PL90349B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL90349B1
PL90349B1 PL16384073A PL16384073A PL90349B1 PL 90349 B1 PL90349 B1 PL 90349B1 PL 16384073 A PL16384073 A PL 16384073A PL 16384073 A PL16384073 A PL 16384073A PL 90349 B1 PL90349 B1 PL 90349B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
layer
layers
conductivity
semiconductor
crystal
Prior art date
Application number
PL16384073A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL16384073A priority Critical patent/PL90349B1/pl
Publication of PL90349B1 publication Critical patent/PL90349B1/pl

Links

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest laser pólprzewodnikowy zwlaszcza laser pólprzewodnikowy z pompowaniem elektrycznym, który moze byc wykorzystywany do uzyskiwania promieniowania spójnego. Tego rodzaju zródla promieniowania wykorzystuje sie na przyklad w systemach telekomunikacyjnych, w elektronicznej technice i w róznych dziedzinach techniki optoelektronicznej.
Znane lasery pólprzewodnikowe (wzmacniacze swiatla przez wymuszona emisje promieniowania) wyko¬ nuje sie z pólprzewodnikowych krysztalów o wielowarstwowej strukturze. Warstwy pólprzewodnikowe maja rózne typy przewodnictwa. W zaleznosci od struktury jedna z warstw jest zdolna do indywidualnego promienio¬ wania swiatla, jezeli do ukladu bedzie przylozone napiecie polaryzujace w kierunku przewodzenia. Zwykle warstwa nazywa sie obszarem czynnym lasera. W takim laserze rezonatorem sa powierzchnie pólprzewodniko¬ wego krysztalu, stanowiace rezonator Fabry-Perota.
Zwykle wielowarstwowa strukture uzyskuje sie z krysztalów pólprzewodnikowych o duzej zdolnosci do rekombinacji promieniowania, gdy nastepuje wstrzykiwanie par elektron-dziura. Przykladowo wykorzystuje sie GaAs (arsenek galu) GaP (fosforek galu), InAs (arsenek indu). Aktualnie najwieksze zastosowanie znalazly trójwarstwowe struktury pólprzewodnikowe z heterozlaczami o róznym typie przewodnictwa na przyklad typu p*-p-n lub n+-n-p.
W krysztale o trójwarstwowej strukturze warstwa czynna, to znaczy generujaca promieniowanie swietlne, jest warstwa srodkowa o przewodnictwie typu p lub n. Warstwa ta znajduje sie miedzy dwoma warstwami pólprzewodnikowymi o wzajemnie przeciwnych typach przewodnictwa. Warstwa ta ma zwykle mniejsza szerokosc pasma zabronionego, niz szerokosc pasma zabronionego przylegajacych do niej warstw. Jak juz wspomniano, po przylozeniu do krysztalu w kierunku przewodzenia napiecia polaryzujacego, warstwa czynna generuje promieniowanie swietlne.
Do wzbudzenia takiego lasera konieczne jest uzycie dosyc zlozonego specjalnego urzadzenia sterujacego, zawierajacego pólprzewodnikowe diody, tyrystory i tranzystory. Prowadzi to do zwiekszenia wymiarów urzadzen, w których stosowany jest opisany laser. Ponadto nie moze on byc wykorzystany jako element pamieciowy lub element przelaczajacy, poniewaz trójwarstwowa struktura ma zwykla charakterystyke napiecio- wo-pradowa.t 90349* * Celem wynalazku Jest uzyskanie lasera pólprzewodnikowego, którego czesc charakterystyk! napreciowo-pr- adomj w*a opornosc ujemna. Pozwala to na znaczne uproszczenie ukladu elektrycznego pompowania i na zrrmlejsztroe jego wymiarów. Ponadto laser moze byc wykorzystywany w charakterze elementu pamieciowego kib przelaczajacego w róznych optoelektrycznych ukladachlogicznych. • Cel ten osiagnieto w oparciu o pólprzewodnikowy laser z elektrycznym pompowaniem, zbudowany * frólfjrzewodnikowego krysztalu z heterozlaczami i posiadajacy warstwy o róznym typie przewodnictwa. Jedna z warstw mtjduje sie wewnatrz optycznego rezonatora miedzy dwoma warstwami pólprzewodnikowymi *W*fi£er*7ue przeciwnych typach przewodnictwa. Warstwy te maja szerokosc pasma zabronionego wieksza, niz szerokosc pasma zabronionego zawartej miedzy nimi warstwy, która generuje promieniowanie swietlne, gdy do krysztalu zostanie prjylozone w kierunku przewodzenia napiecie polaryzujace. Wedlug wynalazku krysztal ma .pieciowarstwowa strukture. Zewnetrzne warstwy tej struktury maja wzajemnie przeciwne typy przewodnictwa.
Do jednej z zewnetrznych warstw przylega bezposrednio warstwa generujaca promieniowanie swietlne. Warstwa ta jest oddzielona od drugiej warstwy zewnetrznej dwoma warstwami o przeciwnych typach przewodnictwa, które sa rozlozone w ten sposób, ze warstwa stykajaca sie z wymieniona druga warstwa zewnetrzna ma przeciwny w stosunku do niej typ przewodnictwa Zastosowanie w laserze pólprzewodnikowym krysztalu o pieciowarstwowej strukturze z rozkladem warstw w wyzej podany sposób, zapewnia wystepowanie odcinka charakterystyki napieciowo-pradowej o opor¬ nosci ujemnej. Pozwala to na wykorzystywanie lasera jako elementu pamieciowego lub przelaczajacego oraz pozwala uproscic uklad elektrycznego pompowania w laserze.
Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedsta¬ wia schemat przekroju lasera pólprzewodnikowego wedlug wynalazku, fig. 2 — charakterystyke napieciowo-pra- dowa lasera wedlug wynalazku, fig. 3 — laser wedlug wynalazku polaczony do zródla zasilania.
Przedstawiony na fig. 1 laser z elektrycznym pompowaniem jest wykonany z arsenku galu (GaAs) i ze zwiazku chemicznego AlxGai.xAs. Pólprzewodnikowy krysztal ma piec warstw monokrystalicznych. Warstwy 1 12 sa*wykonane ze stalego roztworu zwiazku chemicznego Alxir2Gai_xi ^As. Wprowadzenie domieszek stopowych do warstw 1 i 2 jest uzaleznione odpowiednio od typów przewodnictwa n i p. Wartosc x«|#2 okreslajaca zawartosc glinu w stalym roztworze moze zmieniac sie od 0 do 0,5. Warstwa 3 jest wykonana na bazie zwiazku AIX3Gai_X3 i ma przewodnictwo typu n. Wartosc x3 moze wahac sie w granicach od 0,05 do 0,5.
