RU214548U1 - Газоразрядная камера плазменного фокуса - Google Patents
Газоразрядная камера плазменного фокуса Download PDFInfo
- Publication number
- RU214548U1 RU214548U1 RU2022122904U RU2022122904U RU214548U1 RU 214548 U1 RU214548 U1 RU 214548U1 RU 2022122904 U RU2022122904 U RU 2022122904U RU 2022122904 U RU2022122904 U RU 2022122904U RU 214548 U1 RU214548 U1 RU 214548U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- discharge chamber
- anode
- gas
- screen
- axis
- Prior art date
Links
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 title claims abstract description 35
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 19
- 210000004940 Nucleus Anatomy 0.000 claims abstract description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005658 nuclear physics Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 4
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium(0) Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N BeO Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005461 Bremsstrahlung Effects 0.000 description 2
- 210000004544 DC2 Anatomy 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 2
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 230000002530 ischemic preconditioning Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910052722 tritium Inorganic materials 0.000 description 2
- YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N tritium Chemical compound [3H] YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 B 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000013987 Colletes Species 0.000 description 1
- 241000216690 Gracula religiosa Species 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005520 electrodynamics Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 description 1
- 230000001960 triggered Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
Полезная модель относится к плазменной технике, к устройствам для генерации нейтронов, в частности к генераторам разовых импульсов нейтронного и устройствам с плазменным фокусом, и может быть использована для проведения ядерно-физических исследований, изучения радиационной стойкости, например, электронной аппаратуры, калибровки детекторов ионизирующих излучений.
Техническим результатом предлагаемого устройства является то, что генерация нейтронов сопровождается уменьшенным потоком квантов жесткого рентгеновского излучения.
Технический результат достигается тем, что газоразрядная камера плазменного фокуса, содержащая последовательно коаксиально расположенные относительно оси газоразрядной камеры внутренний электрод-анод, цилиндрический изолятор, внешний электрод-катод, электроды газоразрядной камеры анод и катод выполнены в виде коаксиально расположенных одно в другом тел вращения с криволинейной образующей, соосных оси газоразрядной камеры, анод и катод герметично закреплены с изолятором и имеют электрические контакты для соединения с источником электрического тока, промежуток между анодом и катодом заполнен изотопами водорода, в верхней части анода газоразрядной камеры (со стороны области формирования плазменного фокуса) имеется цилиндрическая полость, к внутренним стенкам анода прикреплен экран, имеющий форму цилиндра с несквозным отверстием и изготовленный из металла с атомным номером ядра Z от 74 до 82, толщина стенок экрана от 1 до 4 мм, на нижнем торце экрана с внутренней стороны установлена мишень, изготовленная из твердого материала, состоящего из элементов с атомным номером ядра Z от 4 до 14 или их соединений между собой, имеющая форму диска, расположенного перпендикулярно оси газоразрядной камеры, толщиной от 1 до 4 мм и диаметром, равном диаметру несквозного отверстия экрана, мишень и экран соосны оси газоразрядной камеры. 4 ил.
Description
Полезная модель относится к плазменной технике, к устройствам для генерации нейтронов, в частности к генераторам разовых импульсов нейтронного и устройствам с плазменным фокусом, и может быть использована для проведения ядерно-физических исследований, изучения радиационной стойкости, например, электронной аппаратуры, калибровки детекторов ионизирующих излучений.
Известен плазменный источник проникающего излучения, состоящий из газоразрядной камеры, заполненной изотопами водорода и содержащей газоразрядные электроды, и источника электрического питания. Газоразрядная камера состоит из изолятора и газоразрядных электродов в виде коаксиально расположенных один в другом электропроводных тел вращения с криволинейной образующей, ввод внутреннего электрода имеет диаметр, меньший диаметра рабочей части электрода. С целью равномерного распределения тока в разрядной камере, во внешнем электроде выполнены неоднородности в виде несквозных углублений, равномерно распределенных по поверхности внешнего электрода вблизи ввода внутреннего электрода. Авторское свидетельство СССР №347006, МПК Н05Н 1/06, 09.02.1995.
