PL79928B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL79928B1 PL79928B1 PL13232069A PL13232069A PL79928B1 PL 79928 B1 PL79928 B1 PL 79928B1 PL 13232069 A PL13232069 A PL 13232069A PL 13232069 A PL13232069 A PL 13232069A PL 79928 B1 PL79928 B1 PL 79928B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- image
- particles
- metal salt
- microns
- substance
- Prior art date
Links
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 79
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 62
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 36
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 17
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 14
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 14
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 14
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 11
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 7
- 230000000763 evoking effect Effects 0.000 claims description 3
- GWOWVOYJLHSRJJ-UHFFFAOYSA-L cadmium stearate Chemical compound [Cd+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O GWOWVOYJLHSRJJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 37
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 22
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 16
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 16
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 14
- -1 enanthyl Chemical group 0.000 description 13
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 10
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 10
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 8
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 8
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 4
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid group Chemical group C(CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)(=O)O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- 241000283973 Oryctolagus cuniculus Species 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- HRBZRZSCMANEHQ-UHFFFAOYSA-L calcium;hexadecanoate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HRBZRZSCMANEHQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 2
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 2
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-M hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 229940049964 oleate Drugs 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N palmitic acid group Chemical group C(CCCCCCCCCCCCCCC)(=O)O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-AAKVHIHISA-N 2,3-bis[[(z)-12-hydroxyoctadec-9-enoyl]oxy]propyl (z)-12-hydroxyoctadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCC(O)C\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCC\C=C/CC(O)CCCCCC)COC(=O)CCCCCCC\C=C/CC(O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-AAKVHIHISA-N 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-M 9-cis,12-cis-Octadecadienoate Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-M 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 235000017060 Arachis glabrata Nutrition 0.000 description 1
- 244000105624 Arachis hypogaea Species 0.000 description 1
- 235000010777 Arachis hypogaea Nutrition 0.000 description 1
- 235000018262 Arachis monticola Nutrition 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 101100536354 Drosophila melanogaster tant gene Proteins 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000208181 Pelargonium Species 0.000 description 1
- 235000004443 Ricinus communis Nutrition 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLLUJBOVABFBBG-UHFFFAOYSA-N [Ca].[Cd] Chemical compound [Ca].[Cd] LLLUJBOVABFBBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJCSYJVFIRBCRI-UHFFFAOYSA-K aluminum;hexadecanoate Chemical compound [Al].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O JJCSYJVFIRBCRI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000010426 asphalt Substances 0.000 description 1
- AGXUVMPSUKZYDT-UHFFFAOYSA-L barium(2+);octadecanoate Chemical compound [Ba+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AGXUVMPSUKZYDT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- SSWSYWBRGQINON-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);hexadecanoate Chemical compound [Co+2].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O SSWSYWBRGQINON-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AMFIJXSMYBKJQV-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);octadecanoate Chemical compound [Co+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AMFIJXSMYBKJQV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- SVOAENZIOKPANY-UHFFFAOYSA-L copper;octadec-9-enoate Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCCC=CCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCC=CCCCCCCCC([O-])=O SVOAENZIOKPANY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PEVZEFCZINKUCG-UHFFFAOYSA-L copper;octadecanoate Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O PEVZEFCZINKUCG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007799 cork Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- UQLDLKMNUJERMK-UHFFFAOYSA-L di(octadecanoyloxy)lead Chemical compound [Pb+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O UQLDLKMNUJERMK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000834 fixative Substances 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical class O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZWHQSRWOYUNFT-UHFFFAOYSA-L hexadecanoate;lead(2+) Chemical compound [Pb+2].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O QZWHQSRWOYUNFT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- FRVCGRDGKAINSV-UHFFFAOYSA-L iron(2+);octadecanoate Chemical compound [Fe+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O FRVCGRDGKAINSV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XHQSLVIGPHXVAK-UHFFFAOYSA-K iron(3+);octadecanoate Chemical compound [Fe+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XHQSLVIGPHXVAK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940049918 linoleate Drugs 0.000 description 1
- 229940063002 magnesium palmitate Drugs 0.000 description 1
- ABSWXCXMXIZDSN-UHFFFAOYSA-L magnesium;hexadecanoate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O ABSWXCXMXIZDSN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XYXLRVFDLJOZJC-CVBJKYQLSA-L manganese(2+);(z)-octadec-9-enoate Chemical compound [Mn+2].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O XYXLRVFDLJOZJC-CVBJKYQLSA-L 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- AXLHVTKGDPVANO-UHFFFAOYSA-N methyl 2-amino-3-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonylamino]propanoate Chemical compound COC(=O)C(N)CNC(=O)OC(C)(C)C AXLHVTKGDPVANO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- JMWUYEFBFUCSAK-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);octadecanoate Chemical compound [Ni+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O JMWUYEFBFUCSAK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 235000020232 peanut Nutrition 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M potassium chlorate Chemical compound [K+].[O-]Cl(=O)=O VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PEFYPPIJKJOXDY-UHFFFAOYSA-J potassium;tetrachloroalumanuide Chemical compound [Al+3].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[K+] PEFYPPIJKJOXDY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 101150041594 soti gene Proteins 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000013517 stratification Methods 0.000 description 1
