RU178216U1 - Compound Magnetron Target Tuning Scale - Google Patents

Compound Magnetron Target Tuning Scale Download PDF

Info

Publication number
RU178216U1
RU178216U1 RU2017120938U RU2017120938U RU178216U1 RU 178216 U1 RU178216 U1 RU 178216U1 RU 2017120938 U RU2017120938 U RU 2017120938U RU 2017120938 U RU2017120938 U RU 2017120938U RU 178216 U1 RU178216 U1 RU 178216U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
target
parts
deposited
magnetron
composite
Prior art date
Application number
RU2017120938U
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Евгений Сергеевич Демидов
Виктор Владимирович Сдобняков
Юрий Аркадьевич Дудин
Валерий Павлович Лесников
Юрий Исаакович Чигиринский
Original Assignee
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" filed Critical Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского"
Priority to RU2017120938U priority Critical patent/RU178216U1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU178216U1 publication Critical patent/RU178216U1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J23/00—Details of transit-time tubes of the types covered by group H01J25/00
    • H01J23/02—Electrodes; Magnetic control means; Screens
    • H01J23/04—Cathodes
    • H01J23/05—Cathodes having a cylindrical emissive surface, e.g. cathodes for magnetrons

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Полезная модель относится к магнетронному оборудованию и может быть использована в качестве съемного проградуированного средства контроля настроечного смещения относительно нижней базовой части составной мишени верхних накладных частей этой мишени, изготовленных каждая из соответствующего отдельного компонента из числа компонентов осаждаемого на подложку многокомпонентного материала пленки, в конструкции распыляемой составной магнетронной мишени - катода для качественного и экономичного осаждения на подложку многокомпонентного материала пленки.Технический результат от использования предлагаемой полезной модели - обеспечение технологичного нормированного смещения каждой верхней накладной части составной магнетронной мишени относительно контура кольцевой зоны распыления указанной мишени с помощью удобного съемного проградуированного средства контроля этого смещения - предлагаемой настроечной шкалы, приводящего к пересечению верхними накладными частями указанного контура для настроечного изменения прикидочной площади распыляемой поверхности каждой верхней накладной части.Для достижения указанного технического результата предлагается настроечная шкала составной магнетронной мишени, представляющая собой прозрачный плоский носитель с нанесенной на его поверхности проградуированной сеткой, снимаемый при магнетронном распылении с плоской нижней базовой части мишени, имеющей в горизонтальной плоскости размеры целиковой мишени и изготовленной из первого компонента осаждаемого на подложку материала пленки, и зафиксированный над поверхностью нижней базовой части мишени с помощью периферийной узкой опоры с возможностью подбираемого поочередного смещения под ним после изменений углового положения указанного носителя относительно нижней базовой части мишени верхних накладных частей мишени, изготовленных каждая из соответствующего отдельного компонента из числа остальных компонентов осаждаемого на подложку материала пленки, для настроечного изменения при пересечении указанными накладными частями контура зоны распыления мишени прикидочных площадей распыляемых поверхностей указанных верхних накладных частей, обеспечивающего требуемые мольные доли компонентов в составе осаждаемого на подложку многокомпонентного материала пленки за счет изменения площадок, занимаемых ими в контуре зоны распыления мишени, вследствие геометрической формы верхних накладных частей.The utility model relates to magnetron equipment and can be used as a removable graduated means for monitoring adjustment bias relative to the lower base part of the composite target of the upper overhead parts of this target, each of which is made of the corresponding individual component from the number of components deposited onto the substrate of the multicomponent film material in the structure of the sprayed composite magnetron target - cathode for high-quality and economical deposition of a multicomponent The technical result from the use of the proposed utility model is the provision of technologically normalized displacement of each upper overhead part of the composite magnetron target relative to the contour of the annular sputtering zone of the specified target using a convenient removable graduated means for controlling this displacement, the proposed adjustment scale, which leads to the intersection of the upper overhead parts of the specified circuit for adjusting the approximate area of the sprayed surface of each To achieve the indicated technical result, a tuning scale of a composite magnetron target is proposed, which is a transparent flat carrier with a graduated grid deposited on its surface, removed by magnetron sputtering from the flat lower base of the target, which has the dimensions of a whole target in a horizontal plane and made of the first component of the film material deposited on the substrate, and fixed above the surface of the lower base part of the target using p narrow peripheral support with the ability to select alternately displace under it after changing the angular position of the specified carrier relative to the lower base part of the target of the upper surface parts of the target, each of which is made of the corresponding individual component from among the remaining components of the film material deposited on the substrate, for tuning changes when the specified surface parts intersect the contour of the spray zone of the target of the approximate areas of the sprayed surfaces of these upper overhead parts Providing the desired mole fractions of components in multicomponent deposited on the substrate film material by changing the areas occupied by them in the loop sputtering zone of the target, due to the geometrical shape of the upper portions of overhead.

