RU2013135893A - INJECTION LASER - Google Patents

INJECTION LASER Download PDF

Info

Publication number
RU2013135893A
RU2013135893A RU2013135893/28A RU2013135893A RU2013135893A RU 2013135893 A RU2013135893 A RU 2013135893A RU 2013135893/28 A RU2013135893/28 A RU 2013135893/28A RU 2013135893 A RU2013135893 A RU 2013135893A RU 2013135893 A RU2013135893 A RU 2013135893A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
fabry
ohmic contact
laser
laser according
perot
Prior art date
Application number
RU2013135893/28A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2549553C2 (en
Inventor
Василий Владимирович Золотарев
Кирилл Станиславович Борщёв
Сергей Олегович Слипченко
Илья Сергеевич Тарасов
Никита Александрович Пихтин
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Новолюм"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Новолюм" filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Новолюм"
Priority to RU2013135893/28A priority Critical patent/RU2549553C2/en
Publication of RU2013135893A publication Critical patent/RU2013135893A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2549553C2 publication Critical patent/RU2549553C2/en

Links

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

1. Инжекционный лазер, включающий полупроводниковую гетероструктуру, содержащую волноводный слой, заключенный между верхним и нижним широкозонными эмиттерами соответственно p- и n-типа проводимости, являющимися одновременно ограничительными слоями, с активной областью, состоящей по меньшей мере из одного квантово-размерного активного слоя, оптический Фабри-Перо резонатор и полосковый омический контакт, под которым расположена область инжекции, причем в верхнем эмиттере p-типа проводимости в области омического контакта выполнены мезаканавки длиной, равной или меньшей ширины омического контакта, и эквидистантно расположенные с периодом, определяемым из соотношений:где: Λ - период расположения мезаканавок, мкм;m - целое положительное число;λ - длина волны лазерного излучения, мкм;n - эффективный показатель преломления волноводного слоя;L - длина оптического резонатора Фабри-Перо, мкм;при этом мезаканавки в поперечном сечении выполнены в форме клина, одна из граней которого перпендикулярна оси оптического резонатора Фабри-Перо, а вторая грань наклонена наружу под углом 25-60˚ к плоскости первой грани мезаканавки.2. Лазер по п.1, отличающийся тем, что мезаканавки выполнены химическим травлением.3. Лазер по п.1, отличающийся тем, что мезаканавки выполнены реактивным ионным травлением.4. Лазер по п.1, отличающийся тем, что полупроводниковая гетероструктура выполнена в системе твердых растворов AB.1. An injection laser comprising a semiconductor heterostructure containing a waveguide layer enclosed between the upper and lower wide-band emitters, respectively, of p- and n-type conductivity, which are simultaneously boundary layers, with an active region consisting of at least one quantum-dimensional active layer, an optical Fabry-Perot resonator and a strip ohmic contact, under which the injection region is located, and in the upper p-type emitter in the ohmic contact region, mesak lengths equal to or shorter than the width of the ohmic contact and equidistantly located with a period determined from the relations: where: Λ is the period of the mesan grooves, μm; m is a positive integer; λ is the laser wavelength, μm; n is the effective refractive index waveguide layer; L is the length of the Fabry-Perot optical resonator, μm; in this case, the meso-grooves in the cross section are made in the form of a wedge, one of whose faces is perpendicular to the axis of the Fabry-Perot optical resonator, and the second face is tilted outward at an angle of 25-60 ° the plane of the first face mezakanavki.2. The laser according to claim 1, characterized in that the mesa grooves are made of chemical etching. The laser according to claim 1, characterized in that the mezzanines are made by reactive ion etching. The laser according to claim 1, characterized in that the semiconductor heterostructure is made in the AB solid solution system.

Claims (4)