Недостатком данного источника является небольшой ресурс работы (10-100 кумуляций Z-пинча с генерацией нейтронного и рентгеновского излучений).
В качестве прототипа по наибольшему количеству совпадающих конструктивных признаков принят плазменный источник проникающего излучения, состоящий из газоразрядной камеры, заполненной изотопами водорода и содержащей газоразрядные электроды, и источника электрического тока, отличающийся тем, что электроды газоразрядной камеры герметично закреплены в изоляторе, в состав газоразрядной камеры введен генератор газа, герметично установленный в отверстии корпуса газоразрядной камеры, рабочий элемент генератора газа насыщен изотопами водорода, а нагревательный элемент подключен через ключ к источнику электрического тока, обеспечивая при включенном состоянии разогрев рабочего элемента генератора газа, выделяющего изотопы водорода в объем разрядной камеры, а при выключенном источнике электрического тока холодный рабочий элемент поглощает изотопы водорода, а также примеси, которые выделяются при разряде с поверхностей электродов изолятора. Патент РФ №2342810, МПК Н05Н 1/00, 27.12.2008.
Недостатком прототипа является то, что генерация нейтронов сопровождается большим потоком квантов жесткого рентгеновского излучения.
Это вызывает сложности при регистрации нейтронного импульса, т.к. при использовании для регистрации нейтронных импульсов сцинтилляционные детекторы регистрируют так же импульс рентгеновского излучения.
Техническим результатом предлагаемого устройства является то, что генерация нейтронов сопровождается уменьшенным потоком квантов жесткого рентгеновского излучения.
Технический результат достигается тем, что газоразрядная камера плазменного фокуса, содержащая последовательно коаксиально расположенные относительно оси газоразрядной камеры внутренний электрод-анод, цилиндрический изолятор, внешний электрод-катод, при этом электроды газоразрядной камеры анод и катод выполнены в виде коаксиальных расположенных один в другом тел вращения с криволинейной образующей, соосных оси газоразрядной камеры, анод и катод герметично закреплены с изолятором и имеют электрические контакты для соединения с источником электрического тока, промежуток между анодом и катодом заполнен изотопами водорода, в верхней части анода газоразрядной камеры (со стороны области формирования плазменного фокуса) имеется цилиндрическая полость, соосная оси газоразрядной камеры, к внутренним стенкам анода прикреплен экран, имеющий форму цилиндра с несквозным отверстием и изготовленный из металла с атомным номером ядра Z от 74 до 82, толщина стенок экрана от 1 до 4 мм, на нижнем торце экрана с внутренней стороны установлена мишень, изготовленная из твердого материала, состоящего из элементов с атомным номером ядра Z от 4 до 14 или их соединениями между собой, имеющая форму диска, расположенного перпендикулярно оси газоразрядной камеры, толщиной от 1 до 4 мм и диаметром, равном диаметру несквозного отверстия экрана, мишень и экран соосны оси газоразрядной камеры.
Сущность полезной модели поясняется чертежами, где:
1 - анод, 2 - катод, 3 - плазменный фокус, 4 - изолятор, 5 - конденсаторная батарея, 6 - высоковольтный коммутатор, 7 - зарядный резистор, 8 - мишень, 9 - экран, 10 - электронный пучок.
Схема газоразрядной камеры плазменного фокуса приведена на фиг.1.
На фиг.2 представлен спектр рентгеновского излучения (зависимость количества квантов в данном интервале энергий от энергии рентгеновских квантов) после прохождения через различные поглощающие материалы.
Типичные осциллограммы сигналов, полученных с сцинтилляционного детектора, представлены на фиг.3 и фиг.4.
На фиг.3. представлена осциллограмма, на которой регистрируются импульсы нейтронного и рентгеновского излучения, полученные при работе плазменного источника - прототипа.
На фиг.4 - осциллограмма сигнала, регистрируемого при работе рассматриваемой газоразрядной камеры плазменного фокуса.