Warstwa .4 jest wykonana na bazie AIX4Gai.X4As i ma przewodnictwo typu p. Jezeli warstwa 4 jest czynna warstwa promieniujaca, wtedy szerokosc pasma zabronionego powinna byc mniejsza niz szerokosc pasma ?zabronionego warstw 3 i 5. W dalszej tresci dla wygody warstwe te oznaczono symbolem p0. Wartosc x4 moze wahac sie od 0 do 0,37. Warstwa 5 wykonana jestna bazie zwiazku chemicznego AIX5Ga-|_X5Asf przy czym wartosc X5 moze wahac sje od 0,05 do 0,5. Wybór wartosci x3, xa, x$ jest uzalezniony od spelnienia warunku X3^X5>X4. Gwarantuje to spelnienie wymagania, ze szerokosc pasma zabronionego waq$tw 3 i 5 ma byc wieksza od szerokosci pasma zabronionego warstwy 4. Opisany krysztal pólprzewodnikowy ma pieciowars¬ twowa strukture n-p-n-p0-p|.
W ten sposób wewnetrzne warstwy 1 i 5 krysztalu pólprzewodnikowego maja przeciwne typy przewod¬ nosci. Do jednej z warstw, a mianowicie do warstwy 5, przylega warstwa 4 generujaca promieniowanie swietlne.
Warstwa 4 oddzielona jest od drugiej warstwy zewnetrznej dwoma warstwami 2 i 3 o przeciwnych typach przewodnictwa. Warstwa 2 stykajaca sie z zewnetrzna warstwa 1 m» przeciwny w stosunku do niej typ przewodnictwa.
Warstwy 1 i 2,2 i 3,3 i 4,4 i 5 tworza odpowiednie heterozlacza 6, 7, 8, 9.
Wyzej opisana struktura pólprzewodnikowego krysztalu moze byc wykonana w jednym cyklu technolo¬ gicznym przez kolejne osadzanie monokrystalicznych warstw 1, 2, 3, 4 i 5.na podlozu z monokrystalicznego arsenku galu metoda epitaksji z fazy cieklej lub gazowej. Wyboru podloza dokonuje sie w ten sposób, azeby plaszczyzna, na której rozpoczyna sie proces osadzania warstw, miala orientacje [111 ], [111 ] lub [100].
Do wyprowadzenia promienia swietlnego na zewnatrz warstwy 4 i zapewnienia spójnosci promienia swietlnego sluzy rezonator Fabry-Perota.
"Powierzchnie odbijajace w takim rezonatorze sa zwierciadlanymi powierzchniami 10 i 11 w krysztale pólprzewodnikowym, prostopadlymi do osi rozchodzenia sie indywidualnego promieniowania swietlnego wzdluz warstwy 4. Powierzchnie 10 i 11 pokrywaja sie z plaszczyzna krystalograficzna prostopadla do plaszczyzny orientacji podloza, na którym nastepuje osadzanie sie monokrystalicznych warstw 1 -r 5. Do warstw 1 i 5 sa dolaczone w dowolny sposób styki omowe, sluzace do przylozenia do krysztalu napiecia polaryzujacego w kierunku przewodzenia o znakach „—" i „+", jak podano na fig. 1.
Zasada pracy opisanego wyzej pólprzewodnikowego lasera jest nastepujaca. Po przylozeniu do krysztalu90349 3 ^przewodnikowego lasera napiecia polaryzujacego w kierunku przewodzenia heterozlacza emiterowe p-n 6,8 i & staja sie przewodzacymi. Srodkowe zlacze 7, zwane zlaczem kolektorowym jest spolaryzowane w kierunku zaporowym. Przy okreslonej wartosci napiecia polaryzujacego, zwanego napieciem przelaczajacym, wstrzykiwa¬ nie nosników pradu do warstw 2 i 3 prowadzi do gwaltownego zmniejszenia opornosci zlacza kolektorowego 7 Ido wzrostu pradu. Proces ten ma charakter lawinowy i konczy sie spolaryzowaniem zlacza kolektorowego 7 wkitrunku przewodzenia i przejsciem wstan pracy podobny do stanu pracy jednego zlacza p-n w kierunku przewodzenia. Oznacza to, ze pólprzewodnikowa struktura przechodzi ze stanu o malej opornosci. Odpowiada to zjawieniu sie w charakterystyce napieciowo-pradov#j odcinka 11 o opornosci ujemnej, co widac na fig. 2.
W wyniku powyzszego, przy gestosciach pradu przekraczajacych 1 kA/cm2, w promieniujacej warstwie 4 tworzy sie inwersyjne zageszczenie nosników pradu i wskutek istnienia rezonatora Fabry-Perota powstaje spójne promieniowanie swietlne. Dlugosc fali tego promieniowania przy 300°K okreslona jest szerokoscia pasma zabronionego pólprzewodnikowej warstwy 4 i przy zmianach X3 od 0 do 0,37 moze zmieniac sie od czerwonego swiatla widzialnego do promieniowania podczerwonego. Istnienie heterozlaczy 8 i 9 w obu obszarach 8 i 9 czynnej warstwy 4 zapewnia skuteczne wstrzykiwanie elektronów i dziur oraz lokalizacje wstrzykiwanych. nosników i powstajacego promieniowania elektromagnetycznego.
Nalezy miec na uwadze, ze laser pólprzewodnikowy wedlug wynalazku ma wszystkie zalety laserów z heterozlaczami, a mianowicie mala gestosc progowa pradu, duza skutecznosc kwantowa ocaz posiada wazna zalete, fo jest Istnienie odcinka charakterystyki pradowo-napieciowej o opornosci ujemnej. Pozwala to na formowanie impulsów pradu niezbednych do pompowania lasera przy wykorzystaniu jego struktury, jako czynnego elementu elektrycznego.
Na fig. 3 jest przedstawiony najprostszy uklad lasera pólprzewodnikowego wedlug wynalazku. W ukladzie tym równolegle do lasera wlaczono obwód RC. Po przylozeniu zewnetrznego napiecia poczatkowego nastepuje ladowanie kondensatora C przez opornik R. Po osiagnieciu na kondensatorze C wartosci napiecia równej napieciu przelaczajacemu pólprzewodnikowej struktury lasera, jej opornosc gwaltownie zmniejsza sie. Zachodzi wówczas nagle rozladowanie kondensatora C przez wielowarstwowa strukture lasera. Wystepujacy przy tym impuls pradowy wywoluje we wlaczonym stanie generacje promieniowania spójnego. Parametry impulsu zaleza od pojemnosci kondensatora C, napiecia przelaczajacego i opornosci wielowarstwowej struktury lasera.
Zamiast struktury n-p-n-p0-p| moze byc uzyta struktura p-n-p-no-n^. Opisana wyzej struktura moze byc wykonana takze z innych materialów pólprzewodnikowych, jak arsenek indu, staly roztwór arsenku indu, i arsenku galu, staly roztwór fosforku indu i fosforku galu.
FIG. 3 Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 10 zl

