PL68981B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL68981B1
PL68981B1 PL1969136276A PL13627669A PL68981B1 PL 68981 B1 PL68981 B1 PL 68981B1 PL 1969136276 A PL1969136276 A PL 1969136276A PL 13627669 A PL13627669 A PL 13627669A PL 68981 B1 PL68981 B1 PL 68981B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
ejector
liquid
regeneration
solution
absorption
Prior art date
Application number
PL1969136276A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL1969136276A priority Critical patent/PL68981B1/pl
Publication of PL68981B1 publication Critical patent/PL68981B1/pl

Links

Landscapes

  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Description

Jesli ciecz z ezektora wyplywa do cisnienia atmosferycz¬ nego, to wówczas podcisnienie wynosi 1/1,94=0,51 ata.Z drugiej strony, jesli — jak ma to miejsce w omawianym obecnie wariancie — ciecz zostala juz zregenerowana i ezektor odciaga z cieczy tylko 1 objetosc gazu na 1 objetosc cieczy (punkt c na wykresie), to wówczas stosunek cisnien wyniesie 5,5 (punkt d na wykresie) i podcisnienie wyniesie 0,183 ata.Bez tiudu mozna uzyskac jeszcze nizsze cisnie¬ nie, jesli jest to konieczne, co umozliwia uzyskanie kompletnego praktycznie usuniecia zanieczyszczen gazowych zawartych w afbsorfbtfjaicej cieczy, i co za tym idzie znacznego stopnia oczyszczenia mie¬ szaniny gazowej.Odmiane sposobu oparta na opisanych wyzej faktach, stosuje sie w praktyce przemyslowej zgod¬ nie z fig. 5 i 6, które ponizej zostana omówione.Stosuje sie gó takze w innych podobnych insta¬ lacjach.Ciecz po absorpcji opuszczajaca absorber A 5 (fig. 5) pod cisnieniem wprowadzana jest do ezek¬ tora I, w którym powstaje podcisnienie oddzialu¬ jace nastepnie na komore D, odciagajac zanie¬ czyszczenia gazowe zawarte w cieczy poprzez przewód n. Ciecz opuszczajaca ezektor kieruje sie na szczyt komory regeneracyjnej B, gdzie zanie¬ czyszczenia zostaja oddzielone i odprowadzone na zewnatrz. W tej komorze regeneracyjnej ciecz zo¬ staje zregenerowana jednym ze znanych sposo¬ bów.Na koniec regenerowana ciecz odprowadzana z komory B kieruje sie do drugiej komory rozpre¬ zania D, gdzie podcisnienie wytworzone przez ezek¬ tor usuwa dalsze ilosci gazowych zanieczyszczen, usuwajac je przez przewód n. Ciecz po takim do¬ datkowym zregenerowaniu podaje sie do absorbera pompa; I tak na przyklad, gdy jako absorbent stosuje sie wode, wówczas komora B stanowi zasadniczo wieze z wypelnieniem, w której wode poddaje sie rozprezaniu w przeciwpradzie do plynacego ku gó¬ rze strumienia powietrza, usuwajacego zaabsor¬ bowane uprzednio w wodzie zanieczyszczenia ga¬ zowe* W wiekszosci przypadków jednak, komora B sta¬ nowi kolumne regeneracyjna, w której ciecz rege¬ neruje sie poprzez wrzenie za pomoca dostarczane¬ go z zewnatrz ciepla. Na fig. 6 przedstawiono bar¬ dziej szczególowy schemat instalacji dzialajacej w ten sposób.Ciecz odplywajaca pod cisnieniem z absorbera kieruje sie do ezektora I, a nastepnie przechodzi ona do komory E, której celem jest zapewnienie bezposredniego i dokladnego kontaktowania sie cieczy z gazowymi zanieczyszczeniami odciag¬ nietymi z komory D wraz z duza iloscia pary. Ce¬ lem tej operacji jest