Description

Полезная модель относится к магнетронному оборудованию и может быть использована в качестве съемного проградуированного средства контроля настроечного смещения относительно нижней базовой части составной мишени верхних накладных частей этой мишени, изготовленных каждая из соответствующего отдельного компонента из числа компонентов осаждаемого на подложку многокомпонентного материала пленки, в конструкции распыляемой составной магнетронной мишени - катода для качественного и экономичного осаждения на подложку многокомпонентного материала пленки.The utility model relates to magnetron equipment and can be used as a removable graduated means for monitoring adjustment bias relative to the lower base part of the composite target of the upper overhead parts of this target, each of which is made of the corresponding individual component from the number of components deposited onto the substrate of the multicomponent film material in the structure of the sprayed composite magnetron target - cathode for high-quality and economical deposition of a multicomponent about the material of the film.

Рассмотрение предлагаемой настроечной шкалы составной магнетронной мишени ограничено рамками технологических потребностей магнетронного оборудования на основе составных мишеней для магнетронного распыления с нижней сплошной дисковой базовой частью, изготовленной из первого компонента осаждаемого на подложку материала пленки, и верхними накладными частями, изготовленными из остальных компонентов (каждая из своего компонента) материала осаждаемой на подложку пленки и выполненными с возможностью настроечного изменения площади их распыляемых поверхностей, влияющего на получаемый состав осаждаемого на подложку материала пленки, без их повторного (подгоночного) изготовления с подгонкой размеров верхних накладных частей под требуемые размеры - обеспечивающие на выходе задаваемый состав материала пленки. The consideration of the proposed tuning scale of a composite magnetron target is limited by the technological needs of magnetron equipment based on composite targets for magnetron sputtering with a lower solid disk base part made of the first component of the film material deposited onto the substrate and upper overhead parts made of the remaining components (each of its component) of the material deposited on the substrate of the film and made with the possibility of tuning changes in their area aspylyaemyh surfaces affects the resulting structure of the film deposited on the substrate material without their re (fitting) fit to manufacture sizes of upper portions under the overhead required dimensions - providing at the outlet defined by the composition of the film material.

К такому магнетронному оборудованию относятся магнетронные установки на основе таких известных составных мишеней как усложненные и низкотехнологичные в эксплуатации составные мишени, выполненные в виде набора тонких дисков, изготовленных из отдельных компонентов осаждаемого на подложку многокомпонентного материала пленки с нижним сплошным диском и уложенными на нем и друг на друге остальными верхними накладными дисками с равноугольными радиальными окнами - патент JPS 6223964, С23С 14/34, 1987 или различной перфорацией - патент РФ 143793, С23С 14/35, 2014, позволяющими изменять площадь распыляемых компонентов при настроечном взаимном поворотном смещении дисков друг относительно друга.Such magnetron equipment includes magnetron installations based on such well-known composite targets as complicated and low-tech composite targets made in the form of a set of thin disks made of individual components of a multicomponent film material deposited onto a substrate with a lower solid disk and laid on it and one on another other remaining overhead discs with equal-angled radial windows - patent JPS 6223964, C23C 14/34, 1987 or various perforations - RF patent 143793, C23C 14/35, 201 4, allowing you to change the area of the sprayed components during tuning mutual rotational displacement of the disks relative to each other.

