RU205730U1 - PYROLYZED LENS FOR X-RAY RADIATION - Google Patents
PYROLYZED LENS FOR X-RAY RADIATION Download PDFInfo
- Publication number
- RU205730U1 RU205730U1 RU2020144229U RU2020144229U RU205730U1 RU 205730 U1 RU205730 U1 RU 205730U1 RU 2020144229 U RU2020144229 U RU 2020144229U RU 2020144229 U RU2020144229 U RU 2020144229U RU 205730 U1 RU205730 U1 RU 205730U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- lens
- ray
- lenses
- photoresist
- curvature
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
Полезная модель относится к области рентгеновской оптики, а именно к устройствам фокусировки рентгеновского излучения на основе рентгеновской оптики. Устройство может быть использовано при реализации методов рентгеновской микроскопии, микротомографии, спектроскопии, флуоресцентной спектрометрии. Технический результат, достигаемый при использовании заявляемой полезной модели, заключается в уменьшении радиуса кривизны линзы в результате использования метода двухфотонной полимеризации с субмикронным разрешением и постобработки (пиролиза), позволяющего добиться кратного (преимущественно, пятикратного) уменьшения линейных размеров изготовленных структур. Заявляемый технический результат достигается тем, что линза для рентгеновского излучения, выполненная из фоторезиста и имеющая параболический профиль по меньшей мере одной рабочей поверхности, согласно техническому решению, представляет собой пиролизованную структуру и имеет радиус кривизны в вершине параболоида до 0,1 мкм. Техническим преимуществом заявляемой полезной модели является также повышение устойчивости линзы к рентгеновскому излучению за счет изменения химического состава материала для изготовления линз. 5 з.п. ф-лы, 2 ил.The utility model relates to the field of X-ray optics, namely, X-ray focusing devices based on X-ray optics. The device can be used to implement the methods of X-ray microscopy, microtomography, spectroscopy, fluorescence spectrometry. The technical result achieved with the use of the claimed utility model consists in reducing the radius of curvature of the lens as a result of using the method of two-photon polymerization with submicron resolution and post-processing (pyrolysis), which makes it possible to achieve a multiple (mainly fivefold) reduction in the linear dimensions of the manufactured structures. The claimed technical result is achieved in that the lens for X-ray radiation, made of photoresist and having a parabolic profile of at least one working surface, according to the technical solution, is a pyrolyzed structure and has a radius of curvature at the top of the paraboloid of up to 0.1 μm. The technical advantage of the claimed utility model is also an increase in the resistance of the lens to X-ray radiation by changing the chemical composition of the material for the manufacture of lenses. 5 p.p. f-ly, 2 dwg
Description
Область техники, к которой относится полезная модельTechnical field to which the utility model belongs
Полезная модель относится к области рентгеновской оптики, а именно к устройствам фокусировки рентгеновского излучения на основе рентгеновской оптики. Устройство может быть использовано при реализации методов рентгеновской микроскопии, микротомографии, спектроскопии, флуоресцентной спектрометрии.The utility model relates to the field of X-ray optics, namely, X-ray focusing devices based on X-ray optics. The device can be used to implement the methods of X-ray microscopy, microtomography, spectroscopy, fluorescence spectrometry.
Уровень техникиState of the art
Рентгеновская оптика - активно развивающаяся область науки, вызывающая огромный интерес благодаря возможности микроскопии и томографии объектов с высокой разрешающей способностью, определяемой использованием более коротких длин волн по сравнению с видимым световым диапазоном. Высокая проникающая способность позволяет использовать рентгеновское излучение для восстановления трехмерной структуры объектов. Для реализации таких оптических систем с наноразмерной разрешающей способностью необходимы устройства для фокусировки рентгеновских лучей. В простейшем случае таким устройством является собирающая линза, которая фокусирует излучение за счёт преломления световых лучей на изогнутой поверхности линзы. В более сложных случаях собирающая система состоит из системы линз или объективов. Типичная оптическая линза для видимого диапазона длин волн двумерная, то есть фокусирует параллельный луч света в двух направлениях - горизонтальном и вертикальном - в точечное изображение. Линза выполняется из прозрачного однородного материала, например, стекла, чтобы в ней не было поглощения и рассеяния света. В геометрии линзы можно выделить две рабочие поверхности - переднюю и заднюю, через которые свет входит и выходит из объёма линзы, соответственно. Именно форма поверхности обеспечивает преломление света. Характерным параметром рабочей поверхности линзы является радиус кривизны R. Рабочие поверхности линзы обычно обладают осью вращения, то есть линии симметрии вращения рабочей поверхности. При этом ось вращения является общей для передней и задней рабочих поверхностей, и называется оптической осью. На оптической оси располагается оптический центр линзы или точка, при прохождении через которую луч не испытывает преломления. Если луч света идет параллельно оптической оси, то линза сфокусирует свет в точке, находящейся на оптической оси. Расстояние от оптического центра линзы до фокуса называется фокусным расстоянием F. Это одна из главных характеристик линзы. Фокусное расстояние обратно пропорционально величине d: контрасту показателей преломления материала линзы и окружающей среды (обычно вакуума или воздуха, с показателем преломления, равным 1). В рентгеновском диапазоне этот контраст очень мал: d=(1-nх)~10-6-10-5, по сравнению с диапазоном видимого света dопт=0.1-0.3. Для того, чтобы уменьшить фокусное расстояние, используется набор N одинаковых линз c радиусом кривизны R, упорядоченных вдоль оптической оси - составная преломляющая рентгеновская линза (СПРЛ). В этом случае фокусное расстояние можно посчитать какX-ray optics is an actively developing field of science, which is of great interest due to the possibility of microscopy and tomography of objects with high resolution, determined by the use of shorter wavelengths than the visible light range. High penetrating power allows the use of X-rays to restore the three-dimensional structure of objects. To implement such optical systems with nanoscale resolution, X-ray focusing devices are needed. In the simplest case, such a device is a converging lens, which focuses radiation by refracting light rays on the curved surface of the lens. In more complex cases, the collecting system consists of a lens or objective lens system. A typical optical lens for the visible wavelength range is two-dimensional, that is, it focuses a parallel beam of light in two directions - horizontal and vertical - into a point image. The lens is made of a transparent homogeneous material, such as glass, so that there is no absorption and scattering of light. In the geometry of the lens, two working surfaces can be distinguished - front and rear, through which light enters and leaves the volume of the lens, respectively. It is the shape of the surface that ensures the refraction of light. The characteristic parameter of the working surface of the lens is the radius of curvature R. The working surfaces of the lens usually have an axis of rotation, that is, the lines of symmetry of rotation of the working surface. In this case, the axis of rotation is common for the front and rear working surfaces, and is called the optical axis. On the optical axis is the optical center of the lens or a point, when passing through which the beam does not undergo refraction. If the beam of light is parallel to the optical axis, then the lens will focus the light at a point located on the optical axis. The distance from the optical center of the lens to the focus is called the focal length F. This is one of the main characteristics of the lens. The focal length is inversely proportional to the d value: the contrast of the refractive indices of the lens material and the environment (usually vacuum or air, with a refractive index equal to 1). In the X-ray range, this contrast is very small: d = (1-n x ) ~ 10 -6 -10 -5 , compared with the range of visible light d opt = 0.1-0.3. In order to reduce the focal length, a set of N identical lenses with a radius of curvature R, ordered along the optical axis, is used - a composite refractive X-ray lens (SPRL). In this case, the focal length can be calculated as
Кроме того, показатель преломления в рентгеновском диапазоне меньше показателя преломления вакуума, поэтому для фокусировки используются линзы с вогнутыми рабочими поверхностями. Помимо этого, важно учитывать поглощение в массиве линз, которое может быть существенным из-за большого количества материала и приводить к деформации рабочих поверхностей. Дополнительно для уменьшения аберраций и потерь, приводящих к размытию точки фокуса, важно выдерживать форму рабочей поверхности линз и соосность массива линз. In addition, the refractive index in the X-ray range is lower than the refractive index of vacuum, therefore lenses with concave working surfaces are used for focusing. In addition, it is important to take into account the absorption in the lens array, which can be significant due to the large amount of material and lead to deformation of the working surfaces. In addition, it is important to maintain the shape of the working surface of the lenses and the alignment of the lens array to reduce aberrations and losses that lead to blurring of the focal point.
