RU2088056C1 - Generator of atom hydrogen - Google Patents
Generator of atom hydrogen Download PDFInfo
- Publication number
- RU2088056C1 RU2088056C1 RU93026207A RU93026207A RU2088056C1 RU 2088056 C1 RU2088056 C1 RU 2088056C1 RU 93026207 A RU93026207 A RU 93026207A RU 93026207 A RU93026207 A RU 93026207A RU 2088056 C1 RU2088056 C1 RU 2088056C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- discharge
- cathode
- generator
- hydrogen
- anode
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к устройствам для получения химически активных частиц, а еще точнее, к генераторам атомарного водорода. The invention relates to the technology of microelectronics, and in particular to devices for producing chemically active particles, and more specifically, to atomic hydrogen generators.
Генераторы химически активных частиц широко используются при производстве изделий микроэлектроники. Так обработка Si, Ge, GaAs, InP и других полупроводников атомарным водородом с успехом применяется для очистки подложек с целью получения атомарно чистой упорядоченной поверхности, для пассивации носителей и дефектов, лежащих на глубоких уровнях [1 3]
Известен генератор атомарного водорода [4] в котором используется вольфрамовая нить, разогретая до Т 2000oC. Молекулярный водород, напускаемый в вакуумную камеру, термически диссоциирует на накаленной нити. При этом выход атомарного водорода составляет около 0,1% от общего количества подаваемого газа. Недостатком данного генератора является низкая производительность и эффективность получения атомарного водорода.Reactive particle generators are widely used in the manufacture of microelectronics products. So the treatment of Si, Ge, GaAs, InP and other semiconductors with atomic hydrogen is successfully used to clean substrates in order to obtain an atomically clean ordered surface, to passivate carriers and defects lying at deep levels [1 3]
A known atomic hydrogen generator [4] which uses a tungsten filament heated to T 2000 o C. Molecular hydrogen, poured into the vacuum chamber, thermally dissociates on the filament. The yield of atomic hydrogen is about 0.1% of the total amount of gas supplied. The disadvantage of this generator is the low productivity and efficiency of producing atomic hydrogen.
Известен генератор атомарного водорода на основе СВЧ-газового разряда в условиях электронного циклотронного резонанса [5] Производительность и эффективность получения атомарного водорода в таких источниках высоки. Основным недостатком данного генератора является его высокая стоимость и сложность. A known atomic hydrogen generator based on a microwave gas discharge under electron cyclotron resonance conditions [5] The productivity and efficiency of producing atomic hydrogen in such sources are high. The main disadvantage of this generator is its high cost and complexity.
Известен генератор атомарного водорода, наиболее близкий к предлагаемому техническому решению и выбранный нами в качестве прототипа [6] в котором генерация атомарного водорода происходит в разряде постоянного тока. Разрядная камера при этом состоит из полого водоохлаждаемого катода 1 (см. Фиг. 1) и дискового анода 2 с эмиссионным отверстием 4 диаметром 2,5 мм, разделенных цилиндрическим изолятором 3. Напряжение горения разряда Up составляет 600 В, а ток разряда Ip 0,1 А. Давление водорода в разрядной камере около P 3• 10-1 Торр. Достоинство данного генератора заключается в его простоте. Основные недостатки генератора заключаются в следующем.Known atomic hydrogen generator, closest to the proposed technical solution and selected by us as a prototype [6] in which the generation of atomic hydrogen occurs in a direct current discharge. The discharge chamber in this case consists of a hollow water-cooled cathode 1 (see Fig. 1) and a
1. Невысокая производительность получения атомарного водорода вследствие малого разрядного тока. 1. The low productivity of producing atomic hydrogen due to the low discharge current.
2. Высокое напряжение горения разряда, что приводит к неэффективности работы генератора. Большая энергия ионов в разряде способствует эрозии катода и увеличивает вероятность радиационного повреждения подложки протонами. 2. High voltage burning discharge, which leads to inefficiency of the generator. The high ion energy in the discharge promotes cathode erosion and increases the probability of radiation damage to the substrate by protons.
3. Высокое давление водорода в разрядной камере и, как следствие, в зоне обработки. 3. High pressure of hydrogen in the discharge chamber and, as a consequence, in the processing zone.
