RU1801992C

RU1801992C - Installation for molecular-radiating epitaxy

Info

Publication number: RU1801992C
Application number: SU914913102A
Authority: RU
Inventors: Владимир Алексеевич Вотяков; Петр Геннадьевич Мерзляков; Леонид Григорьевич Ковнер; Игорь Иванович Семенов; Алексей Викторович Широбоков
Priority date: 1991-02-20
Filing date: 1991-02-20
Publication date: 1993-03-15

Abstract

Использованием комплексе оборудовани по производству изделий радиоэлектронной аппаратуры, в частности в системах дл производства полупроводниковых. структур, металлических и диэлектрических покрытий, магнитных слоев методом молекул рно-лучевой эпитаксии и электронно-лучевого .испарени . Сущность изобретени : установка содержит размещенные вдоль транспортной магистрали рабочие камеры. Кажда камера отделена от транспортной магистрали запорным узлом . Дл улучшени качества наносимых слоев, удалени органических соединений из полости рабочих камер запорный узел выполнен в виде полого штока с кольцеобразным металлическим клапаном на конце и установлен соосно загрузочному окну рабочей камеры с возможностью осевого перемещени . Вал манипул тора подложек в рабочей камере размещен внутри полого штока по его оси и с возможностью перемещени . 2 ил. (Л СThe use of a complex of equipment for the production of electronic equipment, in particular in semiconductor manufacturing systems. structures, metallic and dielectric coatings, magnetic layers by the method of molecular beam epitaxy and electron beam evaporation. SUMMARY OF THE INVENTION: The installation comprises working chambers arranged along a transport highway. Each camera is separated from the transport line by a locking unit. In order to improve the quality of the applied layers and remove organic compounds from the cavity of the working chambers, the locking unit is made in the form of a hollow rod with an annular metal valve at the end and is mounted axially with the loading window of the working chamber. The shaft of the substrate manipulator in the working chamber is placed inside the hollow rod along its axis and with the possibility of movement. 2 ill. (L C

Description

Изобретение относитс к технологии радиоэлектронной аппаратуры, в частности к системам дл производства полупроводниковых структур, металлических и диэлек- .трических покрытий, магнитных слоев методами молекул рно-лучевой эпитаксии и электронно-лучевого испарени .The invention relates to the technology of electronic equipment, in particular to systems for the production of semiconductor structures, metal and dielectric coatings, magnetic layers by molecular beam epitaxy and electron beam evaporation methods.

Цель изобретени - повышение чистоты и качества слоев.The purpose of the invention is to increase the purity and quality of the layers.

На фиг.1 изображена установка, вид в плане; на фиг.2 - сечение А-А на фиг.1.Figure 1 shows the installation, a view in plan; figure 2 is a section aa in figure 1.

Установка состоит из загрузочной камеры 1, соединенной транспортной магистралью 2 через шиберный затвор 3, по которой производитс транспортировка каретки 4 с подложкодержател ми 5. К транспортной магистрали 2 примыкают рабочиеThe installation consists of a loading chamber 1 connected by a transport line 2 through a slide gate 3, through which the carriage 4 is transported with substrate holders 5. Workers are adjacent to the transport line 2

камеры 6, снабженные автономными средг ствами откачки, а соосно загрузочному окну каждой из камер 6 присоединен корпус 7 транспортной магистрали 2 с металлическим седлом 8 запорного устройства. В корпусе 7 соосно с ним установлены привод 9 и полый шток 10, имеющий возможность осевого перемещени , на конце которого имеетс кольцеобразный металлический клапан И/Внутри штока 10 размещен вал 12 манипул тора подложкодержател 5. который имеет возможность, как совместного, так и относительного перемещени . Вал 12 манипул тора подложкодержател снабжен приводом 13. В нижней части транспортной магистрали 2 размещен привод 14 манипул тора-доставщика 15, с помощью которого осуществл етс захват и передачаchambers 6 equipped with autonomous pumping means, and a housing 7 of the transport line 2 with a metal saddle 8 of a locking device is connected coaxially to the loading window of each of the chambers 6. An actuator 9 and a hollow stem 10, axially movable, are mounted coaxially with it, with an annular metal valve And at the end of which there is an I / metal valve. Inside the stem 10 is a shaft 12 of the substrate holder manipulator 5. Which has the possibility of both joint and relative movement . The shaft 12 of the substrate holder manipulator is provided with a drive 13. In the lower part of the transport line 2 there is a drive 14 of the delivery manipulator 15, by means of which capture and transmission are carried out

0000

оabout

ю о юy o y

подложкодержател на вал 12 манипул тора подложкодежател .substrate holder on the shaft 12 of the manipulator of the substrate holder.