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Laser pólprzewodnikowy z pompowaniem elektrycznym, wykonany z pólprzewodnikowego krysztalu Z heterozlaczami, majacy warstwy o róznym typie przewodnictwa, z których jedna jest czynna warstwa promieniujaca, umieszczona we wnece rezonatora optycznego, wlaczona pomiedzy dwie warstwy pólprzewodni¬ kowe O przeciwnym typie przewodnictwa, majace szerokosc pasma zabronionego wieksza niz szerokosc pasma zabronionego warstwy znajdujacej sie miedzy nimi, przy czym warstwa czynna generuje promieniowanie swietlne po przylozeniu do krysztalu napiecia polaryzujacego w kierunku przewodzenia, znamienny tym, ze krysztdl przedstawia soba pieciowarstwowa strukture, której zewnetrzne warstwy (1, 5) maja przeciwne wzajemnie typy przewodnictwa i bezposrednio do jednej z tych warstw (5) przylega warstwa (4) generujaca promieniowanie swietlne i majaca jednakowy z ta warstwa typ przewodnictwa, oddzielona od drugiej zewnetrznej warstwy (1) dwoma warstwami (2 i 3) o przeciwnym wzajemnie typie przewodnictwa, polozonymi tak, ze warstwa (2) stykajaca sie z zewnetrzna warstwa (1) ma przeciwny do niej typ przewodnictwa.90349 *-s 8 7« T 1 YiiiuiunnflimimllTL n n mimmllllUMiunuunA 1 5 ¦3 1 fig. 1 riE.2 +0 */>fr*
PL16384073A 1973-07-05 1973-07-05 PL90349B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL16384073A PL90349B1 (pl) 1973-07-05 1973-07-05