- 229920006249 styrenic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 230000001256 tonic effect Effects 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000004636 vulcanized rubber Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229940012185 zinc palmitate Drugs 0.000 description 1
- LPEBYPDZMWMCLZ-CVBJKYQLSA-L zinc;(z)-octadec-9-enoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O LPEBYPDZMWMCLZ-CVBJKYQLSA-L 0.000 description 1
- GJAPSKMAVXDBIU-UHFFFAOYSA-L zinc;hexadecanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O GJAPSKMAVXDBIU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Cleaning In Electrography (AREA)
Description
Uprawniony z patentu: Rank Xerox Limited, Londyn {Wielka Brytania) Sposób wywolywania obrazów kserograficznych Przedmiotem wynalazku jest sposób wywolywania obrazów kserograficznych.Znane jest wytwarzanie i wywolywanie obrazów na powierzchni, zawierajacej substancje fotoprze- wodzace, za pomoca srodków elektrostatycznych.Podstawowy sposób wedlug opisu patentowego nr 2.297.691 Stanów Zjednoczonych Ameryki prze¬ widuje umieszczanie jednorodnego ladunku elek¬ trostatycznego na fotoprzewodzacej warstwie izo¬ lujacej, wystawianie tej warstwy na dzialanie obra¬ zu utworzonego ze swiatla i cieni w celu rozpro¬ szenia ladunku elektrostatycznego na obrazach warstwy, wystawionej na dzialanie swiatla, oraz wywolywanie powstalego w ten sposób utajonego obrazu elektrostatycznego poprzez umieszczenie na tymze obrazie bardzo rozdrobnionej substancji elektroskopicznej, okreslonej w dalszej czesci opi¬ su terminem „substancji tonujacej". Ta substancja tonujaca bedzie wówczas w naturalny sposób przy¬ ciagana do tych pól warstwy, które zatrzymuja na sobie ladunek, tworzac w ten sposób tonowany obraz, odpowiadajacy utajonemu obrazowi elektro¬ statycznemu. Ten proszkowy obraz (pylorys) mozna nastepnie przekazac na nosnik w rodzaju na przy¬ klad papieru. Przeniesiony obraz moze zostac na¬ stepnie na stale utrwalony na tymze nosniku, na przyklad za pomoca nagrzewania.Zamiast wytwarzania obrazu utajonego poprzez jednorodne ladowanie warstwy fotoprzewodzacej a nastepnie wystawianie tejze warstwy na dziala- 2 nie swiatla, mozna wytworzyc utajony obraz za pomoca bezposredniego ladowania warstwy zgod¬ nie z ukladem obrazu. Mozna utrwalic proszkowy obraz na warstwie fotoprzewodzacej wówczas, gdy 5 pozadane jest wyeliminowanie etapu przekazywa¬ nia obrazu proszkowego. Mozna tez zastosowac in¬ ne odpowiednie srodki zastepcze utrwalajace, takie jak na przyklad obróbka za pomoca rozpuszczalni¬ ka czy tez metoda powlekania zamiast opisanego 10 powyzej etapu utrwalania za pomoca nagrzewania.Znanych jest szereg sposobów stosowania cza¬ stek elektroskopowych do wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego. Jeden z tych sposobów wywolywania, opisany przez E. N. Wise w patencie 15 USA nr 2.618.552 znany jest pod nazwa wywolywa¬ nia „kaskadowego".Wedlug tego sposobu, wywolywacz, zawierajacy stosunkowo duze czastki nosnika, powleczonego elektrostatycznie drobnymi czastkami substancji to- 20 nujacej, zostaje przeniesiony na powierzchnie, za¬ wierajaca elektrostatyczny obraz i przetoczony wzglednie kaskadowy przez nia. Sklad czastek nos¬ nika dobrany zostal tak by ladowac tryboelektrycz- nie czastki substancji tonujacej do okreslonego 25 i pozadanego stopnia polarnosci. Gdy mieszanina ta spada kaskadowo lub przetacza sie po powierz¬ chni zawierajacej obraz, czastki substancji tonuja¬ cej zostaja elektrostatycznie zlozone i zabezpieczo¬ ne na naladowanej czesci utajonego obrazu, podczas 30 gdy nie zostaja zatrzymane na nienaladowanych po- 79 9287dd28 a 4 wierzchniach stanowiacych tlo obrazu. Wiekszosc czastek substancji tonujacej, przypadkowo zlozo¬ nych na tle, zostaje usunieta przez staczajacy sie nosnik — najprawdopodobniej dzieki wiekszemu elektrostatycznemu przyciaganiu miedzy substancja tonujaca a nosnikiem niz miedzy nosnikiem a nie- naladowanym tlem. Wówczas zarówno nosnik jak i zbyteczna substancja tonujaca zostaja zwrócone do powtórnego obiegu. Zastosowanie tego rodzaju ^tech¬ niki jest szczególnie cenne przy wywolywaniu kopii kreskowych.Inny sposób wywolywania obrazów elektrosta¬ tycznych polega na zastosowaniu metody „magne¬ tycznej azczotki", opisanej na przyklad w patencie USA nr 2.874.063. Wedlug tego sposobu wywoly¬ wacz, zawierajacy czastki substancji tonujacej oraz nosnika przenoszony jest za pomoca magnesu. Pole magnetyczne magnesu wytwarza ustawienie nosni¬ ków magnetycznych w ksztalcie szczotki. Ta „szczotka magnetyczna" wchodzi w kontakt z po¬ wierzchnia, zawierajaca obraz elektrostatyczny i wówczas czastki substancji tonujacej odciagniete zostaja ze szczotki do utajonego obrazu dzieki przyciaganiu elektrostatycznemu.Jeszcze inna technika wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego polega na zastosowaniu sposobu „chmury proszku" jak to opisuje C. F.Carlson w patencie USA nr 2.221.776. Wedlug tego sposobu wywolywacz, zawierajacy naladowane elek¬ trycznie czastki substancji tonujacej w gazowanej cieczy przenoszony jest w bezposrednim styku z po¬ wierzchnia, zawierajaca utajony obraz elektrosta¬ tyczny. Czastki substancji tonujacej przyciagane sa elektrostatycznie z gazu do utajonego obrazu. Spo¬ sób ten jest szczególnie uzyteczny przy ciaglym wywolywaniu tonowanym.W automatycznych urzadzeniach kserograficznych stosuja sie na ogól plyte kserograficzna w postaci cylindrycznego bebna, obracajacego sie w sposób ciagly podczas calego cyklu kolejnych operacji; obejmujacych ladowanie, naswietlanie, wywolywa¬ nie, przekazywanie i oczyszczanie. Plyta ta jest zwykle naladowana za pomoca generatora wylado¬ wan ulotowych o potencjale dodatnim polaczonego z wlasciwym zródlem wysokiego potencjalu. Po wytworzeniu sie obrazu proszkowego na utajonym obrazie elektrostatycznym podczas fazy wywoly¬ wania, obraz proszkowy zostaje elektrostatycznie przeniesiony na powierzchnie nosnika za pomoca urzadzenia do wytwarzania ulotu, opisanego przez nas powyzej.W urzadzeniach automatycznych, w których za¬ stosowany jest obrotowy beben, powierzchnia nos¬ na, na która ma zostac przeniesiony obraz prosz¬ kowy, poruszana jest wewnatrz urzadzenia zgod¬ nie z obrotami obrzeza bebna i styka sie z bebnem w. polozeniu przejsciowym miedzy powierzchnia bebna a urzadzeniem wytwarzajacym wyladowania ulotowe. Przeniesienie dokonuje sie za pomoca urzadzenia wytwarzajacego ulot, nadajacego ladu¬ nek elektrostatyczny w celu przyciagniecia obrazu proszkowego od bebna do powierzchni nosnika.Biegunowosc ladunku, potrzebnego do spowodowa¬ nia przeniesienia obrazu, zalezna jest od formy wi¬ zualnej kopii oryginalnej wsflodtm reprodukcji oraz od elektroskopowej charakterystyki wywoly¬ wacza, uzytego do wywolywania obrazu. Na przy¬ klad, jezeli mamy uzyskac pozytywna reprodukcje z pozytywu oryginalu, to korzystne bedzie zasto¬ sowanie ulotu o dodatniej biegunowosci w celu prze¬ niesienia ujemnie naladowanego obrazu tonowanego na swa powierzchnie nosna. Jezeli natomiast poza¬ dane jest uzyskanie pozytywowej reprodukcji z ne¬ gatywu oryginalu, wówczas nalezy raczej zastoso¬ wac naladowany dodatnio wywolywacz, który be¬ dzie odpychany przez naladowane pola plyty w kierunku jej pól nienaladowanych i wytworzy przez pozytywny obraz, który moze zostac prze¬ niesiony przez