Работа линии установки осуществл етс следующим образом:The operation of the installation line is as follows:

Каретку 4 с подложкодержател ми 5 устанавливают в загрузочную камеру 1. Производ т откачку камеры 1. После чего открывают:шиберный затвор 3, расположенный между загрузочной камерой 1 и транспортной магистралью 2. Каретку перемещают в транспортную магистраль 2 и останавливают напротив выбранной позиции рабочей камеры 6, шиберный затвор закрывают . Привод 9 выбранной рабочей камеры отводит полый шток 10 от седла 8 открыва загрузочное окно камеры, после чего с помощью привода 14 манипул тор-доставщик 15 захватывает и передает подложкодержа- тёль 5 на вал 12 и отводитс в исходное положение. Далее с помощью привода 9 шток 10 и вал 12 перемещают вправо до контакта клапана 11 с седлом 8, при этом производ т герметизацию полости рабочей камеры б от транспортной магистрали, а подложкодержатель 5 оказываетс в рабочей камере 6. После этого подложкодержатель 5, в зависимости от технологического процесса, может быть перемещен в рабочей камере б с помощью привода 13, без разгерметизации рабочей камеры б. Далее каретку 4 с подложкодержател ми 5 перемещают к следующей по технологическому процессу рабочей камере 6. Выгрузку подложкодержател 5 осуществл ют в обратном пор дке.The carriage 4 with the substrate holders 5 is installed in the loading chamber 1. The chamber 1 is pumped out. Then open: a slide gate 3 located between the loading chamber 1 and the transport line 2. The carriage is moved to the transport line 2 and stopped opposite the selected position of the working chamber 6 , slide gate close. The drive 9 of the selected working chamber diverts the hollow rod 10 from the saddle 8, opening the loading window of the chamber, after which, using the drive 14, the delivery driver 15 captures and transfers the substrate holder 5 to the shaft 12 and retracts to its original position. Then, using the actuator 9, the rod 10 and the shaft 12 are moved to the right until the valve 11 contacts the seat 8, and the cavity of the working chamber b is sealed from the transport line, and the substrate holder 5 is in the working chamber 6. After that, the substrate holder 5, depending on technological process, can be moved in the working chamber b using the drive 13, without depressurization of the working chamber b. Next, the carriage 4 with the substrate holders 5 is moved to the next working chamber 6 according to the technological process. The substrate holder 5 is unloaded in the reverse order.

00

55

00

55

00

55

. Таким образом, выполнение запорного узла в виде полого штока с кольцеобразным металлическим клапаном на конце, в совокупности с размещением его соосно загрузочному окну, а также установкой в его полости вала манипул тора подложкодержател устран ет наличие органических уп- лотнительных элементов. Это позвол ет улучшить качество наносимых слоев за счет уменьшени количества неконтролируемых, в том числе органических примесей, по вление которых возможно при повышении температуры зоны уплотнени в период проведени высокотемпературных рабочих процессов в рабочих камерах.. Thus, the implementation of the locking assembly in the form of a hollow rod with an annular metal valve at the end, together with its placement coaxially with the loading window, as well as the installation of a substrate holder manipulator in its cavity, eliminates the presence of organic sealing elements. This makes it possible to improve the quality of the applied layers by reducing the amount of uncontrolled, including organic impurities, the appearance of which is possible with increasing temperature of the sealing zone during high-temperature working processes in the working chambers.

Claims

SUMMARY OF THE INVENTION A molecular beam epitaxy apparatus comprising a loading chamber, a transport line connected thereto, along which working chambers having loading windows are arranged in series, each working chamber is separated from the transport line by a shut-off assembly arranged for reciprocating movement, and equipped with a substrate manipulator having a shaft connected to an autonomous drive, characterized in that, in order to increase the purity and quality of the layers, the locking unit is made n as a hollow rod, disposed coaxially with the loading chamber and the working window having at an end an annular metallic valve shaft and the manipulator is placed on a hollow rod axis.

Aa

fi g. 2