PL88859B1 - - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest uklad do mierze¬ nia grubosci bardzo cienkich powlok chromowych na podwarstwie miedzi, zwlaszcza na plytach do druku offsetowego oraz na walcach wkleslodru¬ kowych.W technice poligraficznej zagadnienie znajomo¬ sci grubosci powloki chromowej nalozonej na pod¬ warstwie miedzi i jej równomiernosc sa zagadnie¬ niem zasadniczym, gdyz od tych czynników zalezy i czas trawienia i jakosc druku oraz wielkosc na¬ kladu uzyskiwanego z jednej formy drukarskiej.Do chwili obecnej brak jest metody umozliwia¬ jacej w sposób nieniszczacy dokladne wyznaczenie grubosci powloki chromowej na plytach wielome- talowych do celów poligraficznych w zakresie 0,2 do 10 mikrometrów.Znane sposoby izotopowego mierzenia grubosci powloki metali szlachetnych na miedzi sa stoso¬ wane tylko w przypadku znacznej róznicy miedzy liczbami atomowymi materialów podloza i po¬ wloki. W przypadku podloza miedzianego i po¬ wloki chromowej przy bardzo malej róznicy liczb atomowych, która wynosi 4, nie mozna metoda izotopowa zmierzyc grubosc powloki chromowej.Dla pomiarów izotopowych grubosci powlok zna¬ ny jest sposób i urzadzenie wedlug opisu paten¬ towego RFN nr 1005 743, w którym napromienio- wuje sie warstwe mierzona promieniami beta pod katem rzedu 45°, filtruje wysylane przez powierz¬ chnie warstwy promieniowanie rentgenowskie w 2 celu zatrzymania promieniowania beta odbitego od powierzchni warstwy i wprowadza promieniowa¬ nie rentgenowskie do fotopowielacza, gdzie ulega wzmocnieniu i zmierzeniu dla ustalenia grubosci warstwy. Podkreslono w opisie, ze metoda moze byc stosowana przy znacznej róznicy miedzy licz¬ bami atomowymi powloki i podloza.Biorac pod uwage fakt, ze do pomiaru grubosci ^ powloki o liczbie atomowej niewiele rózniacej sie od liczby atomowej podloza, do dyspozycji pozo¬ staja jedynie metody niszczace, jak mikroskopowa, wagowa lub kulometryczna, których stosowanie prowadzi do zniszczenia formy.W tej sytuacji bada sie gruBosc tylko na kra¬ wedzi formy, gdzie na skutek efektu brzegowego powloka jest zawsze grubsza i bardzo nierówna i ocenia na tej podstawie przydatnosc plyty do celów poligraficznych.Celem wynalazku jest opracowanie takiego ukla¬ du do mierzenia grubosci cienkich powlok chro¬ mowych, który umozliwia wyznaczanie grubosci z praktycznie potrzebna tolerancja rzedu ± 10f/o i pozwala na biezaca, szybka nieniszczaca kontrole pracy galwanizerni oraz zmechanizowanie procesu przygotowania form drukowych, a przez to zmniej¬ szenie pracochlonnosci ustawiania maszyn poli¬ graficznych.Postawione zadanie udalo sie rozwiazac, gdyz okazalo sie, ze gdy na zródlo1 promieniowania pro¬ mieni beta nalozony zostanie filtr wykonany z do- 88 8593 wolnego tworzywa sztucznego i wywzorcuje urza¬ dzenie dla metalu o liczbie atomowej nizszej, od metalu miedzywarstwy, wtedy rozdzielczosc urza¬ dzenia ulega zwiekszeniu, a odcinek prostoliniowy krzywej wzorcowania ulega wydluzeniu wystar¬ czajacemu do wykonania pomiaru grubosci po¬ wloki chromowej z zadana dokladnoscia ± 10%).Uklad wedlug wynalazku oraz krzywa wzorcom wania zostaly przedstawione na dolaczonych ry¬ sunkach, na których fig. 1 przedstawia schema¬ tycznie uklad, a fig. 2 — krzywa wzorcowania.Uklad wedlug wynalazku sklada sie z umiesz¬ czonego centralnie na wysiegniku nad