PL90349B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL90349B1 PL90349B1 PL16384073A PL16384073A PL90349B1 PL 90349 B1 PL90349 B1 PL 90349B1 PL 16384073 A PL16384073 A PL 16384073A PL 16384073 A PL16384073 A PL 16384073A PL 90349 B1 PL90349 B1 PL 90349B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layer
- layers
- conductivity
- semiconductor
- crystal
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 30
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 4
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest laser pólprzewodnikowy zwlaszcza laser pólprzewodnikowy z pompowaniem
elektrycznym, który moze byc wykorzystywany do uzyskiwania promieniowania spójnego. Tego rodzaju zródla
promieniowania wykorzystuje sie na przyklad w systemach telekomunikacyjnych, w elektronicznej technice
i w róznych dziedzinach techniki optoelektronicznej.
Znane lasery pólprzewodnikowe (wzmacniacze swiatla przez wymuszona emisje promieniowania) wyko¬
nuje sie z pólprzewodnikowych krysztalów o wielowarstwowej strukturze. Warstwy pólprzewodnikowe maja
rózne typy przewodnictwa. W zaleznosci od struktury jedna z warstw jest zdolna do indywidualnego promienio¬
wania swiatla, jezeli do ukladu bedzie przylozone napiecie polaryzujace w kierunku przewodzenia. Zwykle
warstwa nazywa sie obszarem czynnym lasera. W takim laserze rezonatorem sa powierzchnie pólprzewodniko¬
wego krysztalu, stanowiace rezonator Fabry-Perota.
Zwykle wielowarstwowa strukture uzyskuje sie z krysztalów pólprzewodnikowych o duzej zdolnosci do
rekombinacji promieniowania, gdy nastepuje wstrzykiwanie par elektron-dziura. Przykladowo wykorzystuje sie
GaAs (arsenek galu) GaP (fosforek galu), InAs (arsenek indu). Aktualnie najwieksze zastosowanie znalazly
trójwarstwowe struktury pólprzewodnikowe z heterozlaczami o róznym typie przewodnictwa na przyklad typu
p*-p-n lub n+-n-p.
W krysztale o trójwarstwowej strukturze warstwa czynna, to znaczy generujaca promieniowanie swietlne,
jest warstwa srodkowa o przewodnictwie typu p lub n. Warstwa ta znajduje sie miedzy dwoma warstwami
pólprzewodnikowymi o wzajemnie przeciwnych typach przewodnictwa. Warstwa ta ma zwykle mniejsza
szerokosc pasma zabronionego, niz szerokosc pasma zabronionego przylegajacych do niej warstw. Jak juz
wspomniano, po przylozeniu do krysztalu w kierunku przewodzenia napiecia polaryzujacego, warstwa czynna
generuje promieniowanie swietlne.
Do wzbudzenia takiego lasera konieczne jest uzycie dosyc zlozonego specjalnego urzadzenia sterujacego,
zawierajacego pólprzewodnikowe diody, tyrystory i tranzystory. Prowadzi to do zwiekszenia wymiarów
urzadzen, w których stosowany jest opisany laser. Ponadto nie moze on byc wykorzystany jako element
pamieciowy lub element przelaczajacy, poniewaz trójwarstwowa struktura ma zwykla charakterystyke napiecio-
wo-pradowa.t 90349*
* Celem wynalazku Jest uzyskanie lasera pólprzewodnikowego, którego czesc charakterystyk! napreciowo-pr-
adomj w*a opornosc ujemna. Pozwala to na znaczne uproszczenie ukladu elektrycznego pompowania i na
zrrmlejsztroe jego wymiarów. Ponadto laser moze byc wykorzystywany w charakterze elementu pamieciowego
kib przelaczajacego w róznych optoelektrycznych ukladachlogicznych. •
Cel ten osiagnieto w oparciu o pólprzewodnikowy laser z elektrycznym pompowaniem, zbudowany
* frólfjrzewodnikowego krysztalu z heterozlaczami i posiadajacy warstwy o róznym typie przewodnictwa. Jedna
z warstw mtjduje sie wewnatrz optycznego rezonatora miedzy dwoma warstwami pólprzewodnikowymi
*W*fi£er*7ue przeciwnych typach przewodnictwa. Warstwy te maja szerokosc pasma zabronionego wieksza, niz
szerokosc pasma zabronionego zawartej miedzy nimi warstwy, która generuje promieniowanie swietlne, gdy do
krysztalu zostanie prjylozone w kierunku przewodzenia napiecie polaryzujace. Wedlug wynalazku krysztal ma
.pieciowarstwowa strukture. Zewnetrzne warstwy tej struktury maja wzajemnie przeciwne typy przewodnictwa.