Как следствие, в рентгеновском диапазоне изготовление фокусирующих элементов является практической научной задачей, в которой важно добиться уменьшения фокусного расстояния линз, рентгеностойкости, точности формы рабочей поверхности линз и их соосности. As a consequence, in the X-ray range, the manufacture of focusing elements is a practical scientific task, in which it is important to achieve a decrease in the focal length of lenses, X-ray resistance, accuracy of the shape of the working surface of the lenses and their coaxiality.
Для изготовления СПРЛ используются различные материалы, в том числе металлы (литий, бериллий, алюминий), алмазы, кремний, углерод, полимеры. Основными способами изготовления линз являются механическая штамповка по форме (US005594773A, US 20040052331A1, US006269145, [2]). При этом минимальный достижимый радиус кривизны составляет от нескольких мкм до см, количество одиночных линз в СПРЛ меньше 100, и ошибка соосности составляет не менее 10 мкм. Таким образом, минимально достижимое фокусное расстояние составляет 30 см. Для изготовления линз из кремния и алмаза используется травление по маске [3,4]. Данный способ позволяет делать относительно большие массивы линз с нанометровой точностью, однако травление имеет выделенное направление перпендикулярно поверхности. Таким образом, из уровня техники неизвестны трёхмерные линзы, фокусирующие излучение в точку. Линзы, изготовленные указанным выше способом, фокусируют излучение только по одной координате (в линию). Для фокусировки рентгеновского излучения в точку требуется комбинация из двух подобных линз. Это налагает дополнительные условия на минимальную толщину материала, через который проходит рентгеновское излучение, и точность совмещения фокусных расстояний по двум направлениям.Various materials are used for the manufacture of SPRL, including metals (lithium, beryllium, aluminum), diamonds, silicon, carbon, polymers. The main methods for the manufacture of lenses are mechanical stamping in shape (US005594773A, US20040052331A1, US006269145, [2]). In this case, the minimum achievable radius of curvature is from several microns to cm, the number of single lenses in the SPRL is less than 100, and the alignment error is at least 10 microns. Thus, the minimum achievable focal length is 30 cm. For the manufacture of lenses from silicon and diamond, mask etching is used [3,4]. This method makes it possible to make relatively large arrays of lenses with nanometer accuracy, but the etching has a preferred direction perpendicular to the surface. Thus, the prior art does not know three-dimensional lenses that focus radiation to a point. Lenses made by the above method focus the radiation in only one coordinate (into a line). A combination of two of these lenses is required to focus the X-ray to a point. This imposes additional conditions on the minimum thickness of the material through which the X-ray radiation passes, and the accuracy of alignment of focal lengths in two directions.
Патент RU 2298852 C1 раскрывает полимерную рентгеновскую линзу с радиусом кривизны не менее 25 мкм. Так как в исходном материале наблюдается эффект памяти формы, возможно варьирование радиуса кривизны такой линзы за счёт приложения механического напряжения. Излучение с длиной волны 0.155 мкм фокусируется СПРЛ из 12 линз на расстоянии 49.6 см.Patent RU 2298852 C1 discloses a polymer X-ray lens with a radius of curvature of at least 25 microns. Since the shape memory effect is observed in the original material, it is possible to vary the radius of curvature of such a lens due to the application of mechanical stress. Radiation with a wavelength of 0.155 μm is focused by SPRL from 12 lenses at a distance of 49.6 cm.
Основным недостатком известной линзы является радиус кривизны линзы не менее 25 мкм, что приводит к фокусному расстоянию почти в полметра. В качестве материала линзы используется акрилатный полимер, который быстро деградирует в мощном рентгеновском излучении.The main disadvantage of the known lens is the radius of curvature of the lens of at least 25 microns, which leads to a focal length of almost half a meter. An acrylate polymer is used as the lens material, which degrades rapidly in powerful X-ray radiation.
В патенте RU 2366015 С1 рассмотрены полимерные линзы с минимизированной толщиной для уменьшения поглощения в полимере. Линзы обладают параболическим профилем, радиусом кривизны не менее 4 мкм и обеспечивают фокусное расстояние не менее 25 см для набора из 10 линз. Patent RU 2366015 C1 describes polymer lenses with a minimized thickness to reduce absorption in the polymer. The lenses have a parabolic profile, a radius of curvature of at least 4 microns and provide a focal length of at least 25 cm for a set of 10 lenses.
Экспериментально полученный радиус кривизны линз составляет не менее 4 мкм при расчетном значении менее 0.5 мкм, что свидетельствует о неточности профиля рабочей поверхности линзы при таком способе изготовления. Аналогично предыдущему известному решению, в качестве материала линзы используется акрилатный полимер, который быстро деградирует в мощном рентгеновском излучении.The experimentally obtained radius of curvature of the lenses is not less than 4 μm at a calculated value of less than 0.5 μm, which indicates the inaccuracy of the profile of the working surface of the lens with this manufacturing method. Similar to the previous known solution, an acrylate polymer is used as the lens material, which quickly degrades in powerful X-ray radiation.