Газоразрядная камера плазменного фокуса (фиг.1) содержит последовательно коаксиально расположенные относительно оси газоразрядной камеры внутренний электрод-анод 1, цилиндрический изолятор 4, внешний электрод-катод 2. Металлические газоразрядные электроды - анод 1 и катод 2 герметично закреплены с изолятором 4, при этом соблюдается следующее расположение электродов 1, 2 и изолятора 4 относительно оси газоразрядной камеры в области расположения изолятора 4: на оси расположен анод 1, далее от оси герметичное соединение анода 1 с внутренней поверхностью изолятора 4, далее изолятор 4, герметичное соединение изолятора 4 с катодом 2, далее от оси катод 2.
Анод 1 и катод 2 имеют электрические контакты для соединения с источником электрического тока, состоящего из последовательно соединенных конденсаторной батареи 5 и высоковольтного коммутатора 6, зарядный резистор 7 подсоединен к незаземленным обкладкам конденсаторной батареи 6, анод 1 является внутренним электродом, катод 2 является внешним электродом, промежуток между анодом 1 и катодом 2 заполнен изотопами водорода (дейтерием, смесью дейтерия и трития или тритием).
В верхней части анода 1 газоразрядной камеры (со стороны места формирования плазменного фокуса 3) имеется цилиндрическая полость. Полость соосна оси газоразрядной камеры, к внутренним стенкам анода 1 прикреплен экран 9, имеющий форму цилиндра с несквозным отверстием и изготовленный из металла с атомным номером ядра Z от 74 до 82, например W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Tl, Pb, толщина стенок экрана 9 от 1 до 4 мм. На нижнем торце экрана 9 с внутренней стороны установлена мишень 8, изготовленная из твердого материала, состоящего из элементов с атомным номером ядра Z от 4 до 14 или их соединений между собой. Например, в качестве материала мишени 8 могут быть использованы Be, Al2O3, SiO2, B2O3, BeO, Al. Мишень 8 имеет форму диска, расположенного перпендикулярно оси газоразрядной камеры, толщиной от 1 до 4 мм и диаметром, равном диаметру несквозного отверстия экрана 9. Экран 9 закреплен в полости анода 1. Экран 9 и мишень 8 соосны оси газоразрядной камере. В газоразрядной камере формируются плазменный фокус 3 и электронный пучок 10.
Электроды газоразрядной камеры анод 1 и катод 2 выполнены в виде коаксиально расположенных одно в другом тел вращения с криволинейной образующей и соосных оси газоразрядной камере; анод 1 и катод 2 имеют электрические контакты для соединения с источником электрического тока. Электроды газоразрядной камеры анод 1 и катод 2 могут иметь любую форму фигур вращения вокруг оси камеры, позволяющую обеспечивать развитие электрического разряда в газоразрядной камере; на фиг. 1 для иллюстрации представлен вариант электродов сферической формы.
Источник электрического тока содержит конденсаторную батарею 5, высоковольтный коммутатор 6 и зарядный резистор 7. Конденсаторная батарея 5 заземленными обкладками электрически соединена с внешним газоразрядным электродом-катодом 2, заряжаемые обкладки конденсаторной батареи 5 электрически соединены с зарядным резистором 7, через который осуществляется зарядка от внешнего источника напряжения («+»), и с высоковольтным коммутатором 6. Высоковольтный коммутатор 6 электрически соединен с внутренним газоразрядным электродом-анодом 1, внешний газоразрядный электрод 2 заземлен. Схема подключения показана на фиг. 1.
Газоразрядная камера соединяется жестким цанговым соединением с источником электрического тока, цанговое соединение используется для удобства разъединения камеры от источника и для обеспечения равномерной подачи тока от источника тока на электроды 1, 2. Все элементы источника тока (конденсаторная батарея 5, высоковольтный коммутатор 6, зарядный резистор 7) жестко закреплены в едином корпусе болтовыми соединениями для обеспечения надежности электрических контактов и защиты от воздействия внешних факторов.
Устройство работает следующим образом.
После подачи импульса запуска «Пуск» и срабатывании высоковольтного коммутатора 6 заряженные через зарядный резистор 7 конденсаторы конденсаторной батареи 5 разряжаются на газоразрядную камеру, в которой формируется электрический разряд типа плазменный фокус 3.