Do jednej z zewnetrznych warstw przylega bezposrednio warstwa generujaca promieniowanie swietlne. Warstwa
ta jest oddzielona od drugiej warstwy zewnetrznej dwoma warstwami o przeciwnych typach przewodnictwa,
które sa rozlozone w ten sposób, ze warstwa stykajaca sie z wymieniona druga warstwa zewnetrzna ma
przeciwny w stosunku do niej typ przewodnictwa
Zastosowanie w laserze pólprzewodnikowym krysztalu o pieciowarstwowej strukturze z rozkladem
warstw w wyzej podany sposób, zapewnia wystepowanie odcinka charakterystyki napieciowo-pradowej o opor¬
nosci ujemnej. Pozwala to na wykorzystywanie lasera jako elementu pamieciowego lub przelaczajacego oraz
pozwala uproscic uklad elektrycznego pompowania w laserze.
Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedsta¬
wia schemat przekroju lasera pólprzewodnikowego wedlug wynalazku, fig. 2 — charakterystyke napieciowo-pra-
dowa lasera wedlug wynalazku, fig. 3 — laser wedlug wynalazku polaczony do zródla zasilania.
Przedstawiony na fig. 1 laser z elektrycznym pompowaniem jest wykonany z arsenku galu (GaAs) i ze
zwiazku chemicznego AlxGai.xAs. Pólprzewodnikowy krysztal ma piec warstw monokrystalicznych. Warstwy 1
12 sa*wykonane ze stalego roztworu zwiazku chemicznego Alxir2Gai_xi ^As. Wprowadzenie domieszek
stopowych do warstw 1 i 2 jest uzaleznione odpowiednio od typów przewodnictwa n i p. Wartosc x«|#2
okreslajaca zawartosc glinu w stalym roztworze moze zmieniac sie od 0 do 0,5. Warstwa 3 jest wykonana na
bazie zwiazku AIX3Gai_X3 i ma przewodnictwo typu n. Wartosc x3 moze wahac sie w granicach od 0,05 do 0,5.
Warstwa .4 jest wykonana na bazie AIX4Gai.X4As i ma przewodnictwo typu p. Jezeli warstwa 4 jest czynna
warstwa promieniujaca, wtedy szerokosc pasma zabronionego powinna byc mniejsza niz szerokosc pasma
?zabronionego warstw 3 i 5. W dalszej tresci dla wygody warstwe te oznaczono symbolem p0. Wartosc x4 moze
wahac sie od 0 do 0,37. Warstwa 5 wykonana jestna bazie zwiazku chemicznego AIX5Ga-|_X5Asf przy czym
wartosc X5 moze wahac sje od 0,05 do 0,5. Wybór wartosci x3, xa, x$ jest uzalezniony od spelnienia warunku
X3^X5>X4. Gwarantuje to spelnienie wymagania, ze szerokosc pasma zabronionego waq$tw 3 i 5 ma byc
wieksza od szerokosci pasma zabronionego warstwy 4. Opisany krysztal pólprzewodnikowy ma pieciowars¬
twowa strukture n-p-n-p0-p|.
W ten sposób wewnetrzne warstwy 1 i 5 krysztalu pólprzewodnikowego maja przeciwne typy przewod¬
nosci. Do jednej z warstw, a mianowicie do warstwy 5, przylega warstwa 4 generujaca promieniowanie swietlne.
Warstwa 4 oddzielona jest od drugiej warstwy zewnetrznej dwoma warstwami 2 i 3 o przeciwnych typach
przewodnictwa. Warstwa 2 stykajaca sie z zewnetrzna warstwa 1 m» przeciwny w stosunku do niej typ
przewodnictwa.
Warstwy 1 i 2,2 i 3,3 i 4,4 i 5 tworza odpowiednie heterozlacza 6, 7, 8, 9.
Wyzej opisana struktura pólprzewodnikowego krysztalu moze byc wykonana w jednym cyklu technolo¬
gicznym przez kolejne osadzanie monokrystalicznych warstw 1, 2, 3, 4 i 5.na podlozu z monokrystalicznego
arsenku galu metoda epitaksji z fazy cieklej lub gazowej. Wyboru podloza dokonuje sie w ten sposób, azeby
plaszczyzna, na której rozpoczyna sie proces osadzania warstw, miala orientacje [111 ], [111 ] lub [100].