ulot o biegunowosci ujemnej.W kazdym z tych dwóch przypadków szczotkowy obraz proszkowy zwykle pozostaje na plycie juz po przeniesieniu. Jeszcze przed tym, zanim plyte te mozna uzyc w nastepnym cyklu, nalezy usunac tenze szczatkowy obraz w celu unikniecia „obrazów widmowych" przy wytwarzaniu nastepnych kopii.Przy zastosowaniu opisanego wyzej procesu uzyski¬ wania reprodukcji „pozytyw-pozytyw" szczotkowy proszek wywolywacza utrzymuje sie scisle na po¬ wierzchni plyty dzieki zjawisku, które nie jest w pelni wyjasnione, lecz które mozna wlasciwie uznac za bedace wynikiem naladowania elektrycznego, za¬ pobiegajacego calkowitemu przeniesieniu proszku na powierzchnie nosna, a w szczególnosci na pole obrazu. Ladunek ten neutralizuje sie zwykle za pomoca urzadzenia do wywolywania ulotu jeszcze przed dojsciem do styku miedzy szczotkowym obra¬ zem proszkowym a urzadzeniem oczyszczajacym.Neutralizacja tego ladunku powoduje znacznie lepsza jakosc oczyszczania .przez to urzadzenie.Aczkolwiek przy wytwarzaniu obrazów kserogra¬ ficznych za pomoca znanych dotychczas wywoly¬ waczy mozna wytwarzac obrazy o dobrej jakosci, to jednak wywolywacze te posiadaja w pewnych dziedzinach powazne wady. Wywolywacze musza swobodnie przeplywac w celu umozliwienia do¬ kladnego dozowania a nawet podczas wywolywa¬ nia oraz stadiów ich ponownego przebiegu w trak¬ cie procesu kserograf iomego. Niektóre z wywoly¬ waczy wykazuja jednak pewne zalety, jak na przy¬ klad odpowiednia charakterystyke wlasciwosci try- boelektrycznych.Celem niniejszego wynalazku jest opracowanie sposobu wywolywania obrazów kserograficznych, który umozliwialby zastosowanie swobodnie prze¬ plywajacego wywolywacza lub jego mieszaniny po¬ siadajacego stale wlasnosci tryboelektryczne i któ¬ ry zapobiegalby niepozadanemu osadzaniu sie sklad¬ ników wywolywacza na przeznaczonych do ponow¬ nego uzytku powierzchniach, zawierajacych obrazy elektrostatograficzne, oraz byl odporny na fizycz¬ ne uszkodzenia i dawal sie latwo przenosic z po¬ wierzchni elektrofotograficznych na powierzchnie nosnika.Cel wynalazku osiagnieto przez to, ze powierzch¬ nie na która nalozono material wywolywacza wy¬ równuje sie za pomoca co najmniej jednego ele¬ mentu scierajacego utrzymujac grubosc warstwy soli metalicznej kwasu tluszczowego na powierzch¬ ni obrazowej na poziomie ponizej 10 mikronów.Stala hydrofobowa sól metaliczna kwasu tluts- 10 15 20 15 30 85 4t 45 M 55 607*928 A ezowego wystepuje w wywolywaczu w ilosci wa¬ hajacej sie od 0,02 do okolo 20%, w zaleznosci od ciezaru substancji tonujacej, na powierzchni czastek wywolywacza.Sól ta moze stanowic zwiazek, tworzacy wywo¬ lywacz w jakikolwiek dogodny sposób, pozwalaja¬ cy na wytworzenie albo mieszaniny czastek soli z czastkami wywolywaczy, nosników lub substancji tonujacych, powleczonych sola metaliczna, albo tez nosników lub substancji tonujacych (wzglednie lacznie), zawierajacy sól jako ogólny skladnik lub tez jej polaczenia. W przypadkach, w których ko¬ nieczne jest zmieszanie stalej hydrofobowej soli metalicznej kwasu tluszczowego wyzszego rzedu lub zastosowanie jej jako powloki na substancji to¬ nujacej lub czastkach nosnika, wówczas sól ta po¬ winna wystepowac w ilosci od 0,2% do mniej wie¬ cej 10%, w zaleznosci od ciezaru substancji tonu¬ jacej w ostatecznej mieszaninie, stanowiacej wy¬ wolywacz.Optymalne rezultaty uzyskuje sie przy zawartos¬ ci soli, wynoszacej od okolo 0,05% do okolo 4%.Choc potencjal powierzchni poczatkowego wytwa¬ rzania obrazu elektrostatycznego mozna zreduko¬ wac, poprawiajac opór scierania, jezeli proporcja wystepujacej soli metalicznej zwiekszona zostanie o mniej wiecej 10%, to niepozadane odkladanie sie na tle zwieksza sie w sposób widoczny. Jezeli na¬ piecie ladunku zmniejszone zostaje do stopnia wy¬ równania obecnosci soli metalicznej w nadmiarze mniej wiecej 10%, wówczas obrazy sa „zmyte".Nie jest rzecza istotna, by cala powierzchnia kazdej czastki substancji tonujacej powleczona byla sola metaliczna, to znaczy, ze ilosc tej soli jest w zu¬ pelnosci wystarczajaca, jezeli powleczonych jest nia od 10 do 16% powierzchni czastek substancji tonujacej. Jezeli sól metaliczna jest raczej rozpro¬ szona wewnatrz czastki substancji tonujacej czy tez nosnika, a nie rozlozona na jej powierzchni, wów¬ czas potrzebna jest proporcjonalnie wieksza ilosc tej soli do utrzymania wystarczajacej ilosci soli na powierzchni czastki substancji tonujacej lub nos¬ nika. Dodatkowa ilosc niezbednej soli metalicznej zalezy W znacznym stopniu od powierzchni cza¬ stek, a wiec-od wybranej srednicy czastek. Stopien styku tarcia lub scierania miedzy powierzchniami, na których wyparzane sa obrazy elektrostatyczne a elementami oczyszczajacymi, stosowanymi w ni¬ niejszym sposobie wedlug wynalazku powinien byc wystarczajacy do zachowania grubosci nawarstwien na warstwie stalej hydrofobieznej soli metalicznej kwasu tluszczowego na poziomie okolo 10 mikro¬ nów. Utrzymywanie grubosci nawarstwien na po¬ ziomie ponizej 6 mikronów jest najbardziej poza¬ dana, gdyz polepsza to w znacznej mierze gestosc obrazu tonowanego oraz jego jakosc. Optymalne wyniki uzyskuje sie przy utrzymaniu grubosci na¬ warstwien na poziomie ponizej 3 mikronów.W przypadku, gdy nawarstwienia utrzymane sa na poziomie ponizej 3 mikronów, obrazy tonowane sa znacznie gestsze, a tlo kopii jest w zasadzie pozbawione niepozadanych nakladów substancji to¬ nujacej. Jezeli jest to pozadane, mozna zastosowac energiczne scieranie przed lub po wlasciwym oczyszczania, takim jak znane juz w tej dziedzi- 6 nie oczyszczaniu „szczotkowym", „tkaninowym" czy tez „kaskadowym". Co dziwniejsze, przy spo¬ sobie wedlug niniejszego wynalazku mozna poslu¬ zyc sie wiekszym dociskiem styku scierania lub 5 tarcia, przy czym nie nastapi zadne gwaltowne zniszczenie powierzchni fotorecepcyjnych ani tez przeciazenie silnika napedowego bebna. Ilosci stea¬ rynianu wapniowego, stosowane w eelu ulatwienia nawilzania pigmentu, rozproszonego w proszkach io wywolujacych, -zawierajacych tlenek cynku, ;jest niewystarczajaca tlo wytworzenia takiej ilosci na¬ swietlonego stearynianu wapniowego na powierzch¬ ni czastki tonujacej, jaka odpowiadalaby celom niniejszego wynalazku. Jezeli na piHjieipchiii cza- 15 stki tonujacej znajduje sse mniej nrz okolo 0,02% soli metalicznej, której ilosc zalezna; jest od cieza¬ ru substancji tonujacej, wówczas wlasnosci trybo- elektryczne, jej wlasnosci przeplywu, scierania, przenoszenia i wytwarzania obrazów sa w zasa- 20 dzie takie same jak wlasnosci substancji tonuja¬ cej czy tez nosnika, nie zawierajacych soli meta¬ licznej kwasu tluszczowego. Jak: z tego wynika, przy danej ilosci soli metalicznej — zaleznej od ciezaru substancji tonujacej, osiagamy na po- 23 wierzchni substancji tonujacej iub nosnika wiecej soli, jezeli dodamy sól metaliczna do mieszaniny wytworzonych uprzednio czastek substancji tonu¬ jacych lub nosnika, niz osiagnelibysmy przez roz¬ proszenie jej w poszczególnych czastkach substancji 30 tonujacych lub w nosniku.Jezeli koncentracja seti -metalicznej zwiekszona zostanie do punktu, w którym substancja tonujaca zawiera zasadniczo 190% tejze soli metalicznej, wówczas ta sól -metaliczna spowoduje wytworze- 35 nie na powierzchni zawierajacej elektrostatyczny obraz oraz na -czastkach nosnika, plynnych na¬ warstwien, utrudniajacych przenoszenie we wlas¬ ciwym przenoszenia obrazti proszkowego, usuwanie tla i oczyszczanie, a nastepnie przenoszenia wy- 40 