Наиболее близкой по технической сущности к заявляемой полезной модели является линза, раскрытая в патенте RU 2692405, где описан процесс изготовления линз из полимерных материалов методом двухфотонной литографии. В результате его применения получают линзу для рентгеновского излучения, выполненную из полимерного материала, включающую по меньшей мере одну рабочую поверхность, выполненную в виде параболоида вращения с радиусом кривизны в вершине параболоида до 0,4 мкм.The closest in technical essence to the claimed utility model is the lens disclosed in patent RU 2692405, which describes the process of manufacturing lenses from polymer materials by the method of two-photon lithography. As a result of its application, a lens for X-ray radiation is obtained, made of a polymer material, including at least one working surface made in the form of a paraboloid of revolution with a radius of curvature at the apex of the paraboloid of up to 0.4 μm.
Данное решение обладает рядом недостатков. Во-первых, минимальный размер радиуса кривизны рабочей поверхности составляет 0.4 мкм, что затрудняет возможность использования таких линз при необходимости достижения наноразмерных фокусных расстояний. Во-вторых, полимерный материал, используемый для изготовления линз, обладает низкой рентгеностойкостью. Было показано, что фокусирующие свойства подобных рентгенооптических элементов деградируют после 6 часов синхротронного излучения [1]. С учетом того, что стандартное время измерения для одного эксперимента на синхротроне составляет неделю (в режиме 7 дней в неделю, 24 часа), время стабильной работы рентгеновской линзы является важной характеристикой. This solution has several disadvantages. First, the minimum size of the radius of curvature of the working surface is 0.4 μm, which makes it difficult to use such lenses when it is necessary to achieve nanoscale focal lengths. Secondly, the polymer material used for the manufacture of lenses has a low X-ray resistance. It was shown that the focusing properties of such X-ray optical elements degrade after 6 hours of synchrotron radiation [1]. Taking into account that the standard measurement time for one experiment at the synchrotron is a week (in the mode 7 days a week, 24 hours), the time of stable operation of the X-ray lens is an important characteristic.
Таким образом, техническая проблема, решаемая посредством заявляемой полезной модели, заключается в необходимости преодоления недостатков, присущих аналогам и прототипу, за счет разработки оптической трехмерной преломляющей рентгеновской линзы, выполненной при помощи аддитивных технологий из оптически прозрачных полимеров, предназначенной для фокусировки, сбора и коллимации рентгеновского излучения с длиной волны менее 10 нм.Thus, the technical problem solved by the claimed utility model consists in the need to overcome the disadvantages inherent in analogs and the prototype by developing an optical three-dimensional refractive X-ray lens, made using additive technologies from optically transparent polymers, designed for focusing, collecting and collimating X-ray radiation with a wavelength of less than 10 nm.
Раскрытие полезной моделиDisclosure of a utility model
Технический результат, достигаемый при использовании заявляемой полезной модели, заключается в уменьшении радиуса кривизны линзы в результате использования метода двухфотонной полимеризации с субмикронным разрешением и постобработки (пиролиза), позволяющего добиться кратного (более чем в 3 раза) уменьшения линейных размеров изготовленных структур. The technical result achieved with the use of the claimed utility model consists in reducing the radius of curvature of the lens as a result of using the method of two-photon polymerization with submicron resolution and post-processing (pyrolysis), which makes it possible to achieve a multiple (more than 3 times) reduction in the linear dimensions of the manufactured structures.
Техническим преимуществом заявляемой полезной модели является также повышение устойчивости линзы к рентгеновскому излучению за счет изменения химического состава материала для изготовления линзThe technical advantage of the claimed utility model is also an increase in the resistance of the lens to X-ray radiation by changing the chemical composition of the material for the manufacture of lenses
Технический результат достигается в результате применения метода двухфотонной полимеризации с субмикронным разрешением и постобработки (пиролиза) исходного полимерного материала. The technical result is achieved as a result of applying the method of two-photon polymerization with submicron resolution and post-processing (pyrolysis) of the original polymer material.
Заявляемый технический результат достигается тем, что линза для рентгеновского излучения, выполненная из фоторезиста, и имеющая параболический профиль по меньшей мере, одной рабочей поверхности, согласно техническому решению, представляет собой пиролизованную структуру и имеет радиус кривизны в вершине параболоида до 0,1 мкм. Линза может содержать две рабочие поверхности в виде параболоида вращения с вершинами, расположенными на одной оптической оси линзы. Рабочая поверхность линзы имеет выпуклую или вогнутую форму, при этом минимальное расстояние между вогнутыми рабочими поверхностями в вершинах параболоидов составляет до 0.1 мкм. Линза расположена на основании, обеспечивающем увеличение расстояния между оптической осью и подложкой. В качестве фоторезиста, в целом, могут быть использованы как коммерчески доступные, так и изготовленные в лабораторных условиях фоточувствительные полимеры. В качестве фоторезиста используют Ormocomp, SZ2080 или IP-Dip, SU8. В составе фоторезистов предпочтительно использование химических элементов с низким атомным числом, таких как водород и углерод, для которых характерно низкое поглощение рентгеновского излучения. The claimed technical result is achieved in that the lens for X-ray radiation, made of photoresist, and having a parabolic profile of at least one working surface, according to the technical solution, is a pyrolyzed structure and has a radius of curvature at the top of the paraboloid of up to 0.1 μm. The lens can contain two working surfaces in the form of a paraboloid of revolution with vertices located on the same optical axis of the lens. The working surface of the lens has a convex or concave shape, while the minimum distance between the concave working surfaces at the vertices of paraboloids is up to 0.1 μm. The lens is located on a base that provides an increase in the distance between the optical axis and the substrate. As a photoresist, in general, both commercially available and laboratory-made photosensitive polymers can be used. Ormocomp, SZ2080 or IP-Dip, SU8 are used as photoresist. In the composition of photoresists, it is preferable to use chemical elements with a low atomic number, such as hydrogen and carbon, which are characterized by low absorption of X-ray radiation.
Заявляемая линза получена в результате применения способа изготовления пиролизованных рентгеновских линз, включающего следующие этапы:The claimed lens is obtained by applying a method for manufacturing pyrolyzed X-ray lenses, which includes the following steps:
1) Нанесение фоторезиста на подложку.1) Applying a photoresist to a substrate.
2) Экспонирование подложки, то есть печать структуры сфокусированным лазерным излучением в режиме двухфотонной литографии.2) Exposure of the substrate, that is, printing the structure with focused laser radiation in the two-photon lithography mode.
3) Проявка экпонированного образца.3) Development of the exposed sample.