Do wyprowadzenia promienia swietlnego na zewnatrz warstwy 4 i zapewnienia spójnosci promienia
swietlnego sluzy rezonator Fabry-Perota.
"Powierzchnie odbijajace w takim rezonatorze sa zwierciadlanymi powierzchniami 10 i 11 w krysztale
pólprzewodnikowym, prostopadlymi do osi rozchodzenia sie indywidualnego promieniowania swietlnego
wzdluz warstwy 4. Powierzchnie 10 i 11 pokrywaja sie z plaszczyzna krystalograficzna prostopadla do
plaszczyzny orientacji podloza, na którym nastepuje osadzanie sie monokrystalicznych warstw 1 -r 5. Do warstw
1 i 5 sa dolaczone w dowolny sposób styki omowe, sluzace do przylozenia do krysztalu napiecia polaryzujacego
w kierunku przewodzenia o znakach „—" i „+", jak podano na fig. 1.
Zasada pracy opisanego wyzej pólprzewodnikowego lasera jest nastepujaca. Po przylozeniu do krysztalu90349 3
^przewodnikowego lasera napiecia polaryzujacego w kierunku przewodzenia heterozlacza emiterowe p-n 6,8
i & staja sie przewodzacymi. Srodkowe zlacze 7, zwane zlaczem kolektorowym jest spolaryzowane w kierunku
zaporowym. Przy okreslonej wartosci napiecia polaryzujacego, zwanego napieciem przelaczajacym, wstrzykiwa¬
nie nosników pradu do warstw 2 i 3 prowadzi do gwaltownego zmniejszenia opornosci zlacza kolektorowego 7
Ido wzrostu pradu. Proces ten ma charakter lawinowy i konczy sie spolaryzowaniem zlacza kolektorowego 7
wkitrunku przewodzenia i przejsciem wstan pracy podobny do stanu pracy jednego zlacza p-n w kierunku
przewodzenia. Oznacza to, ze pólprzewodnikowa struktura przechodzi ze stanu o malej opornosci. Odpowiada
to zjawieniu sie w charakterystyce napieciowo-pradov#j odcinka 11 o opornosci ujemnej, co widac na fig. 2.
W wyniku powyzszego, przy gestosciach pradu przekraczajacych 1 kA/cm2, w promieniujacej warstwie 4
tworzy sie inwersyjne zageszczenie nosników pradu i wskutek istnienia rezonatora Fabry-Perota powstaje spójne
promieniowanie swietlne. Dlugosc fali tego promieniowania przy 300°K okreslona jest szerokoscia pasma
zabronionego pólprzewodnikowej warstwy 4 i przy zmianach X3 od 0 do 0,37 moze zmieniac sie od czerwonego
swiatla widzialnego do promieniowania podczerwonego. Istnienie heterozlaczy 8 i 9 w obu obszarach 8 i 9
czynnej warstwy 4 zapewnia skuteczne wstrzykiwanie elektronów i dziur oraz lokalizacje wstrzykiwanych.
nosników i powstajacego promieniowania elektromagnetycznego.
Nalezy miec na uwadze, ze laser pólprzewodnikowy wedlug wynalazku ma wszystkie zalety laserów
z heterozlaczami, a mianowicie mala gestosc progowa pradu, duza skutecznosc kwantowa ocaz posiada wazna
zalete, fo jest Istnienie odcinka charakterystyki pradowo-napieciowej o opornosci ujemnej. Pozwala to na
formowanie impulsów pradu niezbednych do pompowania lasera przy wykorzystaniu jego struktury, jako
czynnego elementu elektrycznego.
Na fig. 3 jest przedstawiony najprostszy uklad lasera pólprzewodnikowego wedlug wynalazku. W ukladzie
tym równolegle do lasera wlaczono obwód RC. Po przylozeniu zewnetrznego napiecia poczatkowego nastepuje
ladowanie kondensatora C przez opornik R. Po osiagnieciu na kondensatorze C wartosci napiecia równej
napieciu przelaczajacemu pólprzewodnikowej struktury lasera, jej opornosc gwaltownie zmniejsza sie. Zachodzi
wówczas nagle rozladowanie kondensatora C przez wielowarstwowa strukture lasera. Wystepujacy przy tym
impuls pradowy wywoluje we wlaczonym stanie generacje promieniowania spójnego. Parametry impulsu zaleza
od pojemnosci kondensatora C, napiecia przelaczajacego i opornosci wielowarstwowej struktury lasera.