wolanego obrazu na plyte/przenoszaca nawilzona alkoholowym roztworem kwasu galusowego. Stea¬ rynian zelazowy wchodzi w-reakcje z kwasem ga¬ lusowym, tworzac W len speaób produkt czarny: Co wiecej, poza problemami, jfHatfanywa * za- 49 stosowaniem ttubstaacji toaujacej, zawierajacej 100% soU metalicznej, spo»oby wywolywania elek- trostat?cznegev opisane 'powyzej wymagaja7 plyn- nej obróbki wstepnej plyty przyjmujacej, co jest bardzo niewygodne i zwieksza koszty-calego peo- «o cesu. Ponadto zwijanie sie -obrazów, zacieki jak równiez ich przesuniecia zdarzaja sie o wiele czes¬ ciej przy zastosowaniu nawilzonych plyt przyjmu¬ jacych. W tego rodzaju przypadkach konieczne jest takze zastosowanie dodatkowych urzadzen do usu- 55 wania trujacych i latwopalnych oparów.Zadowalajace wyniki osiagnieto przy zastosowa¬ niu wywolywaczy, zawierajacych stearynian' cyn¬ kowy. Z drugiej Jednakze stemy zamiast stearynia¬ nu cynkowego zastosowac mozna jakakolwiek od* 60 powiednia stala hydrofobowa sól metaliczna kwa¬ su tluszczowego o- temperaturze topnienia powyzej 57°C. W zasadzie taka sól ^metaliczna nie powinna rozpuszczac sie w wadzie, bowiem aole metaliczne rozpuszczalne w wodzie r pozbawiona sa odpowied- ts nich wlasnosci eWLUytiaiych oraz latwo ulegala79 928 wplywom, powodowanym zmianami w wilgoci, cze¬ sto wystepujacymi w normalnej atmosferze otocze¬ nia. Jednakze, duza ilosc soli, uwazanych powszech¬ nie za nierozpuszczalne, w pewnym niewielkim stopniu ulega rozpuszczeniu.W celu efektywnego osiagniecia celów niniejsze¬ go wynalazku rozpuszczalnosc tychze soli powinna byc nieznaczna. Sole, które posiadaja wymagana charakterystyke, obejmuja wiele soli nasyconych kwasów tluszczowych, nienasyconych kwasów tlusz¬ czowych, czesciowo utwardzonych kwasów tlusz¬ czowych oraz podstawionych kwasów tluszczowych jak równiez ich mieszanin.Typowe kwasy tluszczowe, z których uzyskac mozna stale hydrofobowe sole metaliczne to kwas kapronowy, kaprynowy, enantylowy, kaprylowy, pelargonowy, undecylowy, laurynowy, tridecylowy, mirystynowy, pentodecylowy, palmitynowy, marga¬ rynowy, stearynowy, niedecylowy, arachidynowy, behenowy, palmitylowy, oleinowy, rycynolowy, li¬ nolowy, linolenowy, eleostearynowy, likanowy, pa- rycynowy, 2-hydroksynaftaleno-dwusulfonowy — 6,8, arachidonowy i cetoleinowy oraz ich miesza¬ niny. Typowe stale sole metaliczne z kwasów tluszczowych obejmuja: stearynian kadmowy, stea¬ rynian barowy, stearynian olowiowy, stearynian zelazowy, stearynian niklowy, stearynian kobalto¬ wy, stearynian miedziowy, oleinian cynkowy, olei¬ nian manganowy, oleinian zelazowy, oleinian ko¬ baltowy, oleinian miedziowy, oleinian olowiowy, oleinian magnezowy, palmitynian cynkowy, palmi- tynian kobaltowy, palmitynian miedziowy, palmi¬ tynian magnezowy, palmitynian glinowy, palmity¬ nian wapniowy, palmitynian olowiowy, kapronian olowiowy, linoloian kobeitowy, linoloian wapniowy, ryeynolian kadmowy oraz ich mieszaniny.Za pomoca soli metalicznej wedlug niniejszego wynalazku obrabiac mozna kazda odpowiednia pi- gmentowana wzglednie barwiona elektroskopowa substancje tonujaca. Typowe substancje tonujace obejmuja zywice naturalna, kalafonie, zywice ku- maronowo-indendwa, asfalt, gilsonit, zywice feno- lowo-formaldehydowa, modyfikowana zywice fe- nolowo-formaldehydowa, zywice w postaci kalafo¬ nii, zywice metakrylowa, zywice polistyrenowa, zy¬ wice poliestrowa, zywice polipropylenowa, zywice polietylenowa, zywice epoksydowa oraz ich mie¬ szaniny.W celu dodania soli metalicznej do substancji wywolujacych mozna wykorzystac jakakolwiek wlasciwa metode powlekania. Jezeli stosujemy sól metaliczna w postaci luznego proszku, to najlep¬ sze wyniki osiagniemy wówczas, gdy bedzie ona miala postac drobnych czastek. I tak na przyklad, swietne rezultaty osiaga sie przy objetosci czastek, wahajacej sie od 0,5 do 50 mikronów. Choc jeszcze lepsze osiaga sie dzieki wgniataniu proszku soli metalicznej do powierzchni czastek substancji to¬ nujacej wzglednie jej rozproszenie na calej cza¬ stce tejze substancji tonujacej, to jednak stwier¬ dzono, ze niespodziewanie lepsze wyniki osiagnac mozna poprzez przetaczanie proszku soli metalicznej wraz z wytworzonymi poprzednio czastkami bar¬ wionej substancji tonujacej. Choc nie zostalo jesz¬ cze do dzi$ calkowicie wyjasnione, to jednak we 8 wgniatanych mieszaninach nastepuje znaczne stale zblizenie miedzy czescia soli metalicznej oraz cza¬ stkami substancji tonujacej na skutek tarcia oraz najprawdopodobniej stapiania sie soli metalicznej 8 i czastek substancji tonujacej, podczas gdy w mie¬ szaninach przetaczanych wystepuje znacznie mniej¬ szy zwiazek miedzy substancja tonujaca a czastka¬ mi soli metalicznej. Choc nie zostalo to do konca wyjasnione, stale zblizenie miedzy czescia soli me- io talicznej a czasteczkami substancji tonujacej w mie¬ szaninach wgniatanych wystepuje, podczas gdy w mieszaninach przetaczanych mamy do czynienia z luzniejszym i bardziej zmiennym wzajemnym zwiazkiem miedzy czastkami substancji tonujacej 15 i czastkami soli metalicznej. Kopie kserograficzne, wywolane za pomoca obrobionych mieszanin, za¬ wieraja w zasadzie mniejsza ilosc czastek substan¬ cji tonujacej w polach tla niz kopie, uzyskane za pomoca mieszanin nie poddanych obróbce. Miesza- 20 niny poddane obróbce pozwalaja na wykorzystanie nizszych potencjalów poczatkowych powierzchni elektrofotograficznej.Zastosowanie mieszanin poddanych uprzedniej obróbce pozwala takze na znaczne zredukowanie 25 zuzycia bebna elektrofotograficznego — zwlaszcza w tych przypadkach, w których oczyszczanie prze¬ prowadza sie za pomoca tkaniny. Co wiecej, jezeli w urzadzeniach, w których uzyty jest nie podda¬ ny obróbce wywolywacz, zastosowany zostanie tka- *o ninowy element oczyszczajacy, wówczas mozliwe jest zwiekszenie cisnienia, wywieranego przez tka¬ nine oraz szybkosci bebna, co nie spowoduje przed¬ wczesnego zuzycia bebna oraz napedzajacego go silnika. Znacznie lepsze wyniki, uzyskiwane przy 35 zastosowaniu mieszaniny substancji tonujacej, za¬ wierajacych czastki soli metalicznej, wynikaja z rozmaitych czynników. I tak na przyklad, postu¬ luje sie, by zwiekszona powierzchnia hydrofobo¬ wa, wytworzona przez sole metaliczne, powodo- 40 wala wytworzenie atmosfery o niskiej wilgotnosci dla czastek substancji tonujacej; slizgajaca sie sól metaliczna redukuje tarcie podczas procesu wywo¬ lywania i oczyszczania — sól metaliczna moze takze zmniejszyc dzialanie sil Van der Waalsa miedzy « czastkami substancji tonujacej a powierzchnia nos¬ nika. ''^'5'¦'¦¦ Wedlug najbardziej korzystnego rozwiazania, mie¬ szanina substancji tonujacej zawiera barwione cza¬ stki zywicy, zawierajacej od 60 do 95% styrenu W wzglednie homologów styrenu, zmieszanych z mniej wiecej od 0,01% do 4% rozdrobnionego stearynianu cynku w postaci proszku jak na przyklad „Aero 4S", produkowanego przez firme „American Cyana- nide". Te stale i swobodnie przeplywajace miesza- 55 niny wywolujace wytwarzaja stale obrazy liniowe o szczególnie duzej gestosci przy niskim poczat¬ kowym napieciu ladowania. Zuzycie bebna jak równiez nawarstwienia tla zostaja znacznie zredu¬ kowane. Poza zastosowaniem mieszanin przetacza¬ no nych i wgniatanych i ich polaczen mozna takze równomiernie rozproszyc sól metaliczna w kazdej czastce substancji tonujacej. Rozwiazanie to jednak¬ ze nie jest zbyt pozadane niz zastosowanie miesza¬ nin przetaczanych lub wgniatanych z tego wzgle- «5 du, ze w celu uzyskania