Более детальное описание процессов в газоразрядной камере плазменного фокуса. После срабатывания коммутатора 6 вследствие приложения напряжения к электродам 1, 2 газоразрядной камеры вблизи изолятора 4 происходит разряд с образованием цилиндрической плазменной оболочки. Под действием электродинамических сил плазменная оболочка отходит от изолятора 4 и движется с ускорением по межэлектродному зазору между катодом 2 и анодом 1 к области фокусировки (плазменный фокус 3), которая находится на оси газоразрядной камеры вблизи поверхности анода 1. Формируется плазменный фокус 3 со сжатой плазмой, плотность которой достигает ~ 1019 см -3 . Из плазменного фокуса 3 начинается эмиссия электронов, которые формируют электронный пучок 10, и эмиссия ионов, формирующих ионный пучок. Электронный пучок 10, взаимодействуя с материалом анода 1 и мишени 8, генерирует импульс рентгеновского излучения длительностью 5-10 нс. Ионный пучок, взаимодействуя с плотной плазмой плазменного фокуса 3, вызывает генерацию нейтронов.
Энергия рентгеновских квантов, образованных в газоразрядной камере, лежит в диапазоне 1,5 кэВ<hν<400 кэВ. Спектр рентгеновского излучения слабо зависит от элементного состава плазмы и связан с энергией электронов, инжектированных из плазменного фокуса 3, и материала анода 1, в поверхность которого попадает электронный пучок 10. При замене дейтерия на дейтерий-тритиевую смесь нейтронный выход возрастает ~ 100 раз из-за разницы сечений D-D и D-T реакций, а величина рентгеновского импульса при этом остается неизменной.
При взаимодействии электронного пучка 10 с поверхностью мишени 8 электроны, попадающие в вещество мишени 8, испытывают ускорение при взаимодействии с электрическим полем электронов атома или полем ядер и теряют свою энергию на ионизацию вещества и на электромагнитное радиационное излучение. Это электромагнитное радиационное излучение называется тормозным или рентгеновским, а потери энергии - радиационными. Величина излучаемой энергии пропорционально квадрату ускорения частицы. Так как ускорение обратно пропорционально массе частицы, то потери энергии на тормозное излучение существенны лишь для электронов. Радиационные потери для тонкой мишени 8 пропорциональны квадрату заряда ядер вещества Z (формула Бете-Блоха) и увеличиваются с ростом энергии почти линейно. Для толстой мишени 8 (толщина от 1 до 4 мм) в результате торможения электронов интенсивность рентгеновского излучения пропорциональна заряду ядра Z. Поэтому для уменьшения генерации рентгеновского излучения при изготовлении мишени 8 выбирается материал из вещества с небольшим атомным номером ядра Z, что позволяет ослабить исходную интенсивность рентгеновского излучения практически на порядок.
Поглощение генерированного в мишени 8 рентгеновского излучения происходит цилиндрическим экраном 9. Экран 9, изготовленный из материала толщиной x с большим атомным номером Z, например из вольфрама или тантала, поглощает рентгеновское излучение всех энергий по закону
I(x)=I0⋅exp(-μ(E)⋅x),
где μ(E) - полный массовый коэффициент ослабления данным материалом гамма квантов энергии Е, I0 - количество рентгеновских квантов, попадающих на поверхность материала, I - количество квантов после прохождения материала толщиной х. Так, при использовании бериллия с зарядом ядра Z=4 при энергии рентгеновских квантов 150 кэВ массовый коэффициент ослабления μ(E)=0,0215, а для тантала с Z=74 для той же энергии рентгеновских квантов μ(E)=0,948. Это означает, что для одинакового поглощения рентгена с энергией квантов 150 кэВ достаточно иметь толщину тантала в 44 раза меньше толщины бериллия. Для наиболее эффективного поглощения квантов экраном 9 его толщина x может принимать значения от 1 мм и ограничена геометрическими размерами анода 1 газоразрядной камеры.