В связи с отсутствием более близких аналогов в рамках изложенных выше технологических потребностей магнетронного оборудования без повторного (подгоночного) изготовления верхних накладных частей составной магнетронной мишени в настоящем описании предлагаемой полезной модели выбрана форма раскрытия ее сущности в формуле полезной модели - без прототипа.Due to the lack of closer analogues in the framework of the technological needs of the magnetron equipment described above without re-fitting the upper parts of the composite magnetron target in the present description of the proposed utility model, the disclosure of its essence in the utility model formula is chosen without prototype.

Технический результат от использования предлагаемой полезной модели - обеспечение технологичного нормированного смещения каждой верхней накладной части составной магнетронной мишени относительно контура кольцевой зоны распыления указанной мишени с помощью удобного съемного проградуированного средства контроля этого смещения - предлагаемой настроечной шкалы, приводящего к пересечению верхними накладными частями указанного контура для настроечного изменения прикидочной площади распыляемой поверхности каждой верхней накладной части.The technical result from the use of the proposed utility model is the provision of technologically normalized displacement of each upper overhead part of the composite magnetron target relative to the contour of the annular sputtering zone of the specified target using a convenient removable graduated means for monitoring this displacement, the proposed adjustment scale, which leads to the intersection of the upper overhead parts of the specified contour for the adjustment changes in the estimated area of the sprayed surface of each upper invoice h Asti.

Для достижения указанного технического результата предлагается настроечная шкала составной магнетронной мишени, представляющая собой съемный прозрачный плоский носитель с нанесенной на его поверхности проградуированной сеткой, имеющий узкую опору с возможностью подбираемого поочередного смещения под ним частей мишени после изменений углового положения указанного носителя.To achieve the technical result, a tuning scale of a composite magnetron target is proposed, which is a removable transparent flat carrier with a graduated grid deposited on its surface, having a narrow support with the ability to select alternately shifting parts of the target beneath it after changing the angular position of the specified carrier.

Для настройки круглой составной магнетронной мишени:To set up a circular composite magnetron target:

плоский носитель может быть выполнен в виде круглой стеклянной тонкой пластины или натянутой на жестком обруче прозрачной полимерной пленки, а узкая опора может представлять собой периферийные узкие опорные стойки с проемами между ними для подбираемого поочередного смещения частей мишени;the flat carrier can be made in the form of a round glass thin plate or a transparent polymer film stretched on a hard hoop, and the narrow support can be peripheral narrow support posts with openings between them for selectable alternate displacement of the target parts;

плоский носитель может быть выполнен в виде полукруглой стеклянной тонкой пластины или натянутой на жестком обруче прозрачной полимерной пленки, а узкая опора может представлять собой круглую сплошную периферийную узкую опорную стенку с проемом вдоль диаметрального среза носителя для подбираемого поочередного смещения частей мишени;a flat carrier can be made in the form of a semicircular glass thin plate or a transparent polymer film stretched on a hard hoop, and the narrow support can be a circular continuous peripheral narrow support wall with an aperture along the diametrical cut of the carrier for selectively shifting parts of the target;

плоский носитель может быть выполнен в виде круглой пластины из органического стекла, снабжен двумя параллельными узкими прорезями по обе стороны от ее центра для подбираемого поочередного смещения через них частей мишени и иметь, нанесенную на поверхности указанной круглой пластины и пересекающую под прямым углом указанные прорези проградуированную прямоугольную сетку.the flat carrier can be made in the form of a round plate of organic glass, equipped with two parallel narrow slots on both sides of its center for selectively shifting target parts through them and have, on the surface of the specified round plate and crossing at the right angle the indicated slots, a graduated rectangular the grid.

Для стабильного нормированного смещения частей мишени проградуированная сетка, нанесенная на поверхности прозрачного плоского носителя, может иметь шаг градуировки, For a stable normalized displacement of parts of the target, a graded grid deposited on the surface of a transparent flat carrier may have a graduation step,

задаваемый усредненной экспериментальной оценкой погрешности прикидочного соответствия площадей распыляемой поверхности двух верхних накладных частей мишени требуемым мольным долям соответствующих компонентов в составе осаждаемого на подложку материала пленки.defined by the average experimental estimate of the approximation of the correspondence between the areas of the sprayed surface of the two upper target overhead parts and the required molar fractions of the corresponding components in the film material deposited onto the substrate.