ogrzanie cieczy.Nastepnie ciecz kieruje sie do kolumny regenera¬ cyjnej R, w której gazowe zanieczyszczenia zostaja oddzielone i usuniete na zewnatrz, natomiast ciecz przeplywajac w dól kolumny regeneruje sie na dro¬ dze wrzenia pod wplywem ciepla dostarczonego z zewnatrz.Na koniec, ciecz odprowadza sie z kolumny re¬ generacyjnej i kieruje do kolumny pre-eks- pansyjnej C, która jest bezposrednio polaczona po¬ przez przewód m ze szczytem kolumny regenera¬ cyjnej, gdzie oczywiscie panuje cisnienie nizsze niz na dole kolumny. Celem tego jest umozliwienie wykorzystania pary wytwarzanej z roztworu do dogodnego ogrzewania roztworu po absorpcji na szczycie regeneratora.Nastepnie ciecz podaje sie do drugiej komory rozprezania D, w której podcisnienie wytworzone przez ezektor I odciaga z cieczy dalsze ilosci ga¬ zowych zanieczyszczen oraz pary. Ciecz w pelni zregenerowana w ten sposób i ochlodzona poda¬ wana jest pompa P do absorbera A.Taki uklad mozna zastosowac dla dowolnego ty¬ pu absorbenta cieklego oraz — jak juz to uprzed- 13 20 25 30 35 40 45 50 55 609 nio stwierdzono — dla dowolnej znanej w techno¬ logii metody regeneracji.Opisana odmiana zilustrowana na fig. 6, nadaje sie jednak szczególnie dla cieczy i roztworów rege¬ nerowanych na drodze wrzenia, które nastepnie w stanie wrzenia lub gorace odprowadza sie ze strefy regeneracji, zas zawarte w nich cieplo mozna wykorzystac z powodzeniem w komorze D w celu ulatwienia usuwania gazowych zanie¬ czyszczen na drodze zmniejszenia cisnienia za po¬ moca ezektora.Wykorzystanie ciepla zawartego w goracych i wrzacych roztworach jest przedmiotem wynalaz¬ ków opisanych we wloskich opisach patento¬ wych nr 53496 i dodatkowym nr 51505. Zastrzeze¬ nia w tych opisach patentowych dotycza odpro¬ wadzania strumienia oparów róznymi metodami z goracych lub wrzacych roztworów w celu usuniecia z roztworów czesci zawartych w nich dwutlenku wegla i/lub innych kwasowych gazów. Zastrzeze¬ nia te obejmuja równiez zastosowanie strumienia oparów do ogrzewania zimniejszego roztworu po absorpcji odplywajacego z absorbera z wyelimino¬ waniem wymiennika ciepla miedzy roztworem po absorpcji i goracym roztworem, jak to dotychczas bylo stosowane.Wedlug wynalazku, wykorzystanie ezektora jest rózne w zaleznosci od tego czy uzywane sa roztwo¬ ry, z których odprowadza sie z oparami znaczne ilosci zanieczyszczen gazowych (jak w przypadku dobrze aktywowanych roztworów weglanów me¬ tali alkalicznych lub roztworów nieznacznie tylko regenerowanych), czy tez stosuje sie roztwory, z których odprowadza sie glównie pare wodna (jak w przypadku roztworów nieaktywowanych, zrege¬ nerowanych w znacznym stopniu).W pierwszym przypadku pozadane jest uzyskanie mozliwie najwiekszego zregenerowania roztworu, usuwajac jak najwiecej zanieczyszczen gazowych, dlatego tez zaleca sie aby strumien oparów i ga¬ zowych zanieczyszczen wyciagany przez ezektor chlodzic za pomoca chlodnicy, tak zeby para zo¬ stala skondensowana i w ten sposób zwiekszyc podcisnienie wytwarzane przez ezektor.W drugim przypadku, natomiast, najwazniejszym celem jest ogrzanie roztworu po absorpcji za po¬ moca odprowadzanych oparów, z czesciowym lub calkowitym