PL99416B1 - Dwupasmowy tensometr elastooptyczny - Google Patents

Dwupasmowy tensometr elastooptyczny Download PDF

Info

Publication number
PL99416B1
PL99416B1 PL19214676A PL19214676A PL99416B1 PL 99416 B1 PL99416 B1 PL 99416B1 PL 19214676 A PL19214676 A PL 19214676A PL 19214676 A PL19214676 A PL 19214676A PL 99416 B1 PL99416 B1 PL 99416B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
strain gauge
band
isochrome
bands
frozen
Prior art date
Application number
PL19214676A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL19214676A priority Critical patent/PL99416B1/pl
Publication of PL99416B1 publication Critical patent/PL99416B1/pl

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest dwupasmowy tensometr elastooptyczny do pomiaru malych odksztalcen elementów w przemysle maszynowym, budownictwie i górnictwie.Znane z literatury G. Oppel, F. Zandman, J. Javornicy oraz z polskiego opisu patentowego nr 50221 jednoosiowe tensometry elastooptyczne rózniace sie ksztaltem, budowa i sposobem klejenia stanowia pojedyncze pasmo materialu czulego optycznie z wstepnie zamrozonym obrazem izochrom. Miara odksztalcenia badanego elementu równego odksztalceniu naklejonego nan tensometru elastooptycznego jest wielkosc przesuniecia izochromy pomiarowej wzgledem jej pierwotnego polozenia w stanie nieobciazonym. Niedogodnoscia wynikaja¬ ca ze stosowania jednopasmo wy eh tensometrów elastooptycznych jest male przesuniecie zamrozonych izochrom wystepujace przy pomiarach stosunkowo malych odksztalcen. Na skutek duzego bledu w okreslaniu malego przesuniecia izochrom wzrasta blad pomiaru.Istota wynalazku polega na tym, ze dwupasmowy tensometr elastooptyczny stanowia dwa pasma czulego optycznie materialu z tak zamrozonymi wstepnie i 'ochromami, iz odksztalcenie badanego elementu z naklejo¬ nym nan tensometrem powoduje przesuniecie sie izochrom w przeciwnych do siebie kierunkach. Miara odksztalcenia badanego elementu jest odleglosc miedzy polówkami izochromy pomiarowej na obu pasmach.W przypadku jednakowych odksztalcen za pomoca jednopasmowego i dwupasmowego tensometru elastooptycz¬ nego posiadajacych jednakowe stale tensometryczne, odleglosc miedzy polówkami izochromy pomiarowej dwupasmowego tensometru elastooptycznego, a przesunieciem izochromy pomiarowej jednopasmowego tenso¬ metru elastooptycznego jest dwukrotnie wieksza. ¦ Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedsta¬ wia tensometr w przekroju podluznym, fig. 2 — tensometr w widoku z góry z zamrozonym obrazem izochrom przed obciazeniem, a fig. 3 — ten sam tensometr po obciazeniu.Tensometr wedlug wynalazku sklada sie z dwóch pasm 1 wykonanych z materialu optycznie czulego z zamrozonym obrazem izochrom. Pasma 1 sa przyklejone klejem na bazie epoksydowej zywicy 2 do podkladek w ten sposób, ze miedzy ich dluzszymi krawedziami istnieje szczelina. Podkladki 3 wykonane sa z tego samego2 99 416 czulego optycznie materialu co pasma 1. Dolna strona pasm 1 pokryta jest odblaskowa warstwa 4, która stanowi cienkf powloka napylonego aluminium. Nad pasmami do podkladek 3 przyklejone sa polaryzacyjne filtry 5.Tensometr iest przyklejany do badanego elementu 6 równiez klejem. • SemeTwupasmowego tensometru elastooptycznego wzdluz jego osi powoduje przeslecie polówek iz^rPl««owej w przeciwnych kierunkach o jednakowa wartosd. Wielko- odksztalcenia badanego ZneZ okS aoczyn stalej elastooptycznej tensometru i odleglosci miedzy polówkami izochromy pomiaro- wej. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Dwupasmowy tensometr elastooptyczny zwlaszcza do pomiaru malych odksztalcen ^znamienny t y m,fc sLowTgo dwa ustawione równolegle pasma (1) z materialu optycznie czulego, w których zamrozony ie^bL izochrom w postaci równo oddalonych od siebie prazków, przy czym pasma (1) sa przyklejone do £££k ®Topostrrprostokatnych plytek ustawionych prostopadle do osi podluznej tensometru, wykona- ^ tego sime^o materialu, U zemiedzy pasmami (1) znajduje sie szczelina, natomiast pasma (1) sa obrócone w swej plaszczyznie wzgledem siebie okat 180°C, co powoduje, ze suma zamrozonych naprezen w dowolnym przekroju poprzecznym tensometru jest równa zeru. Fig. 1 Fig.2 ^ v=7 Fig.3 Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl PL
PL19214676A 1976-08-31 1976-08-31 Dwupasmowy tensometr elastooptyczny PL99416B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19214676A PL99416B1 (pl) 1976-08-31 1976-08-31 Dwupasmowy tensometr elastooptyczny

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19214676A PL99416B1 (pl) 1976-08-31 1976-08-31 Dwupasmowy tensometr elastooptyczny

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL99416B1 true PL99416B1 (pl) 1978-07-31

Family

ID=19978403

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL19214676A PL99416B1 (pl) 1976-08-31 1976-08-31 Dwupasmowy tensometr elastooptyczny

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL99416B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4420251A (en) Optical deformation sensor
Post et al. Accuracy of birefringent-coating method for coatings of arbitrary thickness: Authors endeavor to develop and verify rational concepts of the behavior of birefringent coatings, as a step toward general understanding of the factors that control accuracy of method
Sulejmani et al. Disbond monitoring in adhesive joints using shear stress optical fiber sensors
Zachary et al. Dynamic wave propagation in a single lap joint: Paper reports on the results of a two-dimensional dynamic photoelastic study of the stresses in a short single lap joint when an elastic impulse wave traverses it from one plate into the other
CN114034261B (zh) 一种小型化三向光纤光栅应变传感器
PL99416B1 (pl) Dwupasmowy tensometr elastooptyczny
CN105758323A (zh) 一种基于fbg传感器测试薄试件应变的方法
Goodier et al. An extension of the photoelastic method of stress measurement to plates in transverse bending
WO2000012960A1 (en) Thin film strain sensors based on interferometric optical measurements
Shukla et al. Angular dependence of dynamic load transfer due to explosive loading in granular aggregate chains
Nowell et al. Tractive rolling of tyred cylinders
CN1414350A (zh) 扭转和温度同时感测的光纤光栅扭转传感装置
Weglein SAW dispersion and film-thickness measurement by acoustic microscopy
Timoshenko et al. Stress concentration produced by holes and fillets
US3096388A (en) Photoelastic transducers
US3110175A (en) Load cell
Keeton et al. Load transfer characteristics of a dowelled joint subjected to aircraft wheel loads
US10330545B2 (en) Transducer sensor body
CN109930696A (zh) 一种滑动铰接节点及滑动铰接结构
Hunderi On the problems of multiple overlayers in ellipsometry and a new look at multiple angle of incidence ellipsometry
US3067606A (en) Photoelastic device for indicating principal strain directions
CN105716535A (zh) 一种用于测试薄试件应变的传感器组桥方式
Newman et al. Strain measurements on saturated concrete specimens
Kaplevatsky et al. Bending and buckling of multilayer thin plates
Schwaighofer Applications of photoelastic strain gages: Several applications of two types of photoelastic gages for strain measurements on metallic and nonmetallic structural members are demonstrated and their features discussed