На фиг. 1 показан вид сверху предлагаемой съемной настроечной шкалы, установленной над составной магнетронной мишенью и выполненной в виде круглой стеклянной тонкой пластины с нанесенной на ней проградуированной радиальной сеткой (фиг. 1а) и вид сбоку указанной шкалы (см. фиг. 1б); на фиг. 2 - вид сверху предлагаемой съемной настроечной шкалы, установленной над составной магнетронной мишенью и выполненной в виде полукруглой стеклянной тонкой пластины с нанесенной на ней проградуированной радиальной сеткой; на фиг. 3 - вид сверху предлагаемой съемной настроечной шкалы, установленной над составной магнетронной мишенью (без размещенных под ней верхних накладных частей мишени) и выполненной в виде круглой стеклянной тонкой пластины с двумя параллельными прорезям и нанесенной на ней проградуированной прямоугольной сеткой.In FIG. 1 shows a top view of the proposed detachable tuning scale mounted above a composite magnetron target and made in the form of a round glass thin plate with a graduated radial grid deposited on it (Fig. 1a) and a side view of the indicated scale (see Fig. 1b); in FIG. 2 is a top view of the proposed detachable tuning scale mounted above the composite magnetron target and made in the form of a semicircular glass thin plate coated with a graduated radial grid; in FIG. 3 is a top view of the proposed detachable tuning scale mounted above the composite magnetron target (without the upper overhead parts of the target placed below it) and made in the form of a round glass thin plate with two parallel slots and a graduated rectangular grid deposited on it.

Предлагаемая настроечная шкала составной магнетронной мишени (см. фиг. 1-3) представляет собой прозрачный плоский носитель 1 с нанесенной на его поверхности проградуированной сеткой 2, снимаемый при магнетронном распылении с плоской нижней базовой части мишени 3, имеющей в горизонтальной плоскости размеры целиковой мишени и изготовленной из первого компонента осаждаемого на подложку материала пленки, и зафиксированный над поверхностью нижней базовой части 3 мишени с помощью периферийной узкой опоры (показанной на фиг. 1 в виде трех узких опорных стоек 4) с возможностью подбираемого поочередного смещения под ним после изменений углового положения указанного носителя относительно нижней базовой части мишени 3 в настоящих примерах двух верхних накладных частей мишени 5 и 6, изготовленных каждая из соответствующего отдельного компонента из числа остальных компонентов осаждаемого на подложку (на фигурах не показана) двухкомпонентного материала пленки, для настроечного изменения при пересечении накладными частями 5 и 6 контура зоны распыления 7 мишени (показана условно) прикидочных площадей распыляемых поверхностей указанных верхних накладных частей, обеспечивающего требуемые мольные доли компонентов в составе осаждаемого на подложку многокомпонентного материала пленки за счет изменения площадок, занимаемых ими в контуре зоны распыления 7 мишени, вследствие геометрической формы верхних накладных частей, выполненных в настоящих примерах в виде кольцевых секторов.The proposed tuning scale of the composite magnetron target (see Fig. 1-3) is a transparent flat carrier 1 with a graduated grid 2 deposited on its surface, removed by magnetron sputtering from the flat lower base of the target 3, which has the dimensions of the whole target in the horizontal plane and made of the first component of the film material deposited on the substrate, and fixed above the surface of the lower base part 3 of the target using a peripheral narrow support (shown in Fig. 1 in the form of three narrow 4) with the ability to selectively shift under it after changing the angular position of the specified carrier relative to the lower base part of the target 3 in the present examples, the two upper overhead parts of the target 5 and 6, made each of the corresponding separate component from among the remaining components deposited on the substrate (on figures not shown) two-component film material, for tuning changes when crossing overhead parts 5 and 6 of the contour of the spray zone 7 of the target (conventionally shown) full-time areas of the sprayed surfaces of these upper overhead parts, providing the required molar fractions of the components in the composition of the multicomponent film material due to changes in the areas occupied by them in the contour of the spray zone 7 of the target, due to the geometric shape of the upper overhead parts made in the form of annular sectors.