1. Инжекционный лазер, включающий полупроводниковую гетероструктуру, содержащую волноводный слой, заключенный между верхним и нижним широкозонными эмиттерами соответственно p- и n-типа проводимости, являющимися одновременно ограничительными слоями, с активной областью, состоящей по меньшей мере из одного квантово-размерного активного слоя, оптический Фабри-Перо резонатор и полосковый омический контакт, под которым расположена область инжекции, причем в верхнем эмиттере p-типа проводимости в области омического контакта выполнены мезаканавки длиной, равной или меньшей ширины омического контакта, и эквидистантно расположенные с периодом, определяемым из соотношений:1. An injection laser comprising a semiconductor heterostructure containing a waveguide layer enclosed between the upper and lower wide-band emitters, respectively, of p- and n-type conductivity, which are simultaneously boundary layers, with an active region consisting of at least one quantum-dimensional active layer, an optical Fabry-Perot resonator and a strip ohmic contact, under which the injection region is located, and in the upper p-type emitter in the ohmic contact region, mesak Navki length equal to or less than the width of the ohmic contact, and equidistantly arranged with the period determined from the relations: Λ = m λ 2 n , мкм;
Figure 00000001
Λ = m λ 2 n , microns;
Figure 00000001
λ 2 n Λ 0 , 8 10 2 L ,   мкм ;
Figure 00000002
λ 2 n Λ 0 , 8 10 - 2 L μm ;
Figure 00000002
где: Λ - период расположения мезаканавок, мкм;where: Λ is the period of the location of the mesanas, microns; m - целое положительное число;m is a positive integer; λ - длина волны лазерного излучения, мкм;λ is the wavelength of the laser radiation, microns; n - эффективный показатель преломления волноводного слоя;n is the effective refractive index of the waveguide layer; L - длина оптического резонатора Фабри-Перо, мкм;L is the length of the Fabry-Perot optical resonator, microns; при этом мезаканавки в поперечном сечении выполнены в форме клина, одна из граней которого перпендикулярна оси оптического резонатора Фабри-Перо, а вторая грань наклонена наружу под углом 25-60˚ к плоскости первой грани мезаканавки.at the same time, the meso-grooves in the cross section are made in the form of a wedge, one of the faces of which is perpendicular to the axis of the Fabry-Perot optical resonator, and the second face is tilted outward at an angle of 25-60 ° to the plane of the first face of the meso-groove.
2. Лазер по п.1, отличающийся тем, что мезаканавки выполнены химическим травлением.2. The laser according to claim 1, characterized in that the mezzanines are made of chemical etching. 3. Лазер по п.1, отличающийся тем, что мезаканавки выполнены реактивным ионным травлением.3. The laser according to claim 1, characterized in that the mezzanines are made by reactive ion etching. 4. Лазер по п.1, отличающийся тем, что полупроводниковая гетероструктура выполнена в системе твердых растворов A3B5. 4. The laser according to claim 1, characterized in that the semiconductor heterostructure is made in the system of solid solutions A 3 B 5 .
RU2013135893/28A 2013-07-30 2013-07-30 Injection laser RU2549553C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013135893/28A RU2549553C2 (en) 2013-07-30 2013-07-30 Injection laser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013135893/28A RU2549553C2 (en) 2013-07-30 2013-07-30 Injection laser

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2013135893A true RU2013135893A (en) 2015-02-10
RU2549553C2 RU2549553C2 (en) 2015-04-27

Family

ID=53281598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013135893/28A RU2549553C2 (en) 2013-07-30 2013-07-30 Injection laser

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2549553C2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2685434C1 (en) * 2018-02-05 2019-04-18 Российская Федерация, от имени которой выступает ФОНД ПЕРСПЕКТИВНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ Injection laser
RU184264U1 (en) * 2018-05-04 2018-10-19 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук INJECTION LASER WITH SWITCHABLE GENERATION SPECTRUM

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1130716A2 (en) * 1994-09-28 2001-09-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Distributed feedback semiconductor laser and method for producing the same
RU2109382C1 (en) * 1996-08-19 1998-04-20 Швейкин Василий Иванович Semiconductor laser
DE60119470T2 (en) * 2000-10-12 2007-04-19 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Semiconductor laser with region without power supply in the vicinity of a Resonatorendfläche and associated manufacturing method
RU2230411C2 (en) * 2002-04-16 2004-06-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт "Полюс" им.М.Ф.Стельмаха Injection laser
RU2309501C1 (en) * 2006-09-06 2007-10-27 Закрытое акционерное общество "Полупроводниковые приборы" Semiconductor injection laser
RU2391756C2 (en) * 2008-06-06 2010-06-10 Василий Иванович Швейкин Diode laser, integrated diode laser and integrated semiconductor optical amplifier

Also Published As

Publication number Publication date
RU2549553C2 (en) 2015-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109428262B (en) Surface-emitting quantum cascade laser
JP2013238876A5 (en)
JP6559000B2 (en) Quantum cascade laser
JP6865439B2 (en) Two-dimensional photonic crystal surface emitting laser
JP2014187299A (en) Optical amplifier and optical amplification method
RU2013135893A (en) INJECTION LASER
JP5513659B1 (en) Photonic crystal photodetector
JP2007013065A (en) Near infrared photodetection element
JP5662494B2 (en) Photonic crystal device
US20190386465A1 (en) Semiconductor optical amplifier, light output apparatus, and distance measuring apparatus
Zhu et al. Terahertz master-oscillator power-amplifier quantum cascade laser with a grating coupler of extremely low reflectivity
JP6124293B2 (en) Terahertz band optical device waveguide
WO2019111804A1 (en) Optical semiconductor element driving method, and optical semiconductor element
Alkhazragi et al. Modifying the coherence of vertical-cavity surface-emitting lasers using chaotic cavities
JP2017529569A (en) Injection modulator
RU2013144977A (en) LASER-THYRISTOR
RU2535649C1 (en) Semiconductor laser
JP5650707B2 (en) Super luminescent diode
EP2645495A2 (en) Optical semiconductor device, light emitting device, optical transmitting device, and method of manufacturing optical semiconductor device
RU2587097C1 (en) Injection laser
RU2012128233A (en) SEMICONDUCTOR LASER (OPTIONS)
US20230163566A1 (en) Two-dimensional photonic-crystal laser
CN216850743U (en) Grating surface emitting semiconductor laser
RU2006127565A (en) PULSE INJECTION LASER
JPS62291987A (en) Optical integrated device

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20180731