4) Пиролиз изготовленных структур, т.е. высокотемпературный отжиг в инертной атмосфере. 4) Pyrolysis of the fabricated structures, i.e. high-temperature annealing in an inert atmosphere.
Этап пиролиза позволил достичь двух важных результатов. Во-первых, под действием температуры испаряются органические материалы, которые в ином случае деградировали бы под действием рентгеновского излучения. Пиролизованный материал свободен от органических составляющих и обладает повышенными прочностными характеристиками, как механическими, так и стойкостью к излучению и температурным нагревам. Во-вторых, пиролиз приводит к появлению усадки линз и сглаживанию возможных дефектов поверхности линзы. Корректный подбор параметров пиролиза позволяет достичь изотропной усадки изготовленной структуры, так что линза равномерно сжимается по трём пространственным направлениям. Это также означает, что радиус кривизны линзы уменьшается пропорционально коэффициенту усадки, что и позволило получить линзы с радиусом кривизны до 0,1 мкм. При этом, так как фокусное расстояние определяется радиусом кривизны рабочих поверхностей линзы (см. (1)), то использование пиролиза приводит к линзам с уменьшенным фокусным расстоянием. Таким образом, использование пиролиза позволяет достичь лучшего разрешения. При этом коэффициент усадки зависит от вида полимера, температуры и времени отжига. Контролируя эти параметры, можно задавать требуемый коэффициент усадки и, как следствие, регулировать получаемое фокусное расстояние линзы. Коэффициент усадки может варьироваться в диапазоне 1…5.The pyrolysis stage allowed two important results to be achieved. First, temperature evaporates organic materials that would otherwise be degraded by X-ray radiation. The pyrolyzed material is free of organic components and has increased strength characteristics, both mechanical and resistance to radiation and thermal heating. Secondly, pyrolysis leads to lens shrinkage and smoothing of possible lens surface defects. Correct selection of pyrolysis parameters makes it possible to achieve isotropic shrinkage of the fabricated structure, so that the lens is uniformly compressed in three spatial directions. This also means that the radius of curvature of the lens decreases in proportion to the shrinkage factor, which made it possible to obtain lenses with a radius of curvature of up to 0.1 μm. In this case, since the focal length is determined by the radius of curvature of the working surfaces of the lens (see (1)), the use of pyrolysis leads to lenses with a reduced focal length. Thus, the use of pyrolysis allows a better resolution to be achieved. In this case, the shrinkage coefficient depends on the type of polymer, temperature and time of annealing. By controlling these parameters, it is possible to set the required shrinkage coefficient and, as a consequence, to adjust the resulting focal length of the lens. The shrinkage factor can vary in the
Заявляемая полезная модель более подробно описана ниже с использованием следующих терминов, определений и сокращений.The claimed utility model is described in more detail below using the following terms, definitions and abbreviations.
Рентгеновское излучение - электромагнитное излучение с длиной волны в диапазоне от 10-4 нм до 10 нм.X-ray radiation - electromagnetic radiation with a wavelength in the range from 10 -4 nm to 10 nm.
Линза - устройство для управления светом (фокусировки или рассеяния) через эффект преломления света, представляющее собой прозрачный однородный материал, ограниченный двумя преломляющими поверхностями. Lens - a device for controlling light (focusing or scattering) through the effect of light refraction, which is a transparent homogeneous material bounded by two refractive surfaces.
Рабочая поверхность линзы - одна из двух преломляющих поверхностей линзы.The working surface of the lens is one of the two refractive surfaces of the lens.
Поверхность вращения - поверхность, образованная при вращении произвольной линии вокруг прямой линии.Surface of revolution - a surface formed by rotating an arbitrary line around a straight line.
Ось вращения - прямая, вращением вокруг которой образована ось вращения.The axis of rotation is a straight line, by rotation around which the axis of rotation is formed.
Оптическая ось (главная оптическая ось) - прямая, совпадающая с осью вращения рабочих поверхностей линзы.Optical axis (main optical axis) is a straight line coinciding with the axis of rotation of the working surfaces of the lens.
Оптический центр линзы - точка, при прохождении через которую луч не испытывает преломления в линзе.The optical center of a lens is a point through which the beam does not undergo refraction in the lens.
Фокус (главный фокус) оптической системы - точка, в которой собираются прошедшие через оптическую систему лучи (или их продолжения для рассеивающих систем) при падении на оптическую систему параллельного оптической оси пучка лучей.Focus (main focus) of the optical system - the point at which the rays passed through the optical system (or their extensions for scattering systems) are collected when they fall on the optical system parallel to the optical axis of the beam of rays.
Фокусное расстояние линзы (оптической системы) - расстояние от оптического центра линзы (от точки пересечения первой рабочей поверхности оптической системы с оптической осью) до точки фокуса. The focal length of the lens (optical system) is the distance from the optical center of the lens (from the point of intersection of the first working surface of the optical system with the optical axis) to the focal point.
Декремент показателя преломления вещества - отличие показателя преломления вещества от единицы, d=1-n. The decrement of the refractive index of a substance is the difference between the refractive index of a substance from unity, d = 1-n.
Аберрации - искажения при построении изображений.Aberrations are distortions in the construction of images.
Сферические аберрации - аберрации, обусловленные тем, что фокусы параллельных лучей света, идущих на разном расстоянии от оптической оси линзы, не совпадают.Spherical aberrations are aberrations caused by the fact that the focuses of parallel light rays traveling at different distances from the optical axis of the lens do not coincide.
Пиролиз - высокотемпературный отжиг в инертной атмосфереPyrolysis - high temperature annealing in an inert atmosphere
СЭМ - сканирующая электронная микроскопияSEM - Scanning Electron Microscopy
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ОБОЗНАЧЕНИЙ LIST OF SYMBOLS USED
R - радиус кривизны поверхностиR - radius of curvature of the surface
n - показатель преломления веществаn is the refractive index of the substance
nопт - показатель преломления вещества в видимом диапазоне электромагнитного излученияn opt - the refractive index of a substance in the visible range of electromagnetic radiation
nх - показатель преломления вещества в рентгеновском диапазоне электромагнитного излученияn x is the refractive index of a substance in the X-ray range of electromagnetic radiation
F - фокусное расстояниеF - focal length
N - число элементов в составной преломляющей рентгеновской линзеN is the number of elements in a composite refractive X-ray lens
d=mod(1-n) - декремент показателя преломленияd = mod (1-n) - refractive index decrement
T - температураT - temperature
Краткое описание чертежейBrief Description of Drawings
Полезная модель поясняется следующими чертежами.The utility model is illustrated by the following drawings.