При этом в первом примере выполнения предлагаемой настроечной шкалы (см. фиг. 1) в случае выполнения нижней базовой части 3 составной мишени в виде круглого диска и двух верхних накладных частей 5 и 6 в виде кольцевых секторов прозрачный плоский носитель 1 выполнен в виде круглой стеклянной тонкой пластины или натянутой на жестком обруче прозрачной полимерной пленки с нанесенной на их поверхностях проградуированной радиальной сеткой 2, обеспечивающей под ними подбираемое поочередное радиальное смещение верхних накладных частей 5 и 6 составной мишени относительно кольцевой зоны рассеяния 7 этой мишени.Moreover, in the first embodiment of the proposed tuning scale (see Fig. 1), in the case of the lower base part 3 of the composite target in the form of a round disk and two upper patch parts 5 and 6 in the form of annular sectors, the transparent flat carrier 1 is made in the form of a round glass a thin plate or a transparent polymer film stretched on a hard hoop with a graduated radial grid 2 deposited on their surfaces, providing under them a selected alternate radial displacement of the upper patch parts 5 and 6 composition second target relative to the annular area 7 of the scattering target.

Причем прозрачный плоский носитель 1 имеет три периферийных узких опорных стоек 4 с проемами между ними для радиального подбираемого поочередного смещения верхних накладных частей 5 и 6 составной мишени с помощью боковых узких подручных средств (на фигурах не показаны).Moreover, the transparent flat carrier 1 has three peripheral narrow support legs 4 with openings between them for radially selected alternately displacing the upper overhead parts 5 and 6 of the composite target using narrow side improvised means (not shown in the figures).

Во втором примере выполнения предлагаемой настроечной шкалы (см. фиг. 2) в случае выполнения нижней базовой части 3 составной мишени в виде круглого диска и двух верхних накладных частей 5 и 6 в виде кольцевых секторов прозрачный плоский носитель 1 выполнен в виде полукруглой стеклянной тонкой пластины или натянутой на жестком обруче прозрачной полимерной пленки с нанесенной на их поверхностях проградуированной радиальной сеткой 2, обеспечивающей под ними подбираемое поочередное радиальное смещение верхних накладных частей 5 и 6 составной мишени относительно кольцевой зоны рассеяния 7 этой мишени.In the second example of the proposed tuning scale (see Fig. 2), in the case of the lower base part 3 of the composite target in the form of a round disk and two upper patch parts 5 and 6 in the form of ring sectors, the transparent flat carrier 1 is made in the form of a semicircular glass thin plate or a transparent polymer film stretched on a hard hoop with a graduated radial grid 2 deposited on their surfaces, providing under them a selected alternate radial displacement of the upper overhead parts 5 and 6 of the composite target relative to the annular scattering zone 7 of this target.

Причем прозрачный плоский носитель 1 имеет круглую сплошную периферийную узкую опорную стенку (на фигурах не показана) с проемом вдоль диаметрального среза носителя 1 для радиального подбираемого поочередного смещения верхних накладных частей 5 и 6 составной мишени за счет фрикционного контакта с выступающей из-под носителя 1 верхней поверхностью указанных верхних накладных частей.Moreover, the transparent flat carrier 1 has a round continuous peripheral narrow support wall (not shown in the figures) with an aperture along the diametrical section of the carrier 1 for radially selected alternately displacing the upper patch parts 5 and 6 of the composite target due to frictional contact with the upper protruding from under the carrier 1 the surface of these upper overhead parts.

В третьем примере выполнения предлагаемой настроечной шкалы (см. фиг. 3) в случае выполнения нижней базовой части 3 составной мишени в виде круглого диска и двух верхних накладных частей 5 и 6 в виде кольцевых секторов прозрачный плоский носитель 1 выполнен в виде круглой тонкой пластины из органического стекла, снабжен двумя параллельными узкими прорезями 8 по обе стороны от ее центра для радиального подбираемого поочередного смещения через них с помощью с помощью верхних узких подручных средств (на фигурах не показаны) верхних накладных частей 5 и 6 составной мишени и имеет, нанесенную на поверхности указанной круглой пластины и пересекающую под прямым углом прорези 8 проградуированную прямоугольную сетку 9.In the third example of the proposed tuning scale (see Fig. 3), in the case of the lower base part 3 of the composite target in the form of a round disk and two upper patch parts 5 and 6 in the form of ring sectors, the transparent flat carrier 1 is made in the form of a round thin plate of organic glass, equipped with two parallel narrow slots 8 on both sides of its center for radially selected alternate displacement through them using upper narrow improvised means (not shown in the figures) of the upper waybills 5 and 6 of the composite target and has, on the surface of the indicated round plate and crossing at a right angle of the slot 8, a graduated rectangular grid 9.