dostatecznej ilosci soli me-79 *28 talicznej, naswietlanej na powierzchni czastek sub¬ stancji tonujacej, potrzebna jest wieksza ilosc tejze stoli metalicznej. Jezeli mamy zamiar zastosowac te mieszaniny substancji tonujacej w procesach ka¬ skadowych, wówczas w substancji tonujacej cza¬ stka powinna miec przecietny przekrój ponizej 30 mikronów, a najlepiej w celu uzyskania opty¬ malnych wyników — od 2 do 15 mikronów. Przy zastosowaniu sposobu wywolywania za pomoca ^chmury proszku" pozadana jest srednica czastek ponize] 1 mikrona.Typowe nosniki obejmuja chlorek sodowy, chlo^ rek amonowy, chlorek aluminiowo-potasowy, sól Seignetta'a, azotan sodowy, azotan aluminiowy, chloran potasowy, ziarnisty cyrkon, ziarnisty krzem, metakrylan metylu, szklo oraz dwutlenek krzemu.Nosniki mozna stosowac z powleczeniem lub bez.Wedlug niniejszego wynalazku stale hydrofobowe sole metaliczne mozna rozpraszac na kazdej cza¬ stce nosnika wzglednie powlekac nimi wytworzone poprzednio czastki nosnika. Sole metaliczne mozna stosowac wzgledem uprzednio wytworzonych cza¬ stek nosnika w kazdej, odpowiedniej postaci, ta¬ kiej jak: luzny proszek, wytop, roztwór, emulsja lub tez jako skladnik spoiwa, tworzacego na¬ warstwienia. Luzny proszek mozna rozsypac wzgled¬ nie rozlozyc na powierzchni czastek nosnika. Cie¬ cze, zawierajace sól metaliczna, mozna zastosowac wzgledem nosników przy uzyciu kazdego z kon¬ wencjonalnych sposobów, jak na przyklad przez rozpylanie lub powlekanie przez zanurzenie.Lacznie z solami metalicznymi wedlug niniejszego wynalazku mozna wykorzystac wszelkie odpowied¬ nie spoiwa, posiadajace odpowiednie wlasnosci try- boelektryczne. Gdy dobierzemy material, wytwa¬ rzajacy nawarstwienia, o odpowiedniej gestosci i odpowiednim napieciu powierzchniowym, czastki soli metalicznej unosza sie w kierunku wystawio¬ nej na zewnatrz powierzchni powloki i tworza skoncentrowana warstwe soli metalicznej, która umozliwia wykorzystanie nizszych napiec ladowa¬ nia jak równiez znacznie obniza zuzycie bebna oraz aitupicA zepsucia nosnika.Tfrpowe spoiwa, tworaacl; nawarstwienia obej- muja zwiazki, zawierajace chlorek winylu, kopoli¬ mery octanu winylu, fenoloformaldehydowe zywi¬ ce; zywice winilidenowe, polimery butadienowe, zywice melaminowe, nitroceluloze, etyloceluloze, zywice alkidowe, zywice krzemowe, zywice akry¬ lowe i ich mieszaniny. Najlepiej wytwarza na¬ warstwienia etyloceluloza, posiadajac przy tym wlasciwa gestosc i lepkosc. Zastosowanie jej jest najkorzystniejsze z tego wzgledu, ze daje ona naj¬ lepsze wyniki. Ilosc soli metalicznej, koniecznej do uzyskania lepszych wyników wedlug niniejszego wynalazku okreslona jest przez sposób, w jaki ta soi metaliczna laczy sie z nosnikiem oraz przez ilosc substancji tonujacej, wykorzystywanej w ostatecznej mieszaninie wywolujacej. Ogólnie rzecz biorac, dostateczne wyniki uzyskuje sie wówczas, gdy uzyta zostaje 1 czesc substancji tonujacej na ilosc mniej wiecej od lt) do 200 czesci nosnika.Poniewaz skuteczne jest zastosowanie mniej wie¬ cej od 0,2 do 20% soli metalicznej w zaleznosci od ciezaru substancji tonujacej jezeli znajduje sie ona . na powierzchni wywolywacza, pozadane jest wpro¬ wadzenie od okolo 6,0001 do okolo 2% soli meta¬ licznej — w zaleznosci ód ciezaru nosnika — na powierzchnie czastek nosnika — w tym przypad- 5 ku, jezeli obrabiamy za pomoca soli metalicznej czastki nosnika, a nie czastki substancji tonujacej.Nawarstwienie sie stalych, hydrofobowych soli metalicznych na powierzchni fotoreceptóra mozna ustalac za pomoca jakiegokolwiek urzacfeenia regu¬ lujacego. Wedlug najbardziej korzystnego rozwia¬ zania, urzadzenie regulujace posiada lopatke scie¬ rajaca. Najbardziej korzystne jest tu zastosowanie lopotek scierajacych z tego wzgledu, ze sa one pro¬ ste w budowie, mato kosztowne, nie wymagaja cze¬ stej wymiany oraz oddzielnego"zródla zasilania oraz zajmuja stosunkowo malo miejsca w automatycz¬ nych kopiarkach i powielaczach. Zasadnicze kry- ferim doboru okreslonego ukiadu lopatki scierajacej stanowi fakt, ze lopatka taka wzglednie lopatki sa w stanie utrzymac grubosc nawarstwien stalej hy¬ drofobowej soli metalicznej kwasu tluszczowego na poziomie nieco ponizej 10 mikronów. Lopatka scie¬ rajaca moze byc zamocowana ruchomo lub sztywno.Typowy material na sztywna lopatke scierajaca to wzglednie odporne substancje organiczne lub nie¬ organiczne, takie jak aluminium czy miedz. Ty¬ powe materialy podatne obejmuja poliuretany, te¬ flon, polipropylen, gume naturalna, gume polisilo- ksanowa i korek. Zakres cisnienia lopatki na po¬ wierzchnie fotoprzewodnfka wystarczajacego do wyregulowania nawarstwienia soli metalicznej za¬ lezy od takich czynników jak wzgledna predkosc lopatki i bebna, ilosci lopatek, dobranego mate¬ rialu na lopatke oraz stopnia' koncentracji soli me¬ talicznej w wywolywaczu. I tak na przyklad, uzy¬ skuje sie dobre wyniki wówczas, gdy w urzadze¬ niu, dzialajacym przy wzglednej predkosci po¬ wierzchni fotoreceptóra o gumowej lopatce, wyno¬ szacej okolo 7,5 cm na sekunde oraz posiadajacym koncentracje soli metalicznej w wywolywaczu okolo 1% ciezaru w zaleznosci od ciezaru ogólne¬ go substancji tonujacej, zastosuje sie cisnienie lo¬ patki, wynoszace mniej wiecej 0,7 kC/cm*.Nawarstwianie sie starych hydrofobowych soli metalicznych na wykorzystywanej kilkakrotnie po¬ wierzchni fotoreceptóra mozna takze regulowac za pomoca wlóknistego elementu regulujacego. W przy¬ padkach, w których elementem tym jest wlóknista tkanina, material ten moze byc tkany lub nietka¬ ny. Tkanina ta moze zawierac jakikolwiek odpo¬ wiedni material wlóknisty. Typowe substancja wlókniste obejmuja wlókna naturalne, takie jak bawelna, welna, wlosie i tym podobne jak: rów¬ niez wlókna syntetyczne takie jak nylon, pochod¬ ne celulozy i tym podobne. Zakres cisnienia tka¬ niny wzgledem powierzchni fofoprzewodntka, wy¬ starczajacy do wyregulowania nawarstwienia soli metalicznej, zalezny jest od calego szeregu czyn¬ ników, takich jak na przyklad wzgledna predkosc tkaniny i powierzchni fotoprzewodnika, charakte¬ rystyki powierzchni tkaniny oraz czas styka mie¬ dzy tkanina a powierzchnia fotoprzewodnika. Na przyklad, stopien nawarstwienia soti metalicznej mozna odpowiednio regulowac przez wytworzenie cisnienia okolo 0,75 kG/cm2, jezeli swiezy nietkany 15 20 25 30 39 40 n 50 fld79 928 material, skladajacy sie ze sztucznego wlókna, przesuwany jest przez powierzchnie elektrostato- graficznego bebna ze wzgledna predkoscia 7,6 cm na sekunde na odleglosci okolo 28 cm.Jezeli w celu regulacji nawarstwienia stosujemy szczotke, to szczotka ta moze posiadac jakikolwiek odpowiedni ksztalt — to znaczy moze miec postac cylindra wzglednie postac pasa. Wydajnosc tejze szczotki jako urzadzenia, regulujacego stopien na¬ warstwienia soli metalicznej, zalezy od takich czyn¬ ników jak wzgledna predkosc miedzy powierzch¬ nia wykorzystywanego kilkakrotnie fotoreceptora a zewnetrznym obrzezem szczotki, srednicy wló; kien szczotki, dlugosci wlókien szczotki, ilosci wló¬ kien szczotki na 1 cal kwadratowy jak równiez od zakresu interferencji szczotki z powierzchnia wy¬ korzystywanego kilkakrotnie fotoreceptora. Na przy¬ klad, nawarstwiania soli metalicznej na powierzch¬ ni wykorzystywanego kilkakrotnie fotoreceptora mozna dostatecznie regulowac przez zastosowanie szczotki cylindrycznej o srednicy okolo 10 cm, wy¬ sokosci wlókien polipropylenu o 10—20 denierach, wynoszacej od okolo 6 do 12 mm oraz gestosci