Zamiast struktury n-p-n-p0-p| moze byc uzyta struktura p-n-p-no-n^. Opisana wyzej struktura moze byc
wykonana takze z innych materialów pólprzewodnikowych, jak arsenek indu, staly roztwór arsenku indu,
i arsenku galu, staly roztwór fosforku indu i fosforku galu.
FIG. 3
Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18
Cena 10 zl
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Laser pólprzewodnikowy z pompowaniem elektrycznym, wykonany z pólprzewodnikowego krysztalu Z heterozlaczami, majacy warstwy o róznym typie przewodnictwa, z których jedna jest czynna warstwa promieniujaca, umieszczona we wnece rezonatora optycznego, wlaczona pomiedzy dwie warstwy pólprzewodni¬ kowe O przeciwnym typie przewodnictwa, majace szerokosc pasma zabronionego wieksza niz szerokosc pasma zabronionego warstwy znajdujacej sie miedzy nimi, przy czym warstwa czynna generuje promieniowanie swietlne po przylozeniu do krysztalu napiecia polaryzujacego w kierunku przewodzenia, znamienny tym, ze krysztdl przedstawia soba pieciowarstwowa strukture, której zewnetrzne warstwy (1, 5) maja przeciwne wzajemnie typy przewodnictwa i bezposrednio do jednej z tych warstw (5) przylega warstwa (4) generujaca promieniowanie swietlne i majaca jednakowy z ta warstwa typ przewodnictwa, oddzielona od drugiej zewnetrznej warstwy (1) dwoma warstwami (2 i 3) o przeciwnym wzajemnie typie przewodnictwa, polozonymi tak, ze warstwa (2) stykajaca sie z zewnetrzna warstwa (1) ma przeciwny do niej typ przewodnictwa.90349 *-s 8 7« T 1 YiiiuiunnflimimllTL n n mimmllllUMiunuunA 1 5 ¦3 1 fig. 1 riE.2 +0 */>fr*
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16384073A PL90349B1 (pl) | 1973-07-05 | 1973-07-05 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16384073A PL90349B1 (pl) | 1973-07-05 | 1973-07-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL90349B1 true PL90349B1 (pl) | 1977-01-31 |
Family
ID=19963335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL16384073A PL90349B1 (pl) | 1973-07-05 | 1973-07-05 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL90349B1 (pl) |
-
1973
- 1973-07-05 PL PL16384073A patent/PL90349B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Kawaguchi et al. | Bistable operation in semiconductor lasers with inhomogeneous excitation | |
| Lee | Effect of Junction Capacitance on the Rise Time of LED's and on the Turn‐on Delay of Injection Lasers | |
| Patzak et al. | Spectral linewidth reduction in semiconductor lasers by an external cavity with weak optical feedback | |
| US4689793A (en) | Optical logic and memory apparatus | |
| JP2863773B2 (ja) | 面発光型半導体レーザ装置 | |
| US3514715A (en) | Multilayer,light-emitting semiconductor device | |
| Iga et al. | GaInAsP/InP laser with monolithically integrated monitoring detector | |
| GB2114768A (en) | Bistable optical device | |
| US3938172A (en) | Semiconductor injection laser | |
| US3427563A (en) | Multistable device operating on the principle of stimulated emission of radiation | |
| US3504302A (en) | Frequency controlled semiconductor junction laser | |
| US4316156A (en) | Optical repeater integrated lasers | |
| Kishino et al. | Mesa-substrate buried-heterostructure GaInAsP/InP injection lasers | |
| US3723903A (en) | Dynamic fm control of the transverse modes of a self-pulsing semiconductor laser | |
| US5014280A (en) | Optical bistable laser diode and a method for controlling the same | |
| PL90349B1 (pl) | ||
| US4555785A (en) | Optical repeater integrated lasers | |
| Rosen et al. | 100 kW DC biased, all semiconductor switch using Si PIN diodes and AlGaAs 2-D laser arrays | |
| CA2106596C (en) | Semiconductor laser device | |
| US3428845A (en) | Light-emitting semiconductor having relatively heavy outer layers for heat-sinking | |
| US4450567A (en) | Optical repeater integrated lasers | |
| Anthony et al. | Observations of negative resistance associated with superlinear emission characteristics of (Al, Ga) As double-heterostructure lasers | |
| US3510795A (en) | Arrangement for generating electromagnetic radiation | |
| US3493891A (en) | Avalanche breakdown semiconductor laser | |
| US3666960A (en) | Reverse bias pulsing of junction diodes to reduce deterioration |