Для стабильного нормированного смещения каждой верхней накладной части составной магнетронной мишени относительно контура кольцевой зоны распыления 7 указанной мишени во всех трех примерах на поверхности ее обеих верхних накладных частей 5 и 6 нанесена контрольная центральная радиально-поперечная риска 10, а проградуированная сетка 2 или 9, нанесенная на поверхности прозрачного плоского носителя 1, имеет шаг градуировки, задаваемый усредненной экспериментальной оценкой погрешности прикидочного соответствия площадей распыляемой поверхности верхних накладных частей мишени требуемым мольным долям соответствующих им компонентов в составе осаждаемого на подложку материала пленки и составивший для осаждаемого (с помощью магнетронной установки ВУП-4к) на кремниевую подложку трехкомпонентного (GeO2, SrO, Bi2O3) материала пленки величину ~1 мм.For a stable normalized displacement of each upper overhead part of the composite magnetron target relative to the contour of the annular sputtering zone 7 of the specified target, in all three examples, a central radial transverse risk 10 is applied on the surface of its both upper overhead parts 5 and 6, and a graded grid 2 or 9, applied on the surface of a transparent flat carrier 1, has a graduation step specified by the averaged experimental estimate of the error in the approximate correspondence of the areas of the sprayed surface NOSTA upper overhead parts of the target the desired mole fractions of the corresponding components in the composition deposited on the substrate film material, and amounting to be deposited (via magnetron installation VUP-4k) on a silicon substrate ternary (GeO 2, SrO, Bi 2 O 3) film material is ~ 1 mm.

Используют предлагаемую съемную настроечную шкалу для подготовки составной мишени к магнетронному распылению следующим образом.Use the proposed removable tuning scale to prepare a composite target for magnetron sputtering as follows.

После первого пробного осаждения на первую подложку трехкомпонентного материала с помощью нижней базовой части 3 и верхних накладных частей 5 и 6 (на магнетронной установке ВУП-4к при режиме высокочастотного распыления) и получения пленки состава 79GeO2-16SrO-5Bi2O3 недопустимо отклоняющегося от требуемого состава 80GeO2-18SrO-2Bi2O3, используя прозрачный плоский носитель 1 с проградуированной радиальной сеткой 2 (в первом примере), совмещаемой с контрольными центральными радиально-поперечными рисками 10, производят ручные (с помощью механических захватов) нормированные радиальные смещения относительно прежней нижней базовой части 3 верхних накладных частей 5 и 6 на шаг смещения 2 мм и 3 мм соответственно и повторно осаждают на вторую подложку указанный трехкомпонентный материал с получением пленки с допустимым составом 79,2GeO2-17,5SrO-3,3Bi2O3.After the first test deposition of a three-component material on the first substrate using the lower base part 3 and the upper overhead parts 5 and 6 (on a VUP-4k magnetron setup under high-frequency sputtering mode) and obtaining a film of the composition 79GeO 2 -16SrO-5Bi 2 O 3 unacceptably deviating from desired composition 80GeO 2 -18SrO-2Bi 2 O 3 using transparent flat carrier 1 with a graduated radial grid 2 (in the first example), mating with the control central radially-transverse risk 10 produce hand (using for mechanical wats) normalized radial displacement relative to the same lower base portion 3 of the upper overhead parts 5 and 6 in the displacement step 2 mm and 3 mm, respectively, and re-precipitated on said second substrate, a ternary material to form a film with an acceptable composition 79,2GeO 2 -17,5SrO- 3.3Bi 2 O 3 .