Как видно из приведенного на фиг. 2 графика, достаточно толщины экрана 1 мм тантала или свинца для практически полного поглощения рентгена с энергией рентгеновских квантов вплоть до 150 кэВ.
При регистрации формы нейтронного импульса нейтронов с энергией 2,5 МэВ (D-D реакция) возникают сложности из-за относительно большой величины импульса жесткого рентгеновского излучения. В случае применения мишени 8 из материала, состоящего из элементов с небольшим атомным номером ядра Z, происходит уменьшение количества излучаемых квантов. Так, при применении мишени 8 из бериллия (ZBe=4) происходит уменьшение количество энергии на радиационные потери по сравнению с танталом (обычно используемым материалом в качестве рентгеновской мишени, ZTl=74) в отношении ZTl/ZBe=74/4=18,5 раз. Экран 9 из материала с большим атомным номером Z, например из тантала, поглощает излученные мишенью 8 рентгеновские кванты. Так, для диапазона энергий квантов 1,5 кэВ<hν<200 кэВ происходит уменьшение количества излучаемых камерой рентгеновских квантов более чем в 100 раз.
Таким образом, использование мишени 8 из легкого материала с малым Z уменьшает в десятки раз количество генерируемого рентгеновского излучения, а наличие экрана 9 из материала с большим атомным номером Z дополнительно ослабляет генерируемое в мишени 8 рентгеновское излучение, общее ослабление рентгеновского излучения составляет примерно 100-200 раз.
На фиг. 3 представлена типичная осциллограмма, на которой регистрируются импульсы нейтронного и рентгеновского излучения, полученные при работе плазменного источника - прототипа. На данной осциллограмме показано, что при регистрации импульса нейтронов также регистрируется импульс рентгеновского излучения, при этом оба импульса сливаются в один, что затрудняет дальнейший анализ полученных данных по нейтронному импульсу. На фиг. 4 представлена осциллограмма сигнала, регистрируемого при работе газоразрядной камеры плазменного фокуса, в полость анода 1 которого установлены экран 9 и мишень 8. На данной осциллограмме регистрируется импульс нейтронного излучения, а импульс рентгеновского излучения ослаблен до фоновых значений.
Полезная модель дает возможность сократить поток квантов жесткого рентгена из газоразрядной камеры плазменного фокуса 3 при генерации нейтронного излучения. Генерация нейтронного излучения из газоразрядной камеры сопровождается уменьшенным более чем в сто раз потоком квантов жесткого рентгена.
Таким образом, достигается заявленный технический результат, а именно генерация нейтронов сопровождается уменьшенным потоком квантов жесткого рентгеновского излучения.
Claims (1)
- Газоразрядная камера плазменного фокуса, содержащая последовательно коаксиально расположенные относительно оси газоразрядной камеры внутренний электрод–анод, цилиндрический изолятор, внешний электрод–катод, при этом анод и катод выполнены в виде коаксиально расположенных одно в другом тел вращения с криволинейной образующей, соосных оси газоразрядной камеры, анод и катод герметично закреплены с изолятором и имеют электрические контакты для соединения с источником электрического тока, промежуток между анодом и катодом заполнен изотопами водорода, отличающаяся тем, что в аноде со стороны области формирования плазменного фокуса выполнена цилиндрическая полость, соосная оси газоразрядной камеры, к внутренним стенкам полости прикреплен экран, имеющий форму цилиндра с несквозным отверстием и изготовленный из металла с атомным номером ядра Z от 74 до 82, толщина стенок экрана от 1 до 4 мм, на торце экрана с внутренней стороны установлена мишень, изготовленная из твердого материала, состоящего из элементов с атомным номером ядра Z от 4 до 14 или их соединений между собой, имеющая форму диска, расположенного перпендикулярно оси газоразрядной камеры, толщиной от 1 до 4 мм и диаметром, равным диаметру несквозного отверстия экрана, мишень и экран соосны оси газоразрядной камеры.