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL16384073A PL90349B1 (pl) 1973-07-05 1973-07-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL90349B1 true PL90349B1 (pl) 1977-01-31

Family

ID=19963335

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL16384073A PL90349B1 (pl) 1973-07-05 1973-07-05

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL90349B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Kawaguchi et al. Bistable operation in semiconductor lasers with inhomogeneous excitation
Lee Effect of Junction Capacitance on the Rise Time of LED's and on the Turn‐on Delay of Injection Lasers
Patzak et al. Spectral linewidth reduction in semiconductor lasers by an external cavity with weak optical feedback
US4689793A (en) Optical logic and memory apparatus
JP2863773B2 (ja) 面発光型半導体レーザ装置
US3514715A (en) Multilayer,light-emitting semiconductor device
Iga et al. GaInAsP/InP laser with monolithically integrated monitoring detector
GB2114768A (en) Bistable optical device
US3938172A (en) Semiconductor injection laser
US3427563A (en) Multistable device operating on the principle of stimulated emission of radiation
US3504302A (en) Frequency controlled semiconductor junction laser
US4316156A (en) Optical repeater integrated lasers
Kishino et al. Mesa-substrate buried-heterostructure GaInAsP/InP injection lasers
US3723903A (en) Dynamic fm control of the transverse modes of a self-pulsing semiconductor laser
US5014280A (en) Optical bistable laser diode and a method for controlling the same
PL90349B1 (pl)
US4555785A (en) Optical repeater integrated lasers
Rosen et al. 100 kW DC biased, all semiconductor switch using Si PIN diodes and AlGaAs 2-D laser arrays
CA2106596C (en) Semiconductor laser device
US3428845A (en) Light-emitting semiconductor having relatively heavy outer layers for heat-sinking
US4450567A (en) Optical repeater integrated lasers
Anthony et al. Observations of negative resistance associated with superlinear emission characteristics of (Al, Ga) As double-heterostructure lasers
US3510795A (en) Arrangement for generating electromagnetic radiation
US3493891A (en) Avalanche breakdown semiconductor laser
US3666960A (en) Reverse bias pulsing of junction diodes to reduce deterioration