Аналогично используют предлагаемую съемную настроечную шкалу во втором и третьем примере ее выполнения с разницей использования проградуированной радиальной сетки 2 (во втором примере) и проградуированной прямоугольной сетки 9 (в третьем примере) и средств нормированного радиального смещения относительно прежней нижней базовой части 3 верхних накладных частей 5 и 6 - за счет фрикционного контакта с выступающей из-под носителя 1 верхней поверхностью указанных верхних накладных частей, предварительно перемещенных частично под носитель 1, во втором примере и смещения с помощью верхних узких подручных средств через прорези 8 в третьем примере.Similarly, the proposed removable tuning scale is used in the second and third example of its implementation with the difference of using a calibrated radial grid 2 (in the second example) and a graduated rectangular grid 9 (in the third example) and normalized radial displacement means relative to the previous lower base part 3 of the upper overhead parts 5 and 6 - due to frictional contact with the upper surface of said upper surface parts protruding from under the carrier 1, partially moved previously under the carrier 1, on the second sample and offset via the upper narrow slit through improvised means 8 in the third example.

Claims (5)

1. Настроечная шкала составной магнетронной мишени, представляющая собой съемный прозрачный плоский носитель с нанесенной на его поверхности проградуированной сеткой, имеющий узкую опору с возможностью подбираемого поочередного смещения под ним частей мишени после изменений углового положения указанного носителя.1. The tuning scale of the composite magnetron target, which is a removable transparent flat carrier with a graduated grid deposited on its surface, having a narrow support with the ability to select alternately displace parts of the target below it after changing the angular position of the specified carrier. 2. Настроечная шкала по п. 1, отличающаяся тем, что плоский носитель выполнен в виде круглой стеклянной тонкой пластины или натянутой на жестком обруче прозрачной полимерной пленки, а узкая опора представляет собой периферийные узкие опорные стойки с проемами между ними для подбираемого поочередного смещения частей мишени.2. The tuning scale according to claim 1, characterized in that the flat carrier is made in the form of a round glass thin plate or a transparent polymer film stretched on a hard hoop, and the narrow support is peripheral narrow support posts with openings between them for selectively shifting target parts . 3. Настроечная шкала по п. 1, отличающаяся тем, что плоский носитель выполнен в виде полукруглой стеклянной тонкой пластины или натянутой на жестком обруче прозрачной полимерной пленки, а узкая опора представляет собой круглую сплошную периферийную узкую опорную стенку с проемом вдоль диаметрального среза носителя для подбираемого поочередного смещения частей мишени.3. The tuning scale according to claim 1, characterized in that the flat carrier is made in the form of a semicircular glass thin plate or a transparent polymer film stretched on a hard hoop, and the narrow support is a round continuous peripheral narrow support wall with an aperture along a diametrical cut of the carrier for the selected alternating displacement of parts of the target. 4. Настроечная шкала по п. 1, отличающаяся тем, что плоский носитель выполнен в виде круглой пластины из органического стекла, снабжен двумя параллельными узкими прорезями по обе стороны от ее центра для подбираемого поочередного смещения через них частей мишени и имеет нанесенную на поверхности указанной круглой пластины и пересекающую под прямым углом указанные прорези проградуированную прямоугольную сетку.4. The tuning scale according to claim 1, characterized in that the flat carrier is made in the form of a round plate of organic glass, is equipped with two parallel narrow slots on either side of its center for selectable alternate displacement of the target parts through them and has the indicated round on the surface plates and a graduated rectangular grid intersecting the specified slots at right angles. 5. Настроечная шкала по п. 1, отличающаяся тем, что проградуированная сетка, нанесенная на поверхности прозрачного плоского носителя, имеет шаг градуировки, задаваемый усредненной экспериментальной оценкой погрешности прикидочного соответствия площадей распыляемой поверхности частей мишени требуемым мольным долям соответствующих им компонентов в составе осаждаемого на подложку материала пленки.            5. The tuning scale according to claim 1, characterized in that the graduated grid deposited on the surface of a transparent flat carrier has a graduation step defined by the average experimental estimate of the error in the approximate correspondence between the areas of the sprayed surface of the target parts and the required molar fractions of the corresponding components in the composition deposited on the substrate film material.
RU2017120938U 2017-06-14 2017-06-14 Compound Magnetron Target Tuning Scale RU178216U1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2017120938U RU178216U1 (en) 2017-06-14 2017-06-14 Compound Magnetron Target Tuning Scale