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU214548U1 true RU214548U1 (ru) | 2022-11-03 |
Family
ID=
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001037309A1 (en) * | 1999-11-18 | 2001-05-25 | Cymer, Inc. | Plasma focus light source with improved pulse power system |
US6297594B1 (en) * | 1999-02-02 | 2001-10-02 | Nissin Electric Co., Ltd | Plasma source ion implanting apparatus using the same |
RU2297117C1 (ru) * | 2005-08-15 | 2007-04-10 | Российская Федерация в лице Федерального агентства по атомной энергии | Устройство для получения импульсного рентгеновского и нейтронного излучения |
RU2342810C1 (ru) * | 2007-05-17 | 2008-12-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Плазменный источник проникающего излучения |
RU2743572C1 (ru) * | 2020-09-04 | 2021-02-20 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Эуф Лабс" | Высокояркостный источник коротковолнового излучения (варианты) |
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6297594B1 (en) * | 1999-02-02 | 2001-10-02 | Nissin Electric Co., Ltd | Plasma source ion implanting apparatus using the same |
WO2001037309A1 (en) * | 1999-11-18 | 2001-05-25 | Cymer, Inc. | Plasma focus light source with improved pulse power system |
RU2297117C1 (ru) * | 2005-08-15 | 2007-04-10 | Российская Федерация в лице Федерального агентства по атомной энергии | Устройство для получения импульсного рентгеновского и нейтронного излучения |
RU2342810C1 (ru) * | 2007-05-17 | 2008-12-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Плазменный источник проникающего излучения |
RU2743572C1 (ru) * | 2020-09-04 | 2021-02-20 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Эуф Лабс" | Высокояркостный источник коротковолнового излучения (варианты) |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2416439C2 (ru) | Устройство для получения электронных пучков и пучков рентгеновских лучей для внутритканевой и интраоперационной лучевой терапии | |
Verma et al. | Miniature plasma focus device as a compact hard X-ray source for fast radiography applications | |
Filippov et al. | Filippov type plasma focus as intense source of hard X-rays (E/sub x//spl sime/50 keV) | |
Barbaglia et al. | Experimental study of the hard x-ray emissions in a plasma focus of hundreds of Joules | |
Balovnev et al. | Spectrometry of impulse high-current discharge-plasma X-rays | |
RU214548U1 (ru) | Газоразрядная камера плазменного фокуса | |
RU2342810C1 (ru) | Плазменный источник проникающего излучения | |
Elizondo-Decanini et al. | Novel surface-mounted neutron generator | |
Jain et al. | Observation and interpretation of neutron origin prior to hard X rays and pinch in a hundred joules plasma focus device | |
Brzosko et al. | Breeding 10 10/s radioactive nuclei in a compact plasma focus device | |
Gribkov et al. | New efficient low-energy dense plasma focus in IPPLM | |
US11378714B2 (en) | Large depth-of-investigation pulsed neutron measurements and enhanced reservoir saturation evaluation | |
Iacobaeus et al. | Sporadic electron jets from cathodes the main breakdown-triggering mechanism in gaseous detectors | |
Dulatov et al. | Specific features of X-ray generation by plasma focus chambers with deuterium and deuterium–tritium fillings | |
USH407H (en) | Electricity and short wavelength radiation generator | |
Bakshaev et al. | Measurements of neutron emission from a Z-pinch constriction | |
Moldabekov et al. | Study Neutron Emission in Plasma Focus Device by Silver Activation Method | |
Cikhardt | High Energy Density Plasma Diagnostics Using Neutron and Gamma Detectors | |
El-Aragi et al. | Scattered ionizing radiations from low-energy focus plasma and radiation dosimetery assessment | |
Goudarzi et al. | Experimental study of the neutron emission mechanisms in a Filippov-type plasma focus device | |
Sadat Kiai et al. | Preliminary results of IS plasma focus as a breeder of short-lived radioisotopes 12 C (d, n) 13 N | |
CN114488269B (zh) | 一种正比计数器 | |
Roshan et al. | Plasma platform to investigate error structure in the electronic components | |
Kubes et al. | Neutron production from a small modified plasma focus device | |
Soto et al. | Dense transient pinches and pulsed power technology: research and applications using medium and small devices |