wlókien, wynoszacej od 45.0QO do okolo 60.000 wló¬ kien na powierzchni 6 cm2, przy czym szczotka ta obraca sie z predkoscia od okolo 2 do okolo 350 obrotów na minute, utrzymujac przy tym interfe¬ rencje powierzchni wlóknistego fotoreceptora na poziomie okolo 2,5 mm.W szczotce zastosowany moze byc jakikolwiek odpowiedni trwaly material wlóknisty. Typowe materialy wlókniste obejmuja nylon, polipropylen, dynel, arnel i tym podobne. Kierunek ruchu ele¬ mentu scierajacego moze byc zgodny wzglednie od¬ wrotny do kierunku ruchu powierzchni fotorecep¬ tora.Wykorzystywana kilkakrotnie powierzchnie, na której wytwarzane sa obrazy, mozna jeszcze bar¬ dziej zredukowac poprzez powodowanie — z przerwami — styku miedzy elementem scieraja¬ cym a powierzchnia, na której wytwarzane sa obra¬ zy. W przypadkach; w których stosuje sie lopatki scierajace, redukcje zuzycia substancji tonujacej mozna osiagnac poprzez odsuniecie lopatki od wy¬ korzystywanej kilkakrotnie powierzchni, na któ¬ rej wytwarzane sa obrazy, w okreslonych z góry odstepach czasu w celu umozliwienia przeniesienia materialu wywolywacza, który móglby zebrac sie na lopatce, poprzez powierzchnie, na której wy¬ twarzane sa obrazy do strefy wywolywania, skad powraca on do mieszaniny wywolujacej.Te technike regulacji stopnia nawarstwiania sie soli metalicznej wedlug niniejszego wynalazku mozna zastosowac wzgledem kazdej powierzchni, na której wytwarzane sa obrazy, lacznie z jaka¬ kolwiek powierzchnia fotoprzewodzaca. Znane po¬ wszechnie substancje fotoprzewodzace obejmuja szklisty selen, stopy selenu, organiczne lub nie¬ organiczne fotoprzewodniki, znajdujace sie w nie- fotoprzewodzacej matrycy, organiczne lub nieor¬ ganiczne fotoprzewodniki, znajdujace sie w matry¬ cy fotoprzewodzacej i tyni podobne. Najbardziej korzystne Jest zastosowanie wykorzystywanych kil¬ kakrotnie powierzchni fotoreceptora, zawierajacych szklisty selen, poniewaz ich szybsza reakcja foto¬ graficzna pozwala na zastosowanie wiekszych pred¬ kosci urzadzenia.Ponizej przytoczono przyklady, które okreslaja, opisuja oraz porównuja sposoby wedlug niniejsze- 5 go wynalazku, dotyczace regulowania grubosci soli na wykorzystywanych kilkakrotnie elektrostatycz¬ nych powierzchniach, na których wytwarzane sa obrazy. Czesc oraz procenty podane sa w odniesie¬ niu do ciezaru lub w inny sposób.Ponizsze przyklady oparte sa na zastosowaniu kopiarki Xerox 914, w której szczotka oczyszczaja¬ ca zastapiona zostala przez urzadzenie, umozliwia¬ jace zmiany predkosci szczotki oraz odleglosci szczotki od bebna.Przyklad I. Okolo 0,05 czesci stearynianu cynkowego, posiadajacego objetosc czastek od 0,75 do okolo 40 mikronów sklada sie delikatnie w jednej czesci czastek substancji tonujacej Xerox 914, których objetosc wynosi mniej wiecej od 10 do 15 mikronów. Powstala w ten sposób obrabiana mieszanina jest nastepnie dokladnie wgniatana do sciernika Szegvari przez okres okolo 10 minut. Ko¬ piarka Xerox 914 zostaje wówczas naladowana 1 czescia obrobionej mieszaniny substancji tonu¬ jacej oraz mniej wiecej 99 czesciami kulek nosni¬ ka Xerox 914, w których przecietna objetosc cza¬ stek wynosi okolo 500 mikronów. Stanowisko oczyszczania w kopiarce obejmuje standartowa szczotke oczyszczajaca z futra króliczego Xerox 914 o srednicy 87 mm usytuowana w ten sposób, , ze umozliwia przyleganie wlókna o grubosci 2,5 mm do powierzchni bebna i wykonuje 1200 obrotów na minute. Beben kserograficzny obracany jest normalnie z predkoscia, wynoszaca okolo 50 mm na sekunde. Po wykonaniu okolo 1000 odbitek, przeprowadza sie badanie powierzchni bebna kse¬ rograficznego i odbitek pod wzgledem ich aktual¬ nej jakosci i zuzycia.Odbitki, wykonane w koncowym stadium próby charakteryzowac sie beda obrazami o malej ge¬ stosci oraz duza iloscia nawarstwien substancji to¬ nujacej na tle obrazu. Powierzchnia bebna ksero¬ graficznego pokryta jest nawarstwieniami steary¬ nianu cynkowego o grubosci wiekszej niz 15 mi¬ kronów. Co wiec*j, miekka, standartowa szczotka oczyszczajaca z futra króliczego, stosowana w ko¬ piarce Xerox 914 jest zwichrzona i zapchana stea¬ rynianem cynkowym.Przyklad II. Sposób wywolywania wedlug przykladu I zostaje powtórzony w takich samych w zasadzie warunkach z tym, ze standartowa szczotka oczyszczajaca z futra króliczego zastapio¬ na jest w tym przypadku przez szczotke o sred¬ nicy gabarytowej, wynoszacej mniej wiecej 100 mm o wysokosci stosu polipropylenu 15 denierów, wy¬ noszacej okolo 10 mm oraz gestosci wlókien, wy¬ noszacej okolo 54.000 wlókien na powierzchni 6 cm2. Szczotka umieszczona jest w bezposrednim sasiedztwie bebna kserograficznego w celu zapew¬ nienia wzajemnego przylegania w zakresie mniej wiecej 25 mm oraz obraca sie z predkoscia okolo 175 obrotów na minute. Wywolywacz, stosowany w kopiarce jest w zasadzie identyczny z wywo¬ lywaczem, stosowanym wedlug przykladu I. Po wy¬ konaniu okolo 80,000 odbitek, odbitki oraz po- i% 20 05 30 35 40 45 50 55 6079 928 13 14 wierzchnia bebna poddane zostaja badaniu pod wzgledem aktualnej jakosci oraz zuzycia. Odbitki wykonane w koncowym stadium próby charakte¬ ryzuja sie obrazami o duzej gestosci oraz w za¬ sadzie nie zawieraja nawarstwien substancji tonu¬ jacej na tle obrazów. Beben posiada zaledwie nie¬ znaczne oznaki swiadczace o zuzyciu i powleczony jest blona ze stearynianu cynkowego o grubosci okolo 3 mikronów.Przyklad III. Sposób wywolywania wedlug przykladu II powtórzono przy zastosowaniu swie¬ zej, w zasadzie identycznej szczotki, nowego beb¬ na kserograficznego oraz nie poddanej obróbce sub¬ stancji tonujacej Xerox 914 oraz nosnika. Po wy¬ konaniu okolo 25.000 odbitek, beben kserograficz¬ ny poddano badaniu. Selenowa powierzchnia bebna wykazuje tylko nieliczne cechy, swiadczace o jego zuzyciu.Przyklad IV. Sposób wywolywania wedlug przykladu II powtórzono przy zastosowaniu swie¬ zej, w zasadzie identycznej szczotki, nowego bebna kserograficznego oraz nie poddanej obróbce sub¬ stancji tonujacej Xerox 914 i nosnika. Po wyko¬ naniu okolo 10.000 odbitek beben kserograficzny poddaje sie badaniu. Beben wykazuje wówczas oznaki, swiadczace o duzym zuzyciu.Przyklad V. Sposób wywolywania wedlug przykladu II powtórzono w takich samych w za¬ sadzie warunkach, z tym, ze 15-denierowa szczotka zastapiona jest szczotka o gabarytowej srednicy wynoszacej okolo 100 mm, 7-denierowym stosie po¬ lipropylenowym o wysokosci okolo 10 mm oraz o gestosci wlókien, wynoszacej okolo 26.000 wló¬ kien na powierzchni 6 cm2. Szczotka usytuowana jest w bezposrednim sasiedztwie nowego bebna kserograficznego w celu zapewnienia wzajemnego przylegania wlókien w zakresie okolo 1,5 mm i obraca sie z predkoscia okolo 1100 obrotów na minute. Po wykonaniu okolo 75.000 odbitek, odbit¬ ki i powierzchnie bebna kserograficznego poddaje sie badaniu w celu ustalenia ich aktualnej jakosci i stopnia zuzycia. Odbitki, wykonane w koncowym stadium próby, charakteryzuja sie ciemnymi, ge¬ stymi obrazami oraz minimalnymi nawarstwienia¬ mi substancji tonujacej na tle. Beben zuzyty jest takze w niewielkim stopniu i powleczony jest blo¬ na stearynianu cynkowego o grubosci okolo 2 mi¬ kronów.Przyklad VI. Sposób wywolywania wedlug przykladu V powtórzono w takich samych w za¬ sadzie warunkach, z tym, ze szczotka polypropyle- nowa zastapiona jest przez szczotke o gabarytowej srednicy okolo 100 mm, 7-denierowym stosie nylo¬ nowym o wysokosci okolo 11 mm i gestosci wló¬ kien, wynoszacej okolo 30.000 wlókien na po¬ wierzchni 6 cm2. Szczotka usytuowana jest w bez¬ posrednim sasiedztwie nowego bebna kserograficz¬ nego w celu zapewnienia przylegania wlókien w zakresie okolo 2,7 mm i obraca sie z predkoscia 1100 obrotów na minute. Po wykonaniu okolo 75.000 odbitek, zarówno odbitki jak i powierzch¬ nia bebna kserograficznego zostaja poddane bada¬ niu w celu stwierdzenia ich aktualnej jakosci i stopnia zuzycia. Odbitki, wykonane w koncowym stadium próby charakteryzuja sie gestymi. obraza¬ mi i prawie calkowitym brakiem nawarstwien sub¬ stancji tonujacej na tle. Beben zuzyty jest zaledwie w niewielkim stopniu i powleczony jest blona ste¬ arynianu cynkowego o grubosci okolo 3 mikronów.Przyklad VII. Okolo 0,01 czesci palmitynia- nu wapniowego o objetosci czastek, wynoszacej od 1 do okolo 30 mikronów ugniata sie przez okres okolo 15 minut z mniej wiecej jedna czescia cza¬ stek pigmentowanej substancji tonujacej w posta¬ ci kopolimeru styrenowego. Okolo 1 czesci powsta¬ lej w ten sposób mieszaniny substancji tonujacej, zmieszanej z 99 czesciami kulek powleczonego nos¬ nika piaskowego o przecietnej srednicy, wynosza¬ cej okolo 400 mikronów, stosuje sie w celu wy¬ wolania utajonych obrazów na powierzchni cylin¬ drycznego fotoreceptora, posiadajacej predkosci mniej wiecej 150 mm na sekunde. Stosuje sie tu szczotke regulujaca grubosc palmitynianu, posiada¬ jaca gabarytowa srednice okolo 100 mm, 15-denie- rowy stos polipropylenowy o wysokosci okolo 7,5 mm oraz gestosci wlókien, wynoszaca okolo 56.000 wlókien na powierzchni 6 cm2. Szczotka usy¬ tuowana jest w bezposrednim sasiedztwie po¬ wierzchni fotoreceptora w celu zabezpieczenia wza¬ jemnego przylegania wlókien w zakresie okolo 2,2 mm i obraca sie z predkoscia okolo 300 obro¬ tów na minute. Kazdy wywolany obraz zostaje za pomoca urzadzenia elektrostatycznego przekazany na arkusz papieru, na którym zostaje z kolei sto¬ piony za pomoca nagrzewania. Po powtórzeniu procesu kopiowania okolo 75.000 razy, odbitki oraz powierzchnia fotoreceptora poddane zostaja bada¬ niu w celu okreslenia ich aktualnej jakosci oraz stopnia zuzycia. Odbitki, wykonane w koncowym stadium próby zawieraja ostre, geste obrazy oraz minimalne nawarstwienia na tle. Beben wykazuje bardzo niewielki stopien zuzycia i powleczony jest blona palmitynianu wapniowego o grubosci okolo 3 mikronów.Przyklad VIII. Próbka kontrolna, zawiera¬ jaca jedna czesc czastek barwionej substancji tonu¬ jacej w postaci kopolimeru styrenowego o prze¬ cietnej objetosci czastek, wynoszacej okolo 10—12 mikronów oraz 99 czesci nosnika, posiadajacego przecietna objetosc czastek, wynoszaca okolo 250 mikronów, jest kaskadowana przez powierzchnie bebna, zawierajaca obraz elektrostatyczny. Wywo¬ lany obraz zostaje nastepnie przeniesiony za po¬ moca urzadzenia elektrostatycznego na arkusz pa¬ pieru, na którym zostaje stopiony poprzez nagrze¬ wanie. Szczatkowy proszek zostaje usuniety z po¬ wierzchni, zawierajacej obrazy elektrostatyczne, za pomoca tkaniny oczyszczajacej. Stosuje sie w tym przypadku nietkany material sztuczny przy cisnie¬ niu mniej wiecej 1,2 kG/cm2, wzglednej predkosci tkaninowego fotoreceptora, wynoszacej okolo 37 mm na sekunde oraz lukowej odleglosci przylegania tkaniny, wynoszacej mniej wiecej 3 mm. Po po¬ wtórzeniu procesu kopiowania 5000 razy, odbitki oraz powierzchnia, zawierajaca obrazy elektrosta¬ tyczne poddane zostaja badaniu w celu okreslenia ich aktualnej jakosci i stopnia zuzycia. Odbitki wykazuja duzy kontrast liniowy i minimalne na¬ warstwienie na tle. Z drugiej strony jednakze, wieksze pola stale sa zmyte. Badania mikrogra- 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60*I028 16 liczne powierzchni, zawierajacej obrazy elektrosta¬ tyczne ujawniaja liczne glebokie zadrapania.Przyklad IX. Okolo 0,02 czesci stearynianu cynkowego o objetosci czastek, wahajacej sie od okolo 0,75 mikronów do okolo 40 mikronów skla¬ da sie delikatnieJia jednej czesci barwionego, wy¬ tworzonego uprzednio kopolimeru styrenowego, opisanego w przykladzie VIII. Powstala w ten spo¬ sób mieszanina wywolujaca jest dokladnie wgma- tana do scieracza Szegvari przez okres okolo 10 mi- jiut Sposób wywofywania wedlug przykladu VII zastaje powtórzony przy zastosowaniu nowego bebna oraz uprzednio wgniecionej mieszaniny, za¬ stepujacej w tym przypadku substancje tonujaca, wymieniona w przykladzie VII. Odbitki, uzyskane przy zastosowaniu wgniecionej substancji odzna¬ czaja sse lepszym powleczeniem pól stalych i bar¬ dziej czystym tlem niz odbitki, uzyskane przy za¬ stosowaniu próbki kontrolnej. Co wiecej, badania mikrograficzne powierzchni, zawierajacej obrazy elektrostatyczne wykazuja obecnosc znacznie plyt- szych i nieficznych zadrapan —r w porównaniu z zadrapaniami, wystepujacymi na powierzchni, zawierajacej obrazy .wedlug przykladu VIII wiecej niz dwukrotnie mniejszych. Beben powleczony jest blona stearynianu cynkowego o grubosci okolo 3 mikronów.Przyklad X. Mniej wiecej jedna czesc stea¬ rynianu cynkowego o lubosci czastek, wahajacej sie od okolo 0,15 mikrona do okolo 40 mikronów, zostaje delikatnie zlozona w jednej czesci barwio¬ nego, uprzednio wytworzonego kopolimeru styre¬ nowego, opisanego w przykladzie VIII. Wytworzona w ten sposób mieszanina zostaje nastepnie przeto¬ czona w szczelnie zamknietym pojemniku przez 15 minut. Mniej wiecej jedna czesc przetoczonej mieszaniny zostaje zmieszana z 99 czesciami nos¬ nika o objetosci czastek, wynoszacej przecietnie okolo 250 mikronów. Powstala w ten sposób mie¬ szanina wywolujaca stoMwana jest w procesie wy¬ wolywania kaskadowego, opisanego w przykla¬ dzie VHI. Na r:pownrzchnte bebna, ^zawierajaeego obcasy elektrostatyczne naklada ^siefblona z steary¬ nianu cynkowego o grubosci, pwekiafizajaoej 25 mikrcmów, co powoduje, ze tkanirawe urzadze¬ nie oczyszczajace *ie dziala^skutecznie. Odbitki, wykonane przy takta ukladzie wywolywacza, za¬ wieraja obrazy o skrajnie malej gestosci oraz wy¬ kazuja nadmierne ilasci nawarstwien na tle.Przyklad XI. Sposób opisany w przykla¬ dzie VII!, powtórzono jeszcze raz,.a tym, ze-podwo- jona zostaje predkosc obrotów a cisnienie styku tkaniny zwiekszone do okolo .2,2 kG/cm2. Predkosc wzgledna jniedzy tkanina a powierzchnia fotorecep- tora wynosi okoio 75 mm "na sekunde. Pierwotny silnik napedowy zostaje zatrzymany w celu na¬ pedzania bebna z predkoscia dwukrotnie wieksza niz predkosc poczatkowa; na zwiekszenie pred¬ kosci wplywa smiana w stopniu pekrycia. Jezeli silnik napedzony zaczyna aie^ przegraewac, wszelkie próby uruchaania^ia tego zmienionego systemu nie dadza wyniku.Przyklad XII. sposób opisany w przykla¬ dzie XI, powtórzono, z ferm, ze do barwionej uprzed¬ nio wytworzonej substancji tonujacej w postaci U kopolimera styrenowego i mieszaniny nosnika do¬ daje sie 0,03 czesci stearynianu cynkowego o obje¬ tosci czastek, wahajacej sie od okolo 0,75 mikrona do okolo 40 mikronów. Po stu cyklach kopiowania 5 nie wystepuja zadne oznaki, swiadczace o prze¬ grzaniu silnika.Przyklad XIII. Sposób opisany w przykla¬ dzie VIII powtórzono, z tym, ze tkanina oczysz¬ czajaca zastapiona jest w tym przypadku przez 10 prostokatny pas z wulkanizowanej gumy o pro¬ stych brzegach i grubosci'1,5 mm. Ten pas gumo¬ wy usytuowany jest równolegle do osi bebna przy czym miedzy powierzchnia oraz wzdluznym brze¬ giem prostokatnego pasa, przebiegajacego po po- 15 wierzchni bebna, utworzony zostaje kat ostry. Pio¬ nowa sila wypadkowa, stosowana w celu dociskania calej lopatki