Целью настоящего изобретения является усовершенствование конструкции генератора для увеличения производительности и эффективности получения атомарного водорода. Увеличение выхода атомарного водорода из генератора и, следовательно, рост его концентрации в зоне обработки приводят к повышению эффективности и сокращению времени технологической операции. Кроме того, это позволяет проводить очистку поверхности подложки в условиях стандартного технологического вакуума (≈ 10-6 Торр), тогда как при малых концентрациях атомарного водорода необходимо поддерживать вакуум на уровне (10-7 10-9 Торр) [7]
Поставленная цель достигается тем, что предлагаемый генератор содержит устройство, создающее магнитное поле, обеспечивающее горение пенинговского газового разряда в разрядной камере, образуемой последовательно расположенными и имеющими общую ось симметрии теплоизолированным тонкостенным полым катодом, цилиндрическим анодом и отражательным /плоским/ катодом, выполненным из магнитного материала и имеющим эмиссионное отверстие. С целью увеличения объема области генерации с плотной плазмой полый катод проникает в полость цилиндрического анода. В результате этого между внешней поверхностью полого катода и внутренней поверхностью анода дополнительно инициируется магнетронный разряд.The aim of the present invention is to improve the design of the generator to increase the productivity and efficiency of producing atomic hydrogen. An increase in the yield of atomic hydrogen from the generator and, consequently, an increase in its concentration in the treatment zone lead to an increase in efficiency and a reduction in the time of the technological operation. In addition, this allows the surface of the substrate to be cleaned under standard technological vacuum (≈ 10 -6 Torr), while at low concentrations of atomic hydrogen it is necessary to maintain a vacuum at the level of (10 -7 10 -9 Torr) [7]
This goal is achieved by the fact that the proposed generator contains a device that creates a magnetic field that provides the burning of a Penning gas discharge in a discharge chamber formed by sequentially arranged and having a common axis of symmetry with a heat-insulated thin-walled hollow cathode, a cylindrical anode and a reflective / flat / cathode made of magnetic material and having an emission hole. In order to increase the volume of the generation region with a dense plasma, the hollow cathode penetrates the cavity of the cylindrical anode. As a result of this, a magnetron discharge is additionally initiated between the outer surface of the hollow cathode and the inner surface of the anode.
Конструкция предлагаемого генератора изображена на фиг. 2 и представляет собой осесимметричную систему, состоящую из тонкостенного теплоизолированного катода 1, цилиндрического анода 2, плоского катода 4 и устройства, создающего магнитное поле 5. Электроды 1, 2, 4 разделены цилиндрическими изоляторами 3. Эмиссионное отверстие 6 выполнено в плоском катоде. Держатель тонкостенного теплоизолированного полого катода, анод и плоский катод имеют принудительное водяное охлаждение. Электрическое питание генератора осуществляется от высоковольтного источника постоянного тока. Газовое питание осуществляется через натекатель, позволяющий регулировать давление газа в разрядной камере. The design of the proposed generator is shown in FIG. 2 and is an axisymmetric system consisting of a thin-walled thermally insulated cathode 1, a
Конструкция устройства разработана на следующих известных и установленных авторами экспериментально фактах. Разложение молекулярного водорода на атомарный может происходить посредством термо- или фотодиссоциации, а также диссоциации электронным ударом. Последний процесс наиболее эффективен, поэтому диссоциация в газовом разряде является предпочтительным способом получения атомарного водорода. Рост концентрации электронов в плазме, т.е. тока разряда, является основным механизмом, позволяющим значительно увеличить выход атомарного водорода. Увеличение времени жизни электронов (т.е. длины пробега до попадания на электрод или рекомбинации) и выбор их оптимальной энергии (т.е. напряжения горения разряда) также приводит к росту концентрации атомарного водорода в плазме. Наличие накаленных деталей в зоне разряда и излучение разрядом фотонов дополнительно увеличивают степень диссоциации водорода. The design of the device was developed on the following facts known and established experimentally by the authors. The decomposition of molecular hydrogen into atomic hydrogen can occur through thermo- or photodissociation, as well as dissociation by electron impact. The latter process is most effective, therefore, dissociation in a gas discharge is the preferred method for producing atomic hydrogen. An increase in the concentration of electrons in the plasma, i.e. discharge current, is the main mechanism to significantly increase the yield of atomic hydrogen. An increase in the electron lifetime (i.e., the mean free path before reaching the electrode or recombination) and the choice of their optimal energy (i.e., the discharge burning voltage) also lead to an increase in the concentration of atomic hydrogen in the plasma. The presence of glowing parts in the discharge zone and emission by the discharge of photons further increase the degree of hydrogen dissociation.
Экспериментально авторами установлено, что предлагаемая геометрия разрядной камеры приводит к увеличению производительности и эффективности получения атомарного водорода с помощью всех вышеуказанных механизмов. Увеличение концентрации электронов в плазме газового разряда происходит за счет возникновения термоэмиссии электронов из тонкостенного теплоизолированного полого катода. Под действием протекающего по нему разрядного тока он саморазогревается до высоких температур (≈ 2000oC). Эмиссия электронов в плазму приводит к увеличению тока разряда до нескольких ампер и снижению напряжения горения разряда до Up ≈ 50 100 В (см. вольт- амперную характеристику разряда, приведенную на фиг. 3). Введение части полого катода в полость цилиндрического анода способствует образованию дополнительного объема с плотной плазмой, в котором происходит эффективная генерация атомарного водорода. Эта плазма возбуждается между внешней стороной полого катода, введенного в полость анода, и внутренней стороной цилиндрического анода вследствие инициации между этими электродами магнетронного разряда. Кроме прямого увеличения тока разряда и, следовательно, количества диссоциированного водорода, магнетронный разряд приводит к дополнительному разогреву теплоизолированного полого катода. Рост времени жизни электронов в разряде происходит за счет удлинения траектории их движения в скрещенных магнитном и электрическом полях и осцилляции электронов между двумя катодами. Термодиссоциация водорода на накаленном тонкостенном теплоизолированном полом катоде и дополнительная фотодиссоциация, возникающая вследствие увеличения плотности плазмы и, следовательно, свечения разряда, также приводит к увеличению степени диссоциации молекулярного водорода. Оценки показывают, что количество атомарного водорода по отношению к общему числу напускаемого в камеру молекулярного водорода может достигать десяти процентов.The authors experimentally established that the proposed geometry of the discharge chamber leads to an increase in the productivity and efficiency of producing atomic hydrogen using all of the above mechanisms. An increase in the concentration of electrons in a gas discharge plasma occurs due to the occurrence of thermionic emission of electrons from a thin-walled heat-insulated hollow cathode. Under the influence of the discharge current flowing through it, it self-heats up to high temperatures (≈ 2000 o C). The emission of electrons into the plasma leads to an increase in the discharge current to several amperes and to a decrease in the burning voltage of the discharge to U p ≈ 50 100 V (see the current – voltage characteristic of the discharge shown in Fig. 3). The introduction of a part of the hollow cathode into the cavity of the cylindrical anode promotes the formation of an additional volume with a dense plasma, in which the effective generation of atomic hydrogen occurs. This plasma is excited between the outer side of the hollow cathode inserted into the anode cavity and the inner side of the cylindrical anode due to the initiation of a magnetron discharge between these electrodes. In addition to a direct increase in the discharge current and, consequently, the amount of dissociated hydrogen, the magnetron discharge leads to additional heating of the heat-insulated hollow cathode. An increase in the lifetime of electrons in a discharge occurs due to the lengthening of the trajectory of their motion in crossed magnetic and electric fields and the oscillation of electrons between two cathodes. Thermal dissociation of hydrogen on a heated thin-walled heat-insulated hollow cathode and additional photodissociation resulting from an increase in plasma density and, consequently, discharge glow, also lead to an increase in the degree of dissociation of molecular hydrogen. Estimates show that the amount of atomic hydrogen in relation to the total number of molecular hydrogen introduced into the chamber can reach ten percent.
Таким образом, предлагаемый генератор позволяет увеличить ток разряда по отношению к устройству- прототипу не менее чем в 30 раз, при этом потребляемая мощность возрастает только в 5 раз. Учитывая, что ток разряда напрямую связан с выходом атомарного водорода, можно сделать вывод, что предлагаемое устройство значительно повышает производительность получения атомарных частиц. Полагая, что эффективность получения атомарного водорода равна отношению тока разряда к вкладываемой в разряд электрической мощности, можно показать, что предлагаемое устройство позволяет увеличить эффективность получения атомарных частиц в несколько раз. Thus, the proposed generator allows to increase the discharge current in relation to the prototype device at least 30 times, while the power consumption increases only 5 times. Given that the discharge current is directly related to the output of atomic hydrogen, we can conclude that the proposed device significantly increases the productivity of producing atomic particles. Assuming that the efficiency of producing atomic hydrogen is equal to the ratio of the discharge current to the electric power deposited in the discharge, it can be shown that the proposed device can increase the efficiency of obtaining atomic particles by several times.
Снижение напряжения горения разряда в ≈ 6 раз по сравнению с устройством- прототипом позволяет увеличить срок службы электродов разрядной ячейки за счет снижения их распыления ионами водорода, значительно уменьшает вероятность радиационного повреждения обрабатываемой подложки ионами, вышедшими из разряда, и увеличивает эффективность работы устройства. Reducing the discharge burning voltage by ≈6 times compared with the prototype device allows to increase the service life of the electrodes of the discharge cell by reducing their sputtering by hydrogen ions, significantly reduces the likelihood of radiation damage to the treated substrate by the ions released from the discharge, and increases the efficiency of the device.
В предлагаемом устройстве функционирование разряда обеспечивается в широком диапазоне давлений водорода в разрядной камере от P ≈ 4 • 10-1 Торр (что реализуется и в устройстве, выбранном за прототип) до P ≈ 4 • 10-2 Торр, что ниже минимального давления, при котором возможна работа прототипа. Уменьшение минимального давления водорода в разряде приводит к существенному увеличению гибкости технологического процесса обработки полупроводниковых подложек и позволяет проводить ее при давлении в зоне обработки P ≈ 1 • 10-4 Торр. Согласно литературным данным [1, 4] это значение близко к оптимальному давлению для проведения очистки поверхности полупроводников. Кроме того, работа генератора при давлении газа в разряде P ≈ 4•10-2 Торр приводит к сокращению расхода водорода.In the proposed device, the operation of the discharge is ensured in a wide range of hydrogen pressures in the discharge chamber from P ≈ 4 • 10 -1 Torr (which is also implemented in the device selected for the prototype) to P ≈ 4 • 10 -2 Torr, which is lower than the minimum pressure, at which prototype operation is possible. A decrease in the minimum hydrogen pressure in the discharge leads to a significant increase in the flexibility of the technological process for processing semiconductor substrates and allows it to be carried out at a pressure in the treatment zone of P ≈ 1 • 10 -4 Torr. According to published data [1, 4], this value is close to the optimal pressure for cleaning the surface of semiconductors. In addition, the operation of the generator at a gas pressure in the discharge P ≈ 4 • 10 -2 Torr leads to a reduction in hydrogen consumption.
Управление производительностью генератора атомарного водорода и, следовательно, параметрами технологического процесса обработки полупроводниковой подложки производится посредством изменения разрядного тока и величины потока водорода, поступающего в разрядную камеру. The performance of the atomic hydrogen generator and, consequently, the parameters of the technological process of processing the semiconductor substrate are controlled by changing the discharge current and the magnitude of the flow of hydrogen entering the discharge chamber.
Тонкостенный теплоизолированный катод изготовляется из тугоплавких металлов, слабо реагирующих с водородом (например, Re, W). Толщина стенок катода определяется, с одной стороны, его механической прочностью, а с другой возможностью безынерционного эффективного нагрева катода протекающим по нему разрядным током. Эксперименты показали, что толщина d 100 мкм вполне удовлетворяет этим требованиям. A thin-walled heat-insulated cathode is made of refractory metals that weakly react with hydrogen (for example, Re, W). The thickness of the cathode walls is determined, on the one hand, by its mechanical strength, and, on the other hand, by the inertialess effective heating of the cathode by the discharge current flowing through it. Experiments have shown that a thickness of d 100 μm completely satisfies these requirements.
Держатель тонкостенного теплоизолированного катода и плоский катод, с целью концентрации магнитного поля в области горения разряда, изготавливаются из магнитных металлов. Например, можно использовать Ст3, 30Х13 и др. Цилиндрический анод изготавливается из немагнитного материала. Лучше всего для этой цели подходит нержавеющая сталь 12Х18Н10Т. Величина магнитного поля должна, с одной стороны, эффективно увеличивать длину траектории электрона в плазме, а с другой быть не больше величины, выше которой плотность плазмы уже практически не изменяется, а затраты на получение такого магнитного поля возрастают. Наиболее просто для создания магнитного поля использовать постоянные магниты. Магниты на основе сплава самария и кобальта, обеспечивающие магнитную индукцию 0,1 0,12 Тл, отвечают вышеприведенным требованиям. Размер эмиссионного отверстия в плоском катоде определяется перепадом давления, который необходимо получить между разрядной камерой и зоной обработки полупроводниковой подложки. Обычно этот размер составляет 1 - 3 мм. The holder of a thin-walled thermally insulated cathode and a flat cathode, for the purpose of concentration of the magnetic field in the region of the discharge burning, are made of magnetic metals. For example, you can use St3, 30X13, etc. A cylindrical anode is made of non-magnetic material. Stainless steel 12X18H10T is best suited for this purpose. The magnitude of the magnetic field should, on the one hand, effectively increase the length of the electron trajectory in the plasma, and on the other hand, be no greater than the value above which the plasma density practically does not change, and the cost of obtaining such a magnetic field increases. The easiest way to create a magnetic field is to use permanent magnets. Magnets based on an alloy of samarium and cobalt, providing a magnetic induction of 0.1 0.12 T, meet the above requirements. The size of the emission hole in the flat cathode is determined by the pressure drop that must be obtained between the discharge chamber and the processing zone of the semiconductor substrate. Usually this size is 1-3mm.
Ниже для иллюстрации эффектов, производимых вводимыми признаками, приведен пример, описанный со ссылками на чертежи. Below, to illustrate the effects produced by the introduced features, an example is described, described with reference to the drawings.
Пример. Example.
Получение атомарного водорода производилось с помощью генератора, представленного на Фиг. 2. Тонкостенный теплоизолированный полый катод 1, изготовленный из вольфрамовой фольги толщиной 100 мкм, проникал в полость цилиндрического анода 2 на длину, равную половине длины анода. При подаче напряжения на электроды в области 7 загорался пеннинговский отражательный разряд с полым катодом, а в области 8 -магнетронный разряд. После включения источника питания генератора разогрев полого катода до максимальной температуры и выход генератора на режим происходил за время 1 3 с. Характерная вольт-амперная характеристика (ВАХ) разряда приведена на Фиг. 3. Из сравнения режимов работы устройства-прототипа и данного генератора видно, что использование предлагаемого устройства позволяет увеличить разрядный ток в ≈ 30 раз при одновременном снижении напряжения горения в ≈ 6 раз. Потребляемая электрическая мощность при этом возросла только в 5 раз. Существование падающего участка ВАХ обусловлено термоэмиссией электронов из тонкостенного теплоизолированного катода, температура которого возрастает при увеличении разрядного тока. Atomic hydrogen was produced using the generator shown in FIG. 2. A thin-walled heat-insulated hollow cathode 1 made of 100 μm thick tungsten foil penetrated into the cavity of a
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU93026207A RU2088056C1 (en) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | Generator of atom hydrogen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU93026207A RU2088056C1 (en) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | Generator of atom hydrogen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU93026207A RU93026207A (en) | 1995-12-27 |
| RU2088056C1 true RU2088056C1 (en) | 1997-08-20 |
Family
ID=20141493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU93026207A RU2088056C1 (en) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | Generator of atom hydrogen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2088056C1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003075622A2 (en) * | 2002-03-04 | 2003-09-12 | Atomic Hydrogen Technologies Ltd. | A method and apparatus for producing atomic flows of molecular gases |
| RU2479167C1 (en) * | 2012-01-20 | 2013-04-10 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" | Apparatus for irradiating articles with stream of hydrogen atoms with thermal velocities |
-
1993
- 1993-05-07 RU RU93026207A patent/RU2088056C1/en active
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 1. Takeyoshi S., Mitsuo K. - Low - temperature cleaning of CaAs substrate by atomic hydrogen irradiation. - Jap. J. Appl. Phys. Pt.2, 1991. - 30, 3, p. L402-L404. 2. Pearton S.J., Haller E.E. - Palladium - and platium - related levels in silicon: Effect of hydrogen plasma - J.Appl. Phys 54. (6), 1983, p. 3613 - 3618. 3. Corbet J.W., Pearton S.J. M. Stavola. - Hydrogen in semicondustors. - Defect Contr. Semicon. Proc. Int. Conf. Sci. and Technol. Yokogama. 1989, Sept. 17 - 22. 4. Заявка N2 - 89313 Япония, кл. H 01 L 21/304, H 01 L 21/302, 1990. 5. Tanaka Y., Kunitsugu Y., Suemune i., Hond Y., Kan Y., Yammshi M. - Low - temperature CaAs epitaxial grouth using electron - cyclotron resonance / metallorganic - molecular - beam epitaxy. J. Appl. Phys. 64(5), 1988, p. 2778 - 2780. 6. Sherman A. - In situ removal of nativ oxide from silicon wafers. J. Vac. Sci. Technol. B8(4), 1990, p. 656 - 657 (прототип). 7. Nakashuma K., Ishi M., Tajima I., Yamamoto M. - Existence of treshold density in sil * |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003075622A2 (en) * | 2002-03-04 | 2003-09-12 | Atomic Hydrogen Technologies Ltd. | A method and apparatus for producing atomic flows of molecular gases |
| WO2003075622A3 (en) * | 2002-03-04 | 2003-12-18 | Atomic Hydrogen Technologies L | A method and apparatus for producing atomic flows of molecular gases |
| US6765216B2 (en) | 2002-03-04 | 2004-07-20 | Atomic Hydrogen Technologies Ltd. | Method and apparatus for producing atomic flows of molecular gases |
| RU2479167C1 (en) * | 2012-01-20 | 2013-04-10 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" | Apparatus for irradiating articles with stream of hydrogen atoms with thermal velocities |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4713585A (en) | Ion source | |
| US5639519A (en) | Method for igniting low pressure inductively coupled plasma | |
| Rocca et al. | Glow‐discharge‐created electron beams: Cathode materials, electron gun designs, and technological applications | |
| US4716491A (en) | High frequency plasma generation apparatus | |
| US5221427A (en) | Plasma generating device and method of plasma processing | |
| JP4511039B2 (en) | Metastable atom bombardment source | |
| US6765216B2 (en) | Method and apparatus for producing atomic flows of molecular gases | |
| EP0249658A2 (en) | Ion source device | |
| Gavrilov et al. | High-current pulse sources of broad beams of gas and metal ions for surface treatment | |
| JP4409846B2 (en) | High frequency electron source | |
| Tsai et al. | Plasma studies on a duoPIGatron ion source | |
| RU2088056C1 (en) | Generator of atom hydrogen | |
| Oates et al. | A high-current pulsed cathodic vacuum arc plasma source | |
| Torii et al. | A high‐current density and long lifetime ECR source for oxygen implanters | |
| US20020166975A1 (en) | Gaseous ion source feed for oxygen ion implantation | |
| US4869835A (en) | Ion source | |
| JPS6293834A (en) | Ion source | |
| JPH08102278A (en) | Device and method for generating ion beam | |
| Akhmadeev et al. | Plasma sources based on a low-pressure arc discharge | |
| Mozjetchkov et al. | Microwave plasma source for the negative hydrogen ion production | |
| US5569976A (en) | Ion emmiter based on cold cathode discharge | |
| EP0234702A2 (en) | Dual-discharge gas ion laser | |
| JPH11209105A (en) | Ozonizer | |
| JPH09245658A (en) | Plasma generating mechanism utilizing ecr resonance by permanent magnet | |
| JP2000090844A (en) | Ion source |