pominieciem wymiennika ciepla. Oczy¬ wiscie w takich warunkach chlodnica zalecana w pierwszym przypadku nie powinna byc stoso¬ wana.Uzycie ezektora zaleca sie wiec równiez w tych przypadkach, gdy pozadane jest, aby goracy roz¬ twór regenerowany dawal strumien oparów w kil¬ ku kolejnych stadiach i aby roztwór po absorpcji mieszal sie z tymi oparami w odpowiednich kolej¬ nych stadiach, jak przedstawiono to na fig. 7.Oczywiscie celem jest tu mozliwie najintensyw¬ niejsze ogrzanie roztworu po absorpcji, powiedzmy do temperatury bliskiej temperaturze goracego roztworu jo regeneracji. Taki efekt jest jednak mozliwy do uzyskania innymi znanymi metodami, jak np. przy uzyciu szeregu ezektorów uzytych w poszczególnych stadiach.Odmiana ta odnosi sie do przypadku, w którym 68 981 10 ezektor zasysa powietrze lub inne gazy i miesza je z ciecza odplywajaca z ezektora, w celu ulepsze¬ nia dzialania obiegu oczyszczania.Ze wszystkich przypadków, w jakich wariant 5 ten moze znalezc zastosowanie, szczególne znacze¬ nie przywiazuje sie do procesów utleniania sto^ sowanych do odsiarczania mieszanin gazowych.Procesy takie, jak wiadomo odnosza sie do schema¬ tu przedstawionego na fig. 4. 10 Ciecz po absorpcji usuwana jest z dolnej czesci absorbera A, który pracuje pod cisnieniem i na¬ stepnie kierowana do komory regeneracyjnej i utle¬ niajacej B, wypelnionej przerabiana -ciecza, do której od dolu wprowadza sie powietrze. Tlen z 15 powietrza oddzialuje na roztwór, utleniajac go i przeprowadzajac zaabsorbowany uprzednio siar¬ kowodór w siarke pierwiastkowa. Siarka ta, jak ogólnie wiadomo, unoszona jest przez strumien powietrza i oddzielana jest w postaci piany zbie- 20 rajacej sie w górnej zwezonej czesci komory utle^ niajacej.Zastosowanie sposobu wedlug wynalazku w od¬ mianie obecnie omawianej wprowadza modyfi¬ kacje takiej instalacji polegajaca na tym, ze ciecz 25 opuszczajaca kolumne absorpcyjna A kierowana jest do ezektora I, który poprzez przewód d za¬ sysa powietrze i wraz z ciecza wprowadza je do dolnej czesci kolumny utleniajacej B.Przyklad 4 stanowi opis omówionej odmiany. 30 Przyklad 1. W konwencjonalnych instalacjach do usuwania dwutlenku wegla z gazu ziemnego przez wymywanie woda, dzialajacych pod cisnie¬ niem 45 ata. Wode opuszczajaca kolumne absorp- 35 cyjna kierowano do komory rozprezania, gdzie rozpreza sie do cisnienia atmosferycznego, co po¬ woduje wydzielenie dwutlenku wegla. Woda kie¬ rowana jest nastepnie na szczyt wiezy wypelnio¬ nej drewnianymi sitami, gdzie przeplywajac w 40 przeciwpradzie do strumienia powietrza ostatecz¬ nie sie regeneruje.Taki konwencjonalny uklad zmodyfikowano przez zastosowanie instalacji przedstawionej na fig. 1. Zgodnie z wykresem (fig. 8) ezektor pra- 4S cujacy pod cisnieniem 45 ata i usuwajacy nie wie¬ cej niz 2 objetosci dwutlenku wegla na 1 objetosc wody wytwarza spadek cisnienia okolo 9,6 co ozna¬ cza, ze w drugiej komorze rozprezania bedzie pa¬ nowalo podcisnienie wynoszace 1/9,6=0,104 ata. 50 W tych warunkach zawartosc dwutlenku wegla pozostajacego w wodzie spada znacznie, tak ze woda moze byc wykorzystana nastepnie do oczysz¬ czania gazowej mieszaniny do zawartosci dwutlen¬ ku wegla rzedu 0,2—0,3%. 