detekto¬ rem punktowego zródla promieniowania promieni beta 1 nakrytego filtrem 2 z dowolnego tworzywa sztucznego o odpowiedniej grubosci, przy czym zródlo jest tak wykonane, ze wysyla promienio¬ wanie tylko w scisle okreslonym kierunku, wed¬ lug przykladu — pionowo w góre. Dla ogranicze¬ nia wiazki czynnej umieszczona jest nad zródlem promieniowania przeslona 3, a pod zródlem pro¬ mieniowania detektor promieniowania 4 w postaci np. licznika Geigera. Betelcior promieniowania 4 jest polaczony z niepokazanym na rysunku ukla¬ dem elektronicznym zawierajacym woltomierz lampowy wywzorcowany na metalu o liczbie ato¬ mowej nizszej od liczby atomowej miedzywarstwy, na którym odczytuje sie intensywnosc odbitego promieniowania, a wiec po odpowiednim wyska- lowaniu — grubosc powloki w mikrometrach.Przedstawiony na fig. 2 wykres wzorcowania jest typowym wykresem wykonywanym dla kaz¬ dego ukladu wedlug fig. 1, przy czym pomiar pro¬ wadzi sie na odcinku prostej AB.Uklad wedlug wynalazku w zastosowaniu, zwla¬ szcza do plyt offsetowych i walców wkleslodru- fcawych, pozwala na bielaca kontrole procesu chro- inaw^mla i procesu trawienia oraz umozliwia umniejszenie braków, a poza tym na poprawe ja- feaóci druku i zwiekszenie nakladu z jednej formy.Efta przeprowadzenia pomiaru grubosci powloki chromowej naklada sie plyte 5 na niepokazany $859 4 na rysunku stolik zaopatrzony w przeslone 3.Wiazka promieni beta, wychodzaca ze zródla pro¬ mieniowania 1 poprzez filtr 2 i szczeline przeslony 3 pada na powierzchnie powloki chromowej nalo- zonej na podwarstwie miedzianej. Wiazka promie¬ niowania beta odbitego od powloki i czesciowo od podwarstwy trafia do detektora 4, który przeka¬ zuje odpowiednie impulsy do ukladu elektronicz¬ nego., W ukladzie na woltomierzu lampowym odczytu¬ je sie intensywnosc wiazki promieni odbitych, a przy odpowiednim jego wyskalowaniu — bezpo¬ srednio grubosc powloki chromowej. Intensywnosc odbitych promieni beta jest wprost proporcjonal- na do grubosci mierzonej powloki. Czas trwania pomiaru wynosi 1—2 minut. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Uklad do mierzenia grubosci bardzo cienkich 20 powlok chromowych na podwarstwie miedzi, zwla¬ szcza plytach offsetowych i na walcach wkleslo¬ drukowych, skladajacy sie z punktowego zródla promieniowania beta, filtra, przeslony, detektora i ukladu elektronicznego z kondensatorem i wol- 25 tomierzem, znamienny tym, ze punktowe zródlo promieniowania beta (1), emitujace wiazke pro¬ mieni w scisle okreslonym kierunku, jest umiesz¬ czone na wysiegniku centralnie nad detektorem promieniowania (4) i jest nakryte filtrem (2) z do- 3o wolnego tworzywa sztucznego oraz oddzielone od badanego materialu przeslona (3) o stalym otwo¬ rze, umieszczona w scisle okreslonej odleglosci od zródla oraz jest polaczone z detektorem promie¬ niowania, np. w postaci licznika Geigera, który 35 jest dolaczony do ukladu elektronicznego z kon¬ densatorem zaopatrzonym w woltomierz lampowy wywzorcowany do bezposredniego odczytywania mierzonej grubosci powloki w mikrometrach.
2. 2. Uklad wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze 4Q woltomierz lampowy jest wywzorcowany dla ma¬ terialu o liczbie atomowej nizszej od liczby ato¬ mowej podloza.88 859 L.W/////J ¦¦— — -0 &—¦ XH2ZZZZ7^2 2_ J_ 4 J Fig. / yam fig. 2 i 'v_. ,i ., \ ] PL