PL84692B1 - - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób rzutowania obrazów wzorów mikromasek o wymiarach mikronowych na warstwe swiatloczula pokrywajaca powierzchnie plytki monokrysztalu pólprzewodnika.Znane z publikacji M.J. Beesley'a i wspólpracowników (Elec.Lett. Nr 4, str. 49 1968) sposoby holografo- wania i wiernego odtwarzania drobnych wzorów, jak maski mikroelektroniczne, wymagaja stosowania bardzo rozszerzonych wiazek laserowych, tak, aby ich fronty fazowe byly lokalnie plaskie. Ogranicza to holografowany wzór mikromaski do pojedynczych mikromodulów i zmusza do stosowania wielokrotnej ekspozycji jednego lub kilku mikromodulów mikromaski.Zastosowanie projekcji holograficznej mikrowzorów wymaga stosowania swiatla spójnego. Zasadnicza cecha rodzaju oswietlenia jest plamkowosc zwiazana z duza spójnoscia tego swiatla. Plamkowosc ta wzrasta ze zmniejszaniem sie dlugosci fali, co dla promieniowania fioletowego i ultrafioletowego zaklóca w zasadniczy sposób drobne wzory mikromasek w odtworzeniu.Celem wynalazku bylo opracowanie sposobu holograficznego rejestrowania i odtwarzania obrazów wzorów mikromasek na warstwie swiatloczulej, kazdy w czasie jednej ekspozycji oraz mozliwosci powiekszania i pomniej¬ szania rzutowego wzoru z zachowaniem wiernosci, rozdzielczosci i ostrosci mikrowzoru.Cel ten zostal osiagniety przez opracowanie sposobu holograficznego rejestrowania i odtwarzania obrazów wedlug wynalazku, w którym rejestrowanie hologramu dokonuje sie przez oswietlenie wzoru mikromaski zbiezna wiazka laserowa uzyskana w znanych, skorygowanych ukladach optycznych, natomiast projekcyjne holograficz¬ ne odtwarzanie obrazu dokonuje sie przepuszczajac wiazke laserowa oswietlajaca hologram przez rozspójniacz swiatla laserowego.Dzieki sposobowi wedlug wynalazku holografowania mikromasek wiazka laserowa zbiezna osiaga sie maksymalne wykorzystanie swiatla laserowego zwiazane ze wzrostem gestosci energii swietlnej oraz zmniejszenie rozbieznosci widma katowego tworzonego przez swiatlo ugiete na wzorze mikromaski, a takze mozliwosc stosowania wzorów powiekszonych, które pomniejsza sie w procesie odtwarzania.Zrozumienie istoty sposobu holograficznego rejestrowania i odtwarzania obrazów mikromasek wedlug wynalazku ulatwi rysunek, na którym fig. 1 przedstawia sposób rejestrowania hologramu, a fig. 2-sposób rzutowania holograficznego obrazu na podloze swiatloczule.2 84 692 Na fig. 1 wiazka swiatla spójnego z lasera He-Ne 1 o mocy 50 mW biegnie przez optyczny uklad swiatlodzielacy 2 w stosunku natezen 1 :10. W ukladzie swiatlodzielacym 2 powstaja dwie wiazki swiatla, z których wiazke odniesienia formuje sie w ukladzie optycznym 3 natomiast wiazke swiatla laserowego oswietlajaca diapozytyw wzoru mikromaski 5 formuje sie w wiazke zbiezna za pomoca ukladu optycznego 4.Klisza fotograficzna znajduje sie w regulowanym uchwycie 6. Uklad optyczny 3 do formowania wiazki odniesienia i uklad optyczny 4 do formowania wiazki zbieznej musza byc dobrze skorygowane na aberacje przestrzenna, natomiast moga miec aberacje chromatyczna. Apertura wejsciowa jest 10-krotnie wieksza od sredniej wiazki laserowej, a wyjsciowa jest nie mniejsza niz 1,5-krotnie przekatna wzoru mikromaski. Wzór mikromaski 5 umieszcza sie bezposrednio za srednica wyjsciowa ukladu optycznego 4 formujacego wiazke zbiezna. Kat pomiedzy wiazka odniesienia i wiazka przedmiotowa ustala sie na 40°. Calosc umieszczono w bezpylowej obudowie 7.Na fig. 2 wiazka swiatla z lasera 8 po przejsciu przez uklad optyczny 9, rozspójniajacy swiatlo laserowe, a nastepnie przez bezaberacyjny uklad optyczny 10, rozszerzajacy wiazke, hologram 11, który umieszcza sie w regulowanym uchwycie 12, a w uchwycie regulowanym 13 umieszcza sie plytke pólprzewodnikowa pokryta warstwa swiatloczula 14. Ostrosc ustawia sie za pomoca ukladu optycznego 15. Calosc umieszcza sie w bezpylowej obudowie 16.Za pomoca sposobu wedlug wynalazku otrzymane hologramy daja w odtworzeniu mikroobrazy o wystar¬ czajaco ostrych krawedziach, wiernie odwzorowane i o duzej jasnosci. Sposób wedlug wynalazku znajduje zastosowanie w fotolitografii mikroelektronicznej. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób holograficznego rejestrowania i odtwarzania obrazów wzorów mikromasek na warstwie swiatloczu¬ lej w procesie fotolitografii mikroelektronicznej, znamienny tym, ze rejestrowanie hologramu dokonuje sie przez oswietlenie wzoru mikromaski (5) zbiezna wiazka laserowa, uformowana w znanym ukladzie optycznym (4), natomiast holograficzne projekcyjne odtwarzanie obrazu na plytce pólprzewodnikowej (14) dokonuje sie przepuszczajac wiazke laserowa oswietlajaca hologram (11) przez rozspójniacz (9) swiatla laserowego.84 692 4 2 7 3 figA. a 16 9 40 H fig.

2 PL