Claims (11)
1. Способ получения экстремального ультрафиолетового излучения, согласно которому используют по меньшей мере одну твердую мишень (28, 42), имеющую первую и вторую поверхности, при этом эта мишень способна излучать в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне спектра за счет взаимодействия с лазерным лучом (34), и лазерный луч фокусируют на первой поверхности (30) мишени, отличающийся тем, что мишень (28, 42) содержит материал, который способен излучать в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне спектра при взаимодействии с лазерным лучом, и что толщина мишени находится в диапазоне от около 0,05 мкм до около 5 мкм, при этом мишень способна излучать анизотропно часть (36) экстремального ультрафиолетового излучения из второй поверхности (37) этой мишени, и что эту часть экстремального ультрафиолетового излучения собирают и передают для использования этой части.1. A method of obtaining extreme ultraviolet radiation, according to which at least one solid target (28, 42) is used having a first and second surface, and this target is capable of emitting in the extreme ultraviolet range of the spectrum due to interaction with a laser beam (34), and the laser beam is focused on the first surface (30) of the target, characterized in that the target (28, 42) contains material that is capable of emitting in the extreme ultraviolet range of the spectrum when interacting with the laser beam, and that the target is in the range from about 0.05 μm to about 5 μm, while the target is capable of anisotropically emitting part (36) of extreme ultraviolet radiation from the second surface (37) of this target, and that this part of extreme ultraviolet radiation is collected and transmitted for use this part.
2. Источник экстремального ультрафиолетового излучения, при этом этот источник содержит по меньшей мере одну твердую мишень (28, 42), имеющую первую и вторую поверхности, при этом эта мишень способна излучать в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне спектра за счет взаимодействия с лазерным лучом, сфокусированным на первой поверхности (30) мишени, отличающийся тем, что мишень (28, 42) содержит материал, который способен излучать в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне спектра при взаимодействии с лазерным лучом, и что толщина мишени находится в диапазоне от около 0,05 мкм до около 5 мкм, за счет чего мишень способна анизотропно излучать часть (36) экстремального ультрафиолетового излучения из второй поверхности (37) этой мишени, при этом эта часть экстремального ультрафиолетового излучения собирается и передается для использования этой части.2. A source of extreme ultraviolet radiation, wherein this source contains at least one solid target (28, 42) having first and second surfaces, and this target is capable of emitting in the extreme ultraviolet range of the spectrum due to interaction with a laser beam focused on the first surface (30) of the target, characterized in that the target (28, 42) contains material that is capable of emitting in the extreme ultraviolet range of the spectrum when interacting with a laser beam, and that the thickness of the target is found range from about 0.05 μm to about 5 μm, due to which the target is capable of anisotropically emitting part (36) of extreme ultraviolet radiation from the second surface (37) of this target, while this part of extreme ultraviolet radiation is collected and transmitted for use with this parts.
3. Источник по п.2, в котором атомный номер материала, содержащегося в мишени, соответствует ряду атомных номеров от 28 до 92.3. The source according to claim 2, in which the atomic number of the material contained in the target corresponds to a number of atomic numbers from 28 to 92.
4. Источник по любому из п.2 или 3, содержащий множество мишеней (42), которые прочно соединены друг с другом, при этом источник дополнительно содержит средство (48, 50) для перемещения этого множества мишеней, так что эти мишени последовательно принимают лазерный луч (34).4. A source according to any one of Claims 2 or 3, comprising a plurality of targets (42) that are firmly connected to each other, the source further comprising means (48, 50) for moving the plurality of targets, so that these targets sequentially receive a laser beam (34).
5. Источник по п.4, дополнительно содержащий опорное средство (38, 44, 52), на котором закреплены мишени (42) и которое обеспечивает прохождение лазерного луча в направлении этих мишеней, при этом предусмотрено перемещающее средство (48, 50) для перемещения этого опорного средства и тем самым мишеней.5. The source according to claim 4, additionally containing support means (38, 44, 52), on which the targets (42) are fixed and which ensures the passage of the laser beam in the direction of these targets, while a moving means (48, 50) is provided for moving this support tool and thereby targets.
6. Источник по п.5, в котором опорное средство (52) способно поглощать излучения, эмитируемые первой поверхностью каждой мишени, которая принимает лазерный луч, и повторно эмитировать эти излучения в направлении этой мишени.6. The source according to claim 5, in which the support means (52) is capable of absorbing radiation emitted by the first surface of each target that receives the laser beam, and re-emit these radiation in the direction of this target.
7. Источник по любому из п.5 или 6, в котором опорное средство имеет отверстие (40, 46) напротив каждой мишени, при этом это отверстие ограничено двумя стенками (54, 56), по существу параллельными друг другу и перпендикулярными этой мишени.7. A source according to any one of claims 5 or 6, in which the support means has an opening (40, 46) opposite each target, and this opening is bounded by two walls (54, 56), essentially parallel to each other and perpendicular to this target.
8. Источник по любому из п.5 или 6, в котором опорное средство содержит отверстие напротив каждой мишени, при этом это отверстие ограничено двумя стенками (55, 57), проходящими в направлении мишени и удаляющимися друг от друга.8. A source according to any one of claims 5 or 6, wherein the support means comprises an opening opposite each target, wherein the opening is bounded by two walls (55, 57) extending in the direction of the target and moving away from each other.
9. Источник по любому из пп.2-5, дополнительно содержащий неподвижное вспомогательное средство (58), которое обеспечивает прохождение лазерного луча (34) в направлении мишени, поглощение излучений, эмитированных первой поверхностью и повторное эмитирование этих излучений в направлении этой мишени.9. A source according to any one of claims 2-5, further comprising a stationary auxiliary means (58), which ensures the passage of the laser beam (34) in the direction of the target, the absorption of radiation emitted by the first surface and the re-emission of these radiation in the direction of this target.
10. Литографическое устройство, содержащее опору (16) для образца, подлежащего освещению в соответствии с заданным узором, источник (22) экстремального ультрафиолетового излучения по любому из пп.2-9, маску (24), содержащую заданный узор в увеличенном виде, оптическое средство (26) для собирания и передачи к маске части экстремального ультрафиолетового излучения из второй поверхности мишени источника, при этом маска обеспечивает получение изображения узора в увеличенном виде, и оптическое средство (29) для уменьшения этого изображения и проекции уменьшенного изображения на образец.10. A lithographic device containing a support (16) for a sample to be illuminated in accordance with a given pattern, an extreme ultraviolet radiation source (22) according to any one of claims 2 to 9, a mask (24) containing a predetermined enlarged view, an optical means (26) for collecting and transmitting to the mask part of the extreme ultraviolet radiation from the second surface of the source target, the mask providing an image of the pattern in an enlarged form, and optical means (29) for reducing this image and projection Thumbnails on the sample.
11. Устройство по п.10, в котором образец содержит полупроводниковую подложку (18), на которую нанесен слой фоточувствительного полимера, который подлежит освещению в соответствии с заданным узором.11. The device according to claim 10, in which the sample contains a semiconductor substrate (18), on which a layer of a photosensitive polymer is deposited, which must be illuminated in accordance with a given pattern.