Chepusov et al. | Investigation of Annular Explosive-Emission Cathodes of the Conductor–Insulator Structure | |
| Chatterjee | Charging up effect in triple GEM detector | |
| Meena et al. | Pseudospark switch development for pulse power modulators |