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2017120938U RU178216U1 (en) 2017-06-14 2017-06-14 Compound Magnetron Target Tuning Scale

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU178216U1 true RU178216U1 (en) 2018-03-28

Family

ID=61867633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2017120938U RU178216U1 (en) 2017-06-14 2017-06-14 Compound Magnetron Target Tuning Scale

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU178216U1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2454482C2 (en) * 2010-06-03 2012-06-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН) Method for obtaining composite target for sputtering from tungsten-titanium-rhenium alloy
RU2502828C1 (en) * 2012-06-18 2013-12-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" Application of antifriction wear-proof coat on titanium, alloys
RU141589U1 (en) * 2013-05-22 2014-06-10 МИНИСТЕРСТВО ОБОРОНЫ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ КАЗЁННОЕ ВОЕННОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ПРОФЕССИОНАЛЬНОГО ОБРАЗОВАНИЯ Военная академия ракетных войск стратегического назначения имени Петра Великого DEVICE FOR MEASURING LINEAR DEFORMATIONS OF A SAMPLE PERFORMED FROM A LOW-MODULE MATERIAL
EA026548B1 (en) * 2009-04-10 2017-04-28 Сэн-Гобэн Коутинг Солюшнз Process for producing a target by thermal spraying

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EA026548B1 (en) * 2009-04-10 2017-04-28 Сэн-Гобэн Коутинг Солюшнз Process for producing a target by thermal spraying
RU2454482C2 (en) * 2010-06-03 2012-06-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН) Method for obtaining composite target for sputtering from tungsten-titanium-rhenium alloy
RU2502828C1 (en) * 2012-06-18 2013-12-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" Application of antifriction wear-proof coat on titanium, alloys
RU141589U1 (en) * 2013-05-22 2014-06-10 МИНИСТЕРСТВО ОБОРОНЫ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ КАЗЁННОЕ ВОЕННОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ПРОФЕССИОНАЛЬНОГО ОБРАЗОВАНИЯ Военная академия ракетных войск стратегического назначения имени Петра Великого DEVICE FOR MEASURING LINEAR DEFORMATIONS OF A SAMPLE PERFORMED FROM A LOW-MODULE MATERIAL

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7532332B2 (en) Projector for an arrangement for three-dimensional optical measurement of objects
US6830663B2 (en) Method for creating radial profiles on a substrate
US9403257B2 (en) Apparatus and method for double-side polishing of work
ES2727323T3 (en) PVD processing apparatus and PVD processing method
RU178216U1 (en) Compound Magnetron Target Tuning Scale
US3727842A (en) Agricultural sprinkler head
CN102732844A (en) Design method of coating uniformity correction baffle plate of spherical optical element on planetary rotating fixture of vacuum coating machine
TW200632116A (en) Tool and device for dedicate coating a photochemical film on a substrate
TW201812122A (en) Susceptor for holding a semiconductor wafer, method for depositing an epitaxial layer on a front side of a semiconductor wafer, and semiconductor wafer with epitaxial layer
JP2021099399A (en) Lens for terahertz wave and method for manufacturing lens for terahertz wave
CN103547702A (en) Shadow mask alignment using coded apertures
KR20220110335A (en) Method for producing a coating and optoelectronic semiconductor component having a coating
WO2004027107A1 (en) Masking mechanism for film-forming device
RU2695716C1 (en) Composite target for magnetron sputtering
JP5793737B1 (en) Vapor deposition equipment
RU2664350C1 (en) Method for setting the magnetic spray of the composite target
CN106319465A (en) Rotating target and magnetron sputtering device
CA2348147C (en) Method of shaping a flex mask for use in uniform optical coating by ion beam sputtering
CN102763021A (en) Selective diffractive optical element and a system including the same
ES2378906T3 (en) Method to deposit a material
KR20230172016A (en) Sputtering device for coating 3D objects
Ramprasad et al. Uniformity of film thickness on rotating planetary planar substrates
JP2004003016A (en) Coating device and coating method
US5288328A (en) Apparatus for controlling a material flow emitted by a heated evaporation source and application to a vacuum evaporation coating machine
US9611537B2 (en) Target shaping