do powierzchni bebna wynosi okolo 1,5 kG zgodnie z odczytem na wadze sprezynowej.Po powtórzeniu procesu kopiowania okolo 700 ra- 20 zy, poddano badaniu powierzchnie bebna, zawie¬ rajaca obrazy, w celu stwierdzenia stopnia jej zu¬ zycia. Stwierdzono przy tym, ze selenowa po¬ wierzchnia bebna jest nadmiernie erodowana Stwierdzono równiez smugi substancji tonujacej na 25 powierzchni bebna, a odbitki równiez swiadcza o tym, ze powierzchnia bebna nie zostala w wy¬ starczajacym stopniu oczyszczona.Przyklad XIV. Sposób, opisany w przykla¬ dzie VIII powtórzono, z tym, ze do barwionej i wy- 30 tworzonej uprzednio substancji tonujacej w posta¬ ci koplimeru styrenowego I mieszaniny nosnika do¬ daje sie okolo O^L czesci stearynianu cynkowego o objetosci czastek wahajacej sie od okolo (T,75 mi¬ krona do okolo 40 mikronów. Po TO0 cyklach ko- 35 piowania, beben poddaje sie badaniu celem okre¬ slenia stopnia jego zuzycia. Ha bebnie tym wyste¬ puja oznaki, swiadczace o niewielkim stopniu zu-* zycia, ilosc obrazów iest bardzo dobra, a heben powleczony przy tym blona stearynianu cynkowe- *• go o grubosci okolo 4 mikronów.Termin „substancja wywolujaca" uzyty jest w niniejszym tekscie na okreslenie elektrosfcopowej substancji tonujacej l*b polaczen substancji tonu¬ jacej i substancji hoslaej. 45 Choc w opisach #oJ*yz*} ^przykladowych pro¬ cesachixstaly Oiortslone «0««laiicje i warunki, ko¬ nieczne de 'wytwarzania- £ ^w^fcorzystywamia sub¬ stancji wywolujacych jak równiez czynniki, regu¬ lujace gttftosc blany soli mHtalfcznei ^wedlug ni- 50 niejszego wynalazku, to stanowia one jedynie ilu¬ stracje niniejszego projektu wynalazczego. Wszy¬ stkie te substancje tonujaee, nosniki, regulatory, podstawniki i sposoby, wymienione w przedstawio¬ nych powyzej przykladach, moga byc z powodze- 55 niem zastapione praez inne, przy czym uzyskiwa¬ ne wyniki nie ulegna zmianie. PL PL
Claims (14)
1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania obrazów kserograficznych droga naniesienia elektrostatycznego obrazu utajo¬ nego na przeznaczona do kilkakrotnego uzytku po¬ wierzchnie obrazowa, na który dziala sie swobod- 65 nie przeplywajaca substancje do kserograficznegoIV 18 wywolywania zawierajaca czastki skladajace sie z rozdrobnionej substancji tonujacej oraz z ilosci od 0,02% do okolo 20% co najmniej jednej stalej hydrofobowej soli metalicznej kwasu tluszczowe¬ go, wystepujacej na zewnetrznych powierzchniach czastek substancji wywolujacej i przenoszenia wy¬ wolanego obrazu na powierzchnie nosna, znamien¬ ny tym, ze powierzchnie zawierajaca obraz wy¬ równuje sie za pomoca co najmniej jednego ele¬ mentu scierajacego przy cisnieniu utrzymujac gru¬ bosc warstwy soli metalicznej kwasu tluszczowego na powierzchni obrazowej na poziomie ponizej 10mikronów. r
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie substancje wywolujaca, w której sól metaliczna kwasu tluszczowego oraz rozdrobniona substancja tonujaca porusza sie swobodnie wzgle¬ dem siebie bezposrednio przed wejsciem w styk z powierzchnia zawierajaca obrazy i przeznaczona do kilkakrotnego uzycia.
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie wywolywacz, w którym sól metaliczna powiazana jest w sposób staly z rozdrobniona sub¬ stancja tonujaca.
4. Sposób wedlug zastrz. 1 albo 2 albo 3, zna¬ mienny tym, ze stosuje sie wywolywacz, którego czastki zawieraja czastki nosnika, które sa znacz¬ nie wieksze niz rozdrobniona substancja tonujaca.
5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie material wywolujacy zawierajacy me¬ taliczna sól w postaci stearynianu cynkowego.
6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie material wywolujacy zawierajacy me¬ taliczna sól w postaci stearynianu kadmu.
7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze 5 jako element wyrównujacy stosuje sie co najmniej jedno ostrze wycierajace.
8. Sposób wedlug zastrz. 7, znamienny tym, ze ostrze scierajace unosi sie okresowo ponad po¬ wierzchnie zawierajaca obrazy.
9. Sposób wedlug zastrz. 7, znamienny tym, ze stosuje sie ostrze scierajace o budowie wlóknistej.
10. Sposób wedlug zastrz. 7, znamienny tym, ze stosuje sie ostrze scierajace w postaci szczotki.
11. Sposób wedlug zastrz. 7, znamienny tym, ze stosuje sie element scierajacy w postaci tkaniny.
12. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze element scierajacy dociska sie sila, która jest wy¬ starczajaca do utrzymania grubosci warstwy soli metalicznej na poziomie ponizej 6 mikronów.
13. Sposób wedlug zastrz. 12, znamienny tym, ze wywiera sie sila docisku, która jest wystarczajaca do utrzymania grubosci warstwy soli na poziomie ponizej 3 mikronów.
14. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie substancje wywolujaca, która zawiera od 0,05 do 4%, w zaleznosci od ciezaru substancji tonujacej, co najmniej jednej stalej hydrofobowej soli metalicznej kwasu tluszczowego, wystepujacej na zewnetrznych powierzchniach czastek substan¬ cji wywolujacej, przy czym sól metaliczna posiada temperature topnienia wyzsza od 57°C. 13 20 25 PL PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL13232069A PL79928B1 (pl) | 1969-03-13 | 1969-03-13 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL13232069A PL79928B1 (pl) | 1969-03-13 | 1969-03-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL79928B1 true PL79928B1 (pl) | 1975-08-30 |
Family
ID=19950453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL13232069A PL79928B1 (pl) | 1969-03-13 | 1969-03-13 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL79928B1 (pl) |
-
1969
- 1969-03-13 PL PL13232069A patent/PL79928B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2638416A (en) | Developer composition for developing an electrostatic latent image | |
| US3552850A (en) | Lubricated blade cleaning of imaging photoconductive members | |
| US3501294A (en) | Method of treating the surface of a xerographic plate with a metal salt of a fatty acid to improve image transfer | |
| US2874063A (en) | Electrostatic printing | |
| DE69818912T2 (de) | Toner, Zweikomponenten-Entwickler und Bilderzeugungsverfahren | |
| US3345294A (en) | Developer mix for electrostatic printing | |
| US2911330A (en) | Magnetic brush cleaning | |
| US3276896A (en) | Electrostatic printing | |
| DE69630723T2 (de) | Bilderzeugungsverfahren und -gerät | |
| US3620617A (en) | Electrophotographic apparatus with improved toner transfer | |
| DE3834631C2 (de) | Elektrophotographische Vorrichtung mit einem photoleitfähigen Aufzeichnungsmaterial mit aufgerauhter Oberfläche | |
| US3641969A (en) | Toner unit for photoelectrostatic reproduction | |
| CA1041344A (en) | High surface area carrier | |
| US4040969A (en) | High surface area carrier | |
| US3635704A (en) | Imaging system | |
| DE3836388C2 (de) | Entwickler zum Entwickeln eines latenten elektrostatischen Bildes und Bilderzeugungsverfahren, in dem dieser Entwickler verwendet wird | |
| US2851373A (en) | Developing electrostatic latent images on photo-conductive insulating material | |
| US3572289A (en) | Magnetic brush development apparatus | |
| JPH0145637B2 (pl) | ||
| US3900587A (en) | Imaging process employing treated carrier particles | |
| US3542579A (en) | Electrostatic image development | |
| CA1048839A (en) | Electrophotographic developer | |
| US3662711A (en) | Development apparatus | |
| CA1169915A (en) | Particles for magnetic brush cleaning | |
| US4223085A (en) | Semi-conductive nickel carrier particles |