На фиг. 1 представлена характерная трёхмерная модель рентгеновской линзы, полученная в соответствии с примером конкретного выполнения заявляемого способа. Все размеры приведены в мкм. Слева (а) - трёхмерное изображение, справа (b) - вертикальное сечение. FIG. 1 shows a typical three-dimensional model of an X-ray lens, obtained in accordance with an example of a specific implementation of the proposed method. All dimensions are in microns. Left (a) - 3D image, right (b) - vertical section.
На фиг. 2 представлено СЭМ-изображение линзы из полимера SZ2080, до (а) и после (b) пиролиза. FIG. 2 shows an SEM image of an SZ2080 polymer lens, before (a) and after (b) pyrolysis.
Осуществление полезной моделиImplementation of the utility model
Общий вид заявляемой линзы (в одном из возможных вариантов реализации) представлен на фиг. 1. Для изготовления заявляемой линзы на первом этапе может быть использован метод двухфотонной лазерной литографии - метод фотолитографии, основанный на явлении двухфотонного поглощения ([Malinauskas M. et al. “Ultrafast laser nanostructuring of photopolymers: A decade of advances”, Physics Reports, 2013]. Этот метод позволяет изготавливать трехмерные полимерные структуры с разрешением, превосходящим дифракционный предел. На втором этапе для получения линзы с заявляемыми характеристиками выполняют высокотемпературный отжиг изготовленной в результате применения метода двухфотонной лазерной литографии структуры.The general view of the claimed lens (in one of the possible embodiments) is shown in Fig. 1. For the manufacture of the claimed lens at the first stage, the method of two-photon laser lithography can be used - a photolithography method based on the phenomenon of two-photon absorption ([Malinauskas M. et al. “Ultrafast laser nanostructuring of photopolymers: A decade of advances”, Physics Reports, 2013 This method makes it possible to produce three-dimensional polymer structures with a resolution exceeding the diffraction limit.At the second stage, to obtain a lens with the claimed characteristics, high-temperature annealing of the structure made as a result of using the method of two-photon laser lithography is performed.
1. В качестве материала для печати используют фоторезист, чувствительный к излучению второй гармоники от излучения используемого лазера. Возможно использование как коммерчески доступных фоторезистов, так и других, например, изготовленных самостоятельно в лабораторных условиях. В случае использования полностью органического фоторезиста (например, IP-Dip), получаемый после пиролиза материал будет аморфным кремнием. При использовании комбинированного органо-неорганического фоторезиста (например, SZ2080 и Ormocomp) после пиролиза возможно достижение иных материалов, например, плавленого кварца или допированного стекла. 1. A photoresist sensitive to the second harmonic radiation from the radiation of the laser used is used as a material for printing. It is possible to use both commercially available photoresists and others, for example, made independently in the laboratory. In the case of using a completely organic photoresist (for example, IP-Dip), the material obtained after pyrolysis will be amorphous silicon. When using a combined organo-inorganic photoresist (eg SZ2080 and Ormocomp) after pyrolysis, it is possible to reach other materials, eg fused silica or doped glass.
Фоторезист наносят на очищенную подложку. В качестве подложки может быть использовано стекло, кремний, специализированная мембрана из нитрида кремния для проведения синхротронных исследований. Для очистки подложки может использоваться ацетон, изопропиловый спирт, дистиллированная вода, раствор пираньи, сжиженный газ и другие компоненты. Нанесение фоторезиста производят специальным дозатором. Для контроля толщины нанесенного слоя фоторезиста может использоваться вспомогательная вставка заданной высоты (спейсер), либо спинкоатер. В случае использования ячейки второй подложкой накрывают нанесённый фоторезист частично или полностью, создавая «сэндвич» из двух пластин с фоторезистом посередине. The photoresist is applied to the cleaned substrate. Glass, silicon, a specialized silicon nitride membrane for synchrotron studies can be used as a substrate. Acetone, isopropyl alcohol, distilled water, piranha solution, liquefied gas and other components can be used to clean the substrate. The photoresist is applied with a special dispenser. To control the thickness of the applied photoresist layer, an auxiliary insert of a given height (spacer) or a spincoater can be used. In the case of using the cell, the applied photoresist is partially or completely covered with the second substrate, creating a "sandwich" of two plates with the photoresist in the middle.
В качестве установки для двухфотонной литографии возможно использование коммерчески доступных установок: Nanoscribe, Tetra, MicroLight3D, LightFab и т.д. Также возможно использование самостоятельно собранных установок для лазерной печати. Типичная схема установки представлена в публикации [5]. As an installation for two-photon lithography, it is possible to use commercially available installations: Nanoscribe, Tetra, MicroLight3D, LightFab, etc. It is also possible to use self-assembled laser printing machines. A typical installation scheme is presented in publication [5].
Линзы устанавливают на подставку для уменьшения влияния подложки на линзы при пиролизе. В качестве подставки может быть использована модель со сплошным заполнением, сетчатая структура, набор колонн и другие варианты, обеспечивающие механическое сопряжение с моделью и подложкой. Высота подставки зависит от материала фоторезиста и пиковой температуры отжига и составляет не менее 10 мкм. Для температуры 690οС высота подставки составляет 35 мкм, для 900οС - 50 мкм.The lenses are mounted on a support to reduce the effect of the support on the lenses during pyrolysis. A solid filled model, mesh structure, a set of columns and other options that provide mechanical interface with the model and the substrate can be used as a support. The height of the stand depends on the photoresist material and the peak annealing temperature and is at least 10 microns. For temperature 690 ο C pedestal height of 35 microns to 900 ο C - 50 microns.
После процесса печати в объёме фоторезиста содержится напечатанная модель. After the printing process, the photoresist volume contains the printed model.
Для удаления неэкспонированного фоторезиста образец помещают в проявитель. Тип проявителя подбирается под фоторезист. Можно использовать OrmoDev, PGMEA, метилизобутил кетон. Время проявки может варьироваться от 5 минут до 2 суток. Время проявки зависит от типа проявителя и типа подложки и в среднем составляет около 2 часов. После проявки образец можно промыть, например, водой либо спиртом. Также допускается дополнительное экспонирование под УФ-лампой для придания большей механической стойкости изготовленным линзам. To remove unexposed photoresist, the sample is placed in a developer. The type of developer is selected for the photoresist. OrmoDev, PGMEA, methyl isobutyl ketone can be used. Development time can vary from 5 minutes to 2 days. The development time depends on the type of developer and the type of substrate and is on average about 2 hours. After development, the sample can be rinsed with, for example, water or alcohol. Additional exposure under a UV lamp is also allowed to impart greater mechanical resistance to the manufactured lenses.
2. Для пиролиза изготовленной линзы используют печь с возможностью контроля температуры и атмосферы, способная нагреться до установленной пиковой температуры. Изготовленный образец кладут в камеру печи. Затем в камере печи устанавливают постоянный поток инертного газа. Процесс пиролиза можно разбить на три стадии: нагрев до пиковой температуры, выдержка в течение определённого времени на пиковой температуре, охлаждение до комнатной температуры. На данном этапе изготовления важен медленный нагрев и охлаждение (не быстрее 30οС/мин) для того, чтобы не повредить изготовленные структуры сильными колебаниями температуры. Минимальная пиковая температура составляет 450οС, до этого не будет наблюдаться существенного изменения химического состава. Дальнейший подбор пиковой температуры пиролиза зависит от нескольких факторов: скорость и время нагрева (чем меньше скорость и время, тем выше может быть пиковая температура), материал подложки (подложка должна быть устойчива к пиковой температуре), тип фоторезиста, требуемый коэффициент усадки линз (чем выше температура, тем больше усадка). Процесс выделения веществ прекращается при температурах выше 650οС. При температуре 900οС структуры существенно меняются, усаживаясь в 5 раз. Время выдержки при пиковой температуре составляет от нескольких минут до часа. На третьей стадии образец охлаждается. Охлаждение можно задавать контролируемо, уменьшая температуру в печи с постоянной скоростью. Также допустимо охлаждение путём выключения печи. В этом случае линзы охлаждаются со временем не по линейной зависимости от времени, но скорость охлаждения достаточно медленная, чтобы линзы не деформировались из-за перепадов температуры. После окончания пиролиза в камеру возвращается воздух, и изготовленные линзы готовы к использованию. Весь процесс отжига занимает от нескольких часов до нескольких десятков часов. 2. For pyrolysis of the manufactured lens, a temperature and atmosphere controlled oven capable of heating to a specified peak temperature is used. The prepared sample is placed in the oven chamber. A constant flow of inert gas is then set in the furnace chamber. The pyrolysis process can be divided into three stages: heating to the peak temperature, holding for a certain time at the peak temperature, and cooling to room temperature. At this stage of manufacturing, slow heating and cooling is important (not faster than 30 ο C / min) in order not to damage the fabricated structures by strong temperature fluctuations. Minimum peak temperature is 450 ο C before will not be observed a significant change in chemical composition. Further selection of the peak pyrolysis temperature depends on several factors: the heating rate and time (the slower the rate and time, the higher the peak temperature can be), the substrate material (the substrate must be resistant to the peak temperature), the type of photoresist, the required lens shrinkage ratio (the the higher the temperature, the greater the shrinkage). The process of release of substances stops at temperatures above 650 ο С. At a temperature of 900 ο С, the structures change significantly, shrinking 5 times. The holding time at peak temperature ranges from a few minutes to an hour. In the third stage, the sample is cooled. Cooling can be set in a controlled manner by decreasing the oven temperature at a constant rate. Cooling by turning off the oven is also permissible. In this case, the lenses are cooled over time, not linearly with time, but the cooling rate is slow enough so that the lenses do not deform due to temperature changes. After the end of pyrolysis, air returns to the chamber, and the manufactured lenses are ready for use. The entire annealing process takes from several hours to several tens of hours.
Настоящая полезная модель поясняется конкретными примерами исполнения, которые наглядно демонстрируют возможность достижения требуемого технического результата. The present utility model is illustrated by specific examples of execution, which clearly demonstrate the possibility of achieving the required technical result.
Примеры конкретного выполненияExamples of specific implementation
Пример. Линзы заявляемой конструкции были изготовлены с использованием метода двухфотонной лазерной литографии. Экспериментальная установка двухфотонной лазерной литографии основана на титан-сапфировом фемтосекундном лазере с центральной длиной волны 800 нм, шириной спектра 25 нм, частотой повторения импульсов 80 МГц и интегральной мощностью 580 мВт. Для реализации способа используют титан-сапфировый лазер, генерирующий лазерные импульсы с центральной длиной волны 800 нм, шириной спектра 25 нм, частотой следования 80 МГц и интегральной мощностью 600 мВт. Призменный прекомпрессор позволяет достигать значения длительности импульсов в объеме фоторезиста 80 фс. Система контроля мощности состоит задаёт мощность излучения с шагом менее 0.1 мВт. Акустооптический модулятор используется в качестве затвора. Перемещение перетяжки в объеме фоторезиста осуществляется при помощи двухкоординатного быстрого механизированного гальвозеркала и пьезотранслятора. объектива. Излучение лазера фокусируется с помощью объектива в область фоторезиста, нанесенного тонким слоем (до 200 мкм) на подложку. Юстировка положения ячейки, определение положения перетяжки сфокусированного излучения, а также визуализация процесса изготовления производится при помощи КМОП камеры и системы освещения на просвет, собранной по схеме Келлера. Задавая положение фокуса излучения, можно локально модифицировать фоторезист, рисуя трехмерные объекты, в нашем случае - линзы для рентгеновского излучения.Example. The lenses of the claimed design were manufactured using the method of two-photon laser lithography. The experimental setup for two-photon laser lithography is based on a titanium-sapphire femtosecond laser with a center wavelength of 800 nm, a spectrum width of 25 nm, a pulse repetition rate of 80 MHz, and an integrated power of 580 mW. To implement the method, a titanium-sapphire laser is used that generates laser pulses with a center wavelength of 800 nm, a spectrum width of 25 nm, a repetition rate of 80 MHz and an integrated power of 600 mW. The prismatic precompressor makes it possible to achieve a pulse duration of 80 fs in the photoresist volume. The power control system consists of setting the radiation power in steps of less than 0.1 mW. An acousto-optic modulator is used as a shutter. The movement of the waist in the volume of the photoresist is carried out using a two-coordinate fast mechanized galvanic mirror and a piezotranslator. lens. The laser radiation is focused with a lens into the region of a photoresist deposited in a thin layer (up to 200 μm) on a substrate. The adjustment of the cell position, determination of the position of the waist of the focused radiation, as well as the visualization of the manufacturing process are performed using a CMOS camera and a transmission illumination system assembled according to the Keller scheme. By specifying the position of the focus of the radiation, it is possible to locally modify the photoresist by drawing three-dimensional objects, in our case, lenses for X-ray radiation.