55 Istnieje dalsza zaleta tak zmodyfikowanego spo¬ sobu, polegajaca na tym, ze woda cyrkulujaca w instalacji nie zawiera rozpuszczonego tlenku pochodzacego z obróbki absorbenta za pomoca po¬ wietrza. 60 Przyklad 2. Przyklad ten dotyczy zastosowa¬ nia instalacji przedstawionej na fig. Iw odniesie¬ niu do usuwania dwutlenku wegla z gazu odpro¬ wadzanego z instalacji do czesciowego spalania. tó Gaz taki zawiera 31% dwutlenku wegla i znajduje68 981 li 12 sie pod cisnieniem 100 ata. Przyklad dotyczy zwlasz¬ cza przypadku, w którym cieplo potrzebne do oczyszczania dostarcza sie w etapie absorpcji z oczyszczanym gazem. Gaz ten dostarcza sie w do¬ statecznie wysokiej temperaturze i roztwór ogrza¬ ny podczas absorpcji do temperatury 150°C, roz¬ preza sie nastepnie do cisnienia atmosferycznego, usuwajac zawarty dwutlenek wegla i wykorzy¬ stujac zawarte w roztworze cieplo.Roztwór po absorpcji odprowadza sie z dolu ko¬ lumny absorpcyjnej w temperaturze 150°C, jak we wspomnianym wczesniej przykladzie. Nastep¬ nie roztwór kieruje sie do ezektora I, gdzie roz¬ preza sie on do cisnienia 1 ata, wytwarzajac pod¬ cisnienie oddzialujace na druga komore roz¬ prezania D. Schemat instalacji i szczególy omówio¬ no wczesniej przy opisywaniu fig. 1.Podcisnienie wytworzone przez ezektor w komo¬ rze D jest wystarczajace, aby roztwór zostal schlo¬ dzony do temperatury 95°C, co stanowi te zalete, iz roztwór jest zawracany na szczyt kolumny ab¬ sorpcyjnej bez koniecznosci stosowania chlodnicy posredniej.Jednoczesnie roztwór wydziela odpowiednie ilosci dwutlenku wegla, tak ze jego stopien karbonacji spada do 2%. Poprawia to znacznie oczyszczanie gazu. Jezeli chce sie zachowac dotychczas uzyski¬ wane uzyskiwanie gazu, wówczas mozna osiagnac znaczne zmniejszenie ilosci ciepla dostarczanego do podgrzewacza.Przyklad 3. Ten przyklad dotyczy usuwania dwutlenku wegla z mieszaniny gazowej o cisnieniu 18,5 ata i poczatkowej zawartosci dwutlenku wegla 20,5%, stosujac roztwór arseninu potasowego (200 g/l K20 i 140 g/l Asga,).Zgodnie z fig. 6 roztwór odprowadza sie z dolu kolumny obsorpcyjnej w temperaturze 98°C i przy stopniu karbonacji wynoszacym 62%. Roztwór kie¬ rowany jest bezposrednio do ezektora I, gdzie wy¬ twarza on podcisnienie oddzialujace na komore D, której dzialanie omówione zostanie ponizej.Nastepnie roztwór podaje sie do kolumny rege¬ neracyjnej R. Zauwazyc nalezy, ze w tym szczegól¬ nym przypadku nie ma koniecznosci stosowania komory mieszania E, gdyz nie ma potrzeby ogrze¬ wania roztworu po absorpcji cieplem odprowadzo¬ nym z regenerowanego roztworu.W kolumnie roztwór zostaje zregenerowany do stopnia karbonacji 29%, przez dostarczenie 23 kg pary na 1 m8 roztworu. Na dole kolumny roztwór ma temperature 102°C, co odpowiada panujacemu tam cisnieniu 1,2 ata. Nastepnie roztwór kieruje sie do komory D (nalezy tu zaznaczyc, ze pierwsza komora rozprezania nie jest konieczna).Roztwór w komorze D podlega dzialaniu podcis¬ nienia wytworzonego przez ezektor i wydziela stru¬ mien pary i dwutlenku wegla, przy czym jego stopien karbonacji spada do wartosci 19% i jedno¬ czesnie nastepuje ochlodzenie roztworu do tempe¬ ratury 88°C.Strumien pary i dwutlenku wegla jest nastepnie — przed wejsciem do ezektora — chlodzony w chlodnicy zaznaczonej linia przerywana na rysun¬ ku, co powoduje kondensacje pary i zwiekszenie podcisnienia wytwarzanego przez ezektor. Stwier¬ dzono doswiadczalnie, ze w omawianych warun¬ kach ezektor daje podcisnienie 0,63 ata.Ciecz odbierana z komory D w temperaturze 5 88°C jest w tej temperaturze kierowana na szczyt kolumny absorpcyjnej A gdzie oczyszcza gaz do zawartosci dwutlenku wegla 0,90%. Splywajac w dól kolumny absorpcyjnej roztwór ogrzewa sie do temperatury 98°C i absorbuje 20,5 objetosci dwu- 10 tlenku wegla na 1 objetosc roztworu. Nalezy tu dodac, ze ilosc ciepla dostarczana do ogrzewacza kolumny regeneracyjnej R wynosi 640 kcal/l Nml usunietego dwutlenku wegla. 1? Przyklad 4. Przyklad ten dotyczy usuwania siarkowodoru z gazu zawierajacego 10 g siarkowo¬ doru na 1 m* oraz 3% dwutlenku wegla i znajduja¬ cego sie pod cisnieniem 25 ata.Jako absorbent stosuje sie roztwór zawierajacy 20 okolo 2% weglanu sodowego. Absorpcja zachodzi w pólkowej kolumnie absorpcyjnej pracujacej w temperaturze 35—40°C.Obieg oczyszczania przedstawiono schematycznie na fig. 2, gdzie przyjmuje sie, ze absorbent zostaje 25 calkowicie zregenerowany na drodze wrzenia w ko¬ lumnie regeneracyjnej D.Roztwór absorbujacy opuszczajacy kolumne prze¬ chodzi przez ezektor I, wytwarzajac podcisnienie przenoszone do komory regeneracyjnej D, a na- 30 stepnie kierowany jest do komory oddzielania B, w której zanieczyszczenia gazowe oddziela sie od cieczy i odprowadza na zewnatrz. Ciecz odprowa¬ dza sie z komory B poprzez przewód v i poddaje ogrzewaniu w wymienniku ciepla H cieplem roz- 35 tworu opuszczajacego kolumne regeneracyjna D poprzez przewód z. Ciecz kieruje sie nastepnie do glowicy kolumny regeneracyjnej D, na dnie której doprowadza sie ja do wrzenia przez dostarczenie ciepla z zewnatrz za posrednictwem podgrzewacza 40 F. Ilosc dostarczonego ciepla wynosi okolo 60 kg pary na 1 m8 roztworu. Gazowe zanieczyszczenia usuwane w kolumnie wyciagane sa przez ezektor I, tak ze cisnienie w kolumnie wynosi 625 mm Hg.Zregenerowany roztwór zawraca sie do kolumny 45 absorpcyjnej za pomoca pompy.Przyklad 5. Instalacja do odsiarczania gazu ziemnego, dzialajaca pod cisnieniem 45 ata jest zbudowana w sposób podobny do przedstawionej 50 na fig. 4. W instalacji tej stosuje sie roztwór arseninowo-arsenianowy. Roztwór ten odprowadza sie z dolu kolumny absorpcyjnej, gdzie panuja wa¬ runki umozliwiajace absorpcje 1 kg siarkowodoru na 1 m8 roztworu. 55 Zuzycie powietrza sluzacego do utleniania, takie¬ go jak opisany roztwór arseninowo-arsenianowy, wynosi jak wiadomo okolo 5,0 m8 na 1 kg siar¬ kowodoru, co w tym przypadku wynosi 5,0 m8 po¬ wietrza na 1 m8 roztworu. 60 Zgodnie z wykresem (fig. 8) te ilosc powietrza mozna zassac za pomoca ezektora przy uzyciu 1 m8 roztworu wprowadzanego do ezektora pod cisnie¬ niem 45 ata, co daje stosunek cisnien, przed i za ezektorem okolo 3:1. 65 Tak wiec, komora utleniania wypelniona jest cie-13 68 981 14 cza do wysokosci 20 m, jak sie to zwykle stosuje w praktyce przemyslowej, wówczas cala niezbedna do utleniania siarkowodoru do siarki pierwiastko¬ wej ