RU2014142914A - Способ определения лучевых параметров пучка заряженных частиц, измерительное устройство, а также устройство для испускания пучка заряженных частиц - Google Patents
Способ определения лучевых параметров пучка заряженных частиц, измерительное устройство, а также устройство для испускания пучка заряженных частиц Download PDFInfo
- Publication number
- RU2014142914A RU2014142914A RU2014142914A RU2014142914A RU2014142914A RU 2014142914 A RU2014142914 A RU 2014142914A RU 2014142914 A RU2014142914 A RU 2014142914A RU 2014142914 A RU2014142914 A RU 2014142914A RU 2014142914 A RU2014142914 A RU 2014142914A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- diaphragm
- measuring
- slotted
- charged particles
- diaphragms
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R19/00—Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof
- G01R19/0046—Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof characterised by a specific application or detail not covered by any other subgroup of G01R19/00
- G01R19/0061—Measuring currents of particle-beams, currents from electron multipliers, photocurrents, ion currents; Measuring in plasmas
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K15/00—Electron-beam welding or cutting
- B23K15/0013—Positioning or observing workpieces, e.g. with respect to the impact; Aligning, aiming or focusing electronbeams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K15/00—Electron-beam welding or cutting
- B23K15/0026—Auxiliary equipment
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/04—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/3002—Details
- H01J37/3007—Electron or ion-optical systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/31—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for cutting or drilling
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/315—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for welding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24507—Intensity, dose or other characteristics of particle beams or electromagnetic radiation
- H01J2237/24514—Beam diagnostics including control of the parameter or property diagnosed
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24507—Intensity, dose or other characteristics of particle beams or electromagnetic radiation
- H01J2237/24514—Beam diagnostics including control of the parameter or property diagnosed
- H01J2237/24542—Beam profile
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/303—Electron or ion optical systems
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
1. Способ определения лучевых параметров пучка заряженных частиц, в котором:а) пучок заряженных частиц устройства для испускания пучка заряженных частиц посредством отклоняющего лучи устройства (3) направляют через предусмотренную в диафрагменном устройстве (7) компоновочную схему щелевых диафрагм с одной или несколькими щелевыми диафрагмами (8),б) посредством задающего измерительную плоскость (10) лучевого датчика (6) фиксируют координаты на измерительной плоскости точек лучевого попадания прошедших сквозь компоновочную схему щелевых диафрагм лучевых составляющих,в) расположенную в диафрагменном устройстве (7), выполненную в виде перфорированной диафрагмы измерительную диафрагму (9) автоматически перемещают в положение над заданной на измерительной плоскости (10) опорной измерительной точкой, причем на основе известного геометрического расположения щелевой диафрагмы/щелевых диафрагм (8), а также измерительной диафрагмы (9) на диафрагменном устройстве (7) для определения управляющих данных для перемещения измерительной диафрагмы (9) выполняют обработку координат на измерительной плоскости точек лучевого попадания, иг) для измерения лучевых параметров пучок заряженных частиц направляют через перемещенную согласно признаку в) измерительную диафрагму (9).2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что для осуществления шага способа согласно признаку а) п. 1 пучок заряженных частиц многократно направляют через компоновочную схему щелевых диафрагм.3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что для осуществления шага способа согласно признаку а) п. 1 пучок заряженных частиц направляют через компоновочную схему щелевых диафрагм в двух независимых друг от друг
Claims (19)
1. Способ определения лучевых параметров пучка заряженных частиц, в котором:
а) пучок заряженных частиц устройства для испускания пучка заряженных частиц посредством отклоняющего лучи устройства (3) направляют через предусмотренную в диафрагменном устройстве (7) компоновочную схему щелевых диафрагм с одной или несколькими щелевыми диафрагмами (8),
б) посредством задающего измерительную плоскость (10) лучевого датчика (6) фиксируют координаты на измерительной плоскости точек лучевого попадания прошедших сквозь компоновочную схему щелевых диафрагм лучевых составляющих,
в) расположенную в диафрагменном устройстве (7), выполненную в виде перфорированной диафрагмы измерительную диафрагму (9) автоматически перемещают в положение над заданной на измерительной плоскости (10) опорной измерительной точкой, причем на основе известного геометрического расположения щелевой диафрагмы/щелевых диафрагм (8), а также измерительной диафрагмы (9) на диафрагменном устройстве (7) для определения управляющих данных для перемещения измерительной диафрагмы (9) выполняют обработку координат на измерительной плоскости точек лучевого попадания, и
г) для измерения лучевых параметров пучок заряженных частиц направляют через перемещенную согласно признаку в) измерительную диафрагму (9).
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что для осуществления шага способа согласно признаку а) п. 1 пучок заряженных частиц многократно направляют через компоновочную схему щелевых диафрагм.
3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что для осуществления шага способа согласно признаку а) п. 1 пучок заряженных частиц направляют через компоновочную схему щелевых диафрагм в двух независимых друг от друга направлениях отклонения отклоняющего устройства (3).
4. Способ по одному из предшествующих пп., отличающийся тем, что для осуществления шага способа согласно признаку а) п. 1 пучок заряженных частиц направляют через компоновочную схему щелевых диафрагм в осциллирующем состоянии.
5. Способ по одному из пп. 1-3, отличающийся тем, что в качестве опорной измерительной точки выбирают точку попадания неотклоненного пучка заряженных частиц в измерительную плоскость (10).
6. Способ по одному из пп. 1-3, отличающийся тем, что положение и/или направленность диафрагменного устройства (7) относительно измерительной плоскости (10) заданным образом по меньшей мере один раз изменяют, по меньшей мере в двух различных положениях и/или направленностях диафрагменного устройства (7) выполняют шаги способа согласно признакам а) и б) п. 1, а изменение положения и/или направленности диафрагменного устройства (7) обрабатывают в качестве других данных для определения управляющих данных для перемещения измерительной диафрагмы (9) согласно шагу в) способа по п. 1.
7. Способ по одному из пп. 1-3, отличающийся тем, что в процессе обработки зафиксированных согласно признаку б) п. 1 координат на измерительной плоскости точек лучевого попадания определяют по меньшей мере один калибровочный параметр отклоняющего лучи устройства (3).
8. Способ по одному из пп. 1-3, отличающийся тем, что для проверки других лучевых параметров, прежде всего углового отклонения направленного на опорную измерительную точку пучка заряженных частиц и/или положения фокуса, измерительную диафрагму (9) перемещают с перпендикулярным измерительной плоскости (10) компонентом.
9. Способ по одному из пп. 1-3, отличающийся тем, что определенные лучевые параметры вводят по обратной связи для управления или регулирования устройством для испускания пучка заряженных частиц.
10. Предназначенное для использования в способе по одному из п.п. 1-9 измерительное устройство (5) для измерения лучевых параметров, включающее в себя лучевой датчик (6), а также диафрагменное устройство (7), причем диафрагменное устройство (7) включает в себя компоновочную схему щелевых диафрагм и измерительную диафрагму (9), и причем измерительная диафрагма (9) выполнена в виде перфорированной диафрагмы, отличающееся тем, что компоновочная схема щелевых диафрагм включает в себя по меньшей мере два непараллельных друг другу участка (12, 13, 15, 16) щелевых диафрагм.
11. Измерительное устройство по п. 10, отличающееся тем, что, по меньшей мере, некоторые из участков (12, 13, 15, 16) щелевых диафрагм относятся к одной отдельной сквозной щелевой диафрагме (8).
12. Измерительное устройство по п. 10, отличающееся тем, что компоновочная схема щелевых диафрагм включает в себя замкнутую, бесконечную щелевую диафрагму (8).
13. Измерительное устройство по п. 11, отличающееся тем, что компоновочная схема щелевых диафрагм включает в себя замкнутую, бесконечную щелевую диафрагму (8).
14. Измерительное устройство по одному из п.п. 10-13, отличающееся тем, что щелевая диафрагма (8) или по меньшей мере одна из щелевых диафрагм (8) является, по меньшей мере, участками кругообразной.
15. Измерительное устройство по одному из п.п. 10-13, отличающееся тем, что предусмотрена защитная заслонка для временного закрытия компоновочной схемы щелевых диафрагм и измерительной диафрагмы (9).
16. Измерительное устройство по п. 14, отличающееся тем, что предусмотрена защитная заслонка для временного закрытия компоновочной схемы щелевых диафрагм и измерительной диафрагмы (9).
17. Измерительное устройство по одному из п.п. 10-13 или 16, отличающееся собственным отклоняющим устройством для пучка заряженных частиц.
18. Устройство для испускания пучка заряженных частиц для осуществления способа по одному из п.п. 1-9, включающее в себя источник (2) пучков заряженных частиц и отклоняющее лучи устройство (3), отличающееся измерительным устройством (5) по одному из п.п. 10-17.
19. Устройство для испускания пучка заряженных частиц по п. 18, отличающееся средством для ввода по обратной связи результатов измерений измерительного устройства (5) для управления устройством для испускания пучка заряженных частиц.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102012102608.4A DE102012102608B4 (de) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | Verfahren zur Ermittlung von Strahlparametern eines Ladungsträgerstrahls, Messeinrichtung sowie Ladungsträgerstrahlvorrichtung |
| DE102012102608.4 | 2012-03-27 | ||
| PCT/DE2013/100091 WO2013143531A1 (de) | 2012-03-27 | 2013-03-11 | Verfahren zur ermittlung von strahlparametern eines ladungsträgerstrahls, messeinrichtung sowie ladungsträgerstrahlvorrichtung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2014142914A true RU2014142914A (ru) | 2016-05-20 |
Family
ID=48190657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2014142914A RU2014142914A (ru) | 2012-03-27 | 2013-03-11 | Способ определения лучевых параметров пучка заряженных частиц, измерительное устройство, а также устройство для испускания пучка заряженных частиц |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9347974B2 (ru) |
| EP (1) | EP2830813B1 (ru) |
| JP (1) | JP2015511760A (ru) |
| KR (1) | KR20150015437A (ru) |
| CN (1) | CN104245217A (ru) |
| DE (1) | DE102012102608B4 (ru) |
| RU (1) | RU2014142914A (ru) |
| WO (1) | WO2013143531A1 (ru) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104134604B (zh) * | 2014-04-18 | 2016-10-05 | 北京大学 | 一种场发射电子源电子束发射性能评测装置及其评测方法 |
| DE102015105515A1 (de) * | 2015-04-10 | 2016-10-13 | Innovations- und Informationszentrum Schneiden + Fügen e. V. | Verfahren und Vorrichtung zur Strahlcharakterisierung |
| CN104959724B (zh) * | 2015-07-15 | 2017-03-01 | 桂林狮达机电技术工程有限公司 | 电子束快速成型设备特征点数据采集装置及方法 |
| WO2018217646A1 (en) | 2017-05-22 | 2018-11-29 | Howmedica Osteonics Corp. | Device for in-situ fabrication process monitoring and feedback control of an electron beam additive manufacturing process |
| IT201800003379A1 (it) * | 2018-03-08 | 2019-09-08 | Enea Agenzia Naz Per Le Nuove Tecnologie Lenergia E Lo Sviluppo Economico Sostenibile | Dispositivo e metodo per determinare il centro di massa di un fascio di cariche elettriche |
| DE102018210522B4 (de) * | 2018-06-27 | 2021-03-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung eines Strahls geladener Teilchen |
| AU2019206103A1 (en) | 2018-07-19 | 2020-02-06 | Howmedica Osteonics Corp. | System and process for in-process electron beam profile and location analyses |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2634341A1 (de) | 1976-07-30 | 1978-02-02 | Steigerwald Strahltech | Verfahren und einrichtung zum ausrichten eines ladungstraegerstrahles eines technischen ladungstraegerstrahlgeraetes |
| DD206960C2 (de) * | 1981-09-15 | 1987-11-11 | Mauer Karl Otto | Verfahren zur zentrierung eines ladungstraegerstrahles |
| DD226428A1 (de) | 1984-08-01 | 1985-08-21 | Ardenne Forschungsinst | Einrichtung zur einstellung einer elektronensonde |
| DE3442207A1 (de) | 1984-11-19 | 1986-05-28 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Elektronenstrahl-istpositionsgeber |
| US5382895A (en) * | 1992-12-28 | 1995-01-17 | Regents Of The University Of California | System for tomographic determination of the power distribution in electron beams |
| US6353231B1 (en) * | 1998-08-31 | 2002-03-05 | Nikon Corporation | Pinhole detector for electron intensity distribution |
| US6300755B1 (en) * | 1999-05-26 | 2001-10-09 | Regents Of The University Of California | Enhanced modified faraday cup for determination of power density distribution of electron beams |
| AU2002358245A1 (en) * | 2001-10-10 | 2003-04-22 | Applied Materials Isreal Limited | Method and device for aligning a charged particle beam column |
| DE10232230A1 (de) | 2002-07-17 | 2004-02-05 | Pro-Beam Ag & Co. Kgaa | Verfahren zum Vermessen des Intensitätsprofils eines Elektronenstrahls, insbesondere eines Strahls eines Elektronenstrahlbearbeitungsgeräts, und/oder zum Vermessen einer Optik für einen Elektronenstrahl und/oder zum Justieren einer Optik für einen Elektronenstrahl, Meßstruktur für ein solches Verfahren und Elektronenstrahlbearbeitungsgerät |
| DE10240628B4 (de) * | 2002-09-03 | 2012-06-21 | Siemens Ag | Röntgenröhre mit Ringanode und Röntgen-System mit einer solchen Röntgenröhre |
| US7288772B2 (en) * | 2004-04-28 | 2007-10-30 | The Regents Of The University Of California | Diagnostic system for profiling micro-beams |
| US7348568B2 (en) | 2004-06-24 | 2008-03-25 | Lawrence Livermore Natonal Security, Llc | Electron beam diagnostic for profiling high power beams |
| US7902503B2 (en) * | 2008-08-08 | 2011-03-08 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Slit disk for modified faraday cup diagnostic for determining power density of electron and ion beams |
| DE102009016861A1 (de) * | 2009-04-08 | 2010-10-21 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Teilchenstrahlmikroskop |
| US9535100B2 (en) * | 2012-05-14 | 2017-01-03 | Bwxt Nuclear Operations Group, Inc. | Beam imaging sensor and method for using same |
-
2012
- 2012-03-27 DE DE102012102608.4A patent/DE102012102608B4/de active Active
-
2013
- 2013-03-11 RU RU2014142914A patent/RU2014142914A/ru not_active Application Discontinuation
- 2013-03-11 EP EP13719005.4A patent/EP2830813B1/de active Active
- 2013-03-11 CN CN201380017026.0A patent/CN104245217A/zh active Pending
- 2013-03-11 US US13/261,962 patent/US9347974B2/en active Active
- 2013-03-11 WO PCT/DE2013/100091 patent/WO2013143531A1/de active Application Filing
- 2013-03-11 KR KR1020147028508A patent/KR20150015437A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-03-11 JP JP2015502094A patent/JP2015511760A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2013143531A1 (de) | 2013-10-03 |
| EP2830813B1 (de) | 2016-05-04 |
| DE102012102608A1 (de) | 2013-10-02 |
| KR20150015437A (ko) | 2015-02-10 |
| EP2830813A1 (de) | 2015-02-04 |
| US20150083928A1 (en) | 2015-03-26 |
| US9347974B2 (en) | 2016-05-24 |
| JP2015511760A (ja) | 2015-04-20 |
| DE102012102608B4 (de) | 2016-07-21 |
| CN104245217A (zh) | 2014-12-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2014142914A (ru) | Способ определения лучевых параметров пучка заряженных частиц, измерительное устройство, а также устройство для испускания пучка заряженных частиц | |
| JP2018059943A5 (ru) | ||
| RU2015121427A (ru) | Устройство и способ для работы последовательного датчика волнового фронта большого диоптрийного диапазона реального времени | |
| RU2011128708A (ru) | Терапевтическое устройство | |
| RU2607079C2 (ru) | Способ и аппарат для измерений гарантии механического и дозиметрического качаства в реальном времени в лучевой терапии | |
| WO2018106671A3 (en) | Distance sensor including adjustable focus imaging sensor | |
| JP2015533533A5 (ru) | ||
| NZ741000A (en) | Backscatter imaging for precision agriculture | |
| CN105277579A (zh) | 荧光x射线分析装置 | |
| US9689743B2 (en) | Accuracy and precision in raman spectroscopy | |
| JP2020502559A5 (ru) | ||
| JP2012243802A5 (ru) | ||
| US9910184B2 (en) | Alignment system and method for container or vehicle inspection system | |
| CN105204059A (zh) | 一种局部区域软x射线辐射流定量测量装置与测量方法 | |
| EP3644012A3 (en) | Surveying instrument | |
| JP2015207536A5 (ru) | ||
| US9354185B2 (en) | 3D imaging with multiple irradiation frequencies | |
| WO2018153008A1 (zh) | 激光定位装置及激光定位方法 | |
| JP2014522705A5 (ru) | ||
| JP2021504906A5 (ru) | ||
| JP2015511405A5 (ru) | ||
| TW201236711A (en) | Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapy apparatus | |
| JP6607127B2 (ja) | Ｘ線残留応力測定方法及びｘ線残留応力測定システム | |
| EP3372991A1 (en) | Collimating device and ray inspection apparatus | |
| JP4486610B2 (ja) | 放射線照射装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FA93 | Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination) |
Effective date: 20160314 |