В качестве модели линзы для дальнейшей печати использовалась трехмерная модель, представленная на фиг. 1. Рабочие поверхности линзы представляли собой параболоиды вращения с радиусом 5 мкм и апертурой 28 мкм, перетяжка (минимальное расстояние между рабочими поверхностями - 1 мкм. Линза располагалась на подставке, представлявшей из себя сплошной параллелепипед размерами 30×40,2х50 мкм. Вариант линзы, изготовленной из фоторезиста SZ2080, представлен на фиг. 2.A three-dimensional model shown in Fig. 2 was used as a lens model for further printing. 1. The working surfaces of the lens were paraboloids of revolution with a radius of 5 microns and an aperture of 28 microns, a constriction (the minimum distance between the working surfaces is 1 micron. The lens was placed on a stand, which was a solid parallelepiped with dimensions of 30 × 40.2 × 50 microns. made from SZ2080 photoresist is shown in Fig. 2.
Линзы изготавливались из коммерчески доступных фоторезистов, способных к дальнейшей пиролизной обработке, в том числе Ormocomp, IP-Dip и SZ2080. В качестве подложек использовались кремниевые пластины толщиной 1 мм и покровные стёкла толщиной от 100 до 200 мкм. Проявка изготовленных линз производилась в растворителе метилизобутил кетон в течение 2 часов. The lenses were made from commercially available pyrolysis-capable photoresists, including Ormocomp, IP-Dip, and SZ2080. Silicon wafers with a thickness of 1 mm and cover glasses with a thickness of 100 to 200 μm were used as substrates. The developed lenses were developed in methyl isobutyl ketone solvent for 2 hours.
Отжиг произведенных линз производился в горизонтальной трубчатой печи в атмосфере аргона. При отжиге выделялось три стадии:The lenses produced were annealed in a horizontal tube furnace in an argon atmosphere. During annealing, three stages were distinguished:
1) Линейный нагрев от комнатной температуры до пиковой температуры отжига со скоростью 1.5οС/мин..1) Linear heating from room temperature to peak annealing temperature at a rate of 1.5 ο C / min.
2) Выдержка при пиковой температуре Tmax в течение 30 минут. 2) Exposure at peak temperature T max for 30 minutes.
3) Выключение печи и последующее охлаждение до комнатной температуры.3) Turn off the oven and then cool down to room temperature.
В качестве пиковой температуры Tmax использовалось 2 основных значения: 450οС и 690οС. Выбор этих двух значений обусловлен тем, что процесс модификации состава полимера начинается при 450οС и гарантированно прекращается при 690οС (так как эта температура выше 650οС). Поэтому эти значения определяют диапазон изменения химического состава. При температурах выше 900οС структуры могут сильно деформироваться, либо полностью исчезать с подложки. Состав материала изготовленных линз определялся при помощи энергодисперсионной спектроскопии. В таблице 1 приведены результаты элементного анализа материала линз в процессе пиролиза.As the peak temperature T max used two basic values: 450 ο 690 ο C and S. The choice of these two values is due to the fact that the composition of the polymer modification process begins at 450 ο C and guaranteed to be terminated at 690 ο C (as this temperature is above 650 ο C). Therefore, these values determine the range of changes in the chemical composition. At temperatures above 900 ο C structure can greatly deform or completely disappear from the substrate. The material composition of the manufactured lenses was determined using energy dispersive spectroscopy. Table 1 shows the results of elemental analysis of the lens material during pyrolysis.
Таблица 1. Влияние пиролиза на элементный состав материала рентгеновской линзыTable 1. Influence of pyrolysis on the elemental composition of the X-ray lens material
SZ2080
SZ2080
Измерение геометрических размеров линз до и после пиролиза производилось при помощи сканирующей электронной микроскопии (СЭМ). На фиг. 4 показаны СЭМ-изображения одиночной линзы до и после пиролиза при пиковой температуре 690οС, выполненной из полимера SZ2080. По микрофотографиям СЭМ определялись радиусы кривизны рабочих поверхностей R до (Ri) и после (Rf) пиролиза. Радиусы кривизны линз, полученных в соответствии с прототипом, составляли до 0,5-0,4 мкм, а в результате введения дополнительной стадии отжига, радиус кривизны удалось уменьшить до 0,1 мкм (усадка линзы составила до 5). Коэффициент усадки структуры рассчитывался как отношение радиусов кривизны до и после пиролиза: k=Ri/Rf. Для фоторезиста SZ2080 коэффициент усадки составил 1.2 при 450οС и 1.6 при 690οС. На фиг. 5 показано СЭМ-изображение массива из 4 линз после пиролиза при пиковой температуре 450οС, выполненного из полимера Ormocomp. Для фоторезиста Ormocomp коэффициент усадки составил 2.0 при 450οС и 2.4 при 690οС. Следует отметить, коэффициент усадки и, соответственно, радиус кривизны линзы также будет меняться при изменении времени выдержки при пиковой температуре.Measurement of the geometric dimensions of the lenses before and after pyrolysis was carried out using scanning electron microscopy (SEM). FIG. 4 shows a single-lens SEM images before and after the pyrolysis at a peak temperature of 690 ο C made of resin SZ2080. The SEM micrographs were used to determine the radii of curvature of the working surfaces R before (R i ) and after (R f ) pyrolysis. The radii of curvature of the lenses obtained in accordance with the prototype were up to 0.5-0.4 μm, and as a result of the introduction of an additional stage of annealing, the radius of curvature was reduced to 0.1 μm (the shrinkage of the lens was up to 5). The shrinkage coefficient of the structure was calculated as the ratio of the radii of curvature before and after pyrolysis: k = R i / R f . For photoresist SZ2080 shrinkage ratio was 1.2 at 450 ο C and 1.6 at 690 ο C. FIG. 5 shows an SEM image of the array of lenses 4 after pyrolysis at a peak temperature of 450 ο C Ormocomp made of a polymer. For the Ormocomp photoresist, the shrinkage factor was 2.0 at 450 ο C and 2.4 at 690 ο C. It should be noted that the shrinkage factor and, accordingly, the radius of curvature of the lens will also change with a change in the exposure time at the peak temperature.
Таблица 2. Коэффициент усадки пиролизованных линз при разных пиковых температурах пиролизаTable 2. Shrinkage coefficient of pyrolyzed lenses at different peak pyrolysis temperatures
Список использованной литературыList of used literature
1. Barannikov A. et al. Optical performance and radiation stability of polymer X-ray refractive nano-lenses //Journal of Synchrotron Radiation. - 2019. - Т. 26. - №. 3. - С. 714-719.1. Barannikov A. et al. Optical performance and radiation stability of polymer X-ray refractive nano-lenses // Journal of Synchrotron Radiation. - 2019. - T. 26. - No. 3. - S. 714-719.
2. Lengeler B. et al. Imaging by parabolic refractive lenses in the hard X-ray range //Journal of Synchrotron Radiation. - 1999. - Т. 6. - №. 6. - С. 1153-1167.2. Lengeler B. et al. Imaging by parabolic refractive lenses in the hard X-ray range // Journal of Synchrotron Radiation. - 1999. - T. 6. - No. 6. - S. 1153-1167.
3. Nöhammer B. et al. Deep reactive ion etching of silicon and diamond for the fabrication of planar refractive hard X-ray lenses //Microelectronic engineering. - 2003. - Т. 67. - С. 453-460.3. Nöhammer B. et al. Deep reactive ion etching of silicon and diamond for the fabrication of planar refractive hard X-ray lenses // Microelectronic engineering. - 2003 .-- T. 67 .-- S. 453-460.
4. Stein A. et al. Fabrication of silicon kinoform lenses for hard x-ray focusing by electron beam lithography and deep reactive ion etching //Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena. - 2008. - Т. 26. - №. 1. - С. 122-127.4. Stein A. et al. Fabrication of silicon kinoform lenses for hard x-ray focusing by electron beam lithography and deep reactive ion etching // Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena. - 2008. - T. 26. - No. 1. - S. 122-127.
5. Abrashitova K. A. et al. Bloch surface wave photonic device fabricated by femtosecond laser polymerisation technique //Applied Sciences. - 2018. - Т. 8. - №. 1. - С. 63.5. Abrashitova K. A. et al. Bloch surface wave photonic device fabricated by femtosecond laser polymerisation technique // Applied Sciences. - 2018. - T. 8. - No. 1. - P. 63.
6. Pisarenko A. V. et al. DLW-printed optical fiber micro-connector kit for effective light coupling in optical prototyping //Optik. - 2020. - Т. 201. - С. 163350.6. Pisarenko A. V. et al. DLW-printed optical fiber micro-connector kit for effective light coupling in optical prototyping // Optik. - 2020 .-- T. 201 .-- S. 163350.
Claims (6)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2020144229U RU205730U1 (en) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | PYROLYZED LENS FOR X-RAY RADIATION |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2020144229U RU205730U1 (en) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | PYROLYZED LENS FOR X-RAY RADIATION |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU205730U1 true RU205730U1 (en) | 2021-07-30 |
Family
ID=77197121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2020144229U RU205730U1 (en) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | PYROLYZED LENS FOR X-RAY RADIATION |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU205730U1 (en) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2784948Y (en) * | 2005-01-28 | 2006-05-31 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | Paraboloid high-efficient X-ray combination lens |
| RU2297681C2 (en) * | 2003-10-10 | 2007-04-20 | Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской Академии Наук (ИПТМ РАН) | Method for manufacturing roentgen refracting lens with rotation profile |
| RU2298852C1 (en) * | 2005-10-14 | 2007-05-10 | Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской Академии Наук (ИПТМ РАН) | Method for manufacturing refracting x-ray lenses |
| RU2366015C1 (en) * | 2008-03-25 | 2009-08-27 | Учреждение Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской Академии Наук | Method for manufacturing of x-ray refractory lens with minimised absorption, having rotation profile |
| CN202034080U (en) * | 2011-03-16 | 2011-11-09 | 浙江工业大学 | Paraboloid type two-dimension focusing X-ray compound refractive lens |
| RU2692405C2 (en) * | 2017-11-20 | 2019-06-24 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ) | Lens for x-ray radiation |
-
2020
- 2020-12-31 RU RU2020144229U patent/RU205730U1/en active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2297681C2 (en) * | 2003-10-10 | 2007-04-20 | Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской Академии Наук (ИПТМ РАН) | Method for manufacturing roentgen refracting lens with rotation profile |
| CN2784948Y (en) * | 2005-01-28 | 2006-05-31 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | Paraboloid high-efficient X-ray combination lens |
| RU2298852C1 (en) * | 2005-10-14 | 2007-05-10 | Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской Академии Наук (ИПТМ РАН) | Method for manufacturing refracting x-ray lenses |
| RU2366015C1 (en) * | 2008-03-25 | 2009-08-27 | Учреждение Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской Академии Наук | Method for manufacturing of x-ray refractory lens with minimised absorption, having rotation profile |
| CN202034080U (en) * | 2011-03-16 | 2011-11-09 | 浙江工业大学 | Paraboloid type two-dimension focusing X-ray compound refractive lens |
| RU2692405C2 (en) * | 2017-11-20 | 2019-06-24 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ) | Lens for x-ray radiation |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10488651B2 (en) | Tunable elastic dielectric metasurface lenses | |
| KR102527501B1 (en) | Materials, components and methods for use with EUV radiation in lithography and other applications | |
| US9019468B2 (en) | Interference projection exposure system and method of using same | |
| Evans-Lutterodt et al. | Single-element elliptical hard x-ray micro-optics | |
| Petrov et al. | Polymer X-ray refractive nano-lenses fabricated by additive technology | |
| KR20200071586A (en) | Metalens, manufacturing method thereof and optical device having the same | |
| Lyubomirskiy et al. | Ptychographic characterisation of polymer compound refractive lenses manufactured by additive technology | |
| JP6215837B2 (en) | Method for producing stretchable and deformable optical element and element obtained thereby | |
| Poleshchuk et al. | Laser technologies in micro-optics. Part 2. Fabrication of elements with a three-dimensional profile | |
| RU2692405C2 (en) | Lens for x-ray radiation | |
| Park et al. | All-glass 100 mm diameter visible metalens for imaging the cosmos | |
| Žukauskas et al. | Single-step direct laser fabrication of complex shaped microoptical components | |
| RU205730U1 (en) | PYROLYZED LENS FOR X-RAY RADIATION | |
| RU205416U1 (en) | PYROLYZED X-RAY TRANSFOCATOR | |
| RU205417U1 (en) | PYROLYZED LENS FOR X-RAY RADIATION | |
| RU2756103C1 (en) | Method for producing pyrolyzed lenses for x-ray radiation | |
| Hakamada et al. | Fabrication of THz metalens by ultraviolet femtosecond laser ablation | |
| Barannikov et al. | Laboratory complex for the tests of the X-ray optics and coherence-related techniques | |
| Kinoshita | History of extreme ultraviolet lithography | |
| Chkhalo et al. | Manufacturing and characterization of diffraction quality normal incidence optics for the XEUV range | |
| CN104880914A (en) | Method and device for rapidly preparing color filter in large area by using synchrotron radiation | |
| Wang et al. | Nanoscale patterns made by using a 13.5-nm Schwarzschild objective and a laser produced plasma source | |
| Jonušauskas et al. | Plasmonically enhanced 3D laser lithography for high-throughput nanoprecision fabrication | |
| Fahy et al. | Robust liquid metal collector mirror for EUV and soft x-ray plasma sources | |
| Biabanifard Hossein Abadi | Advanced material platforms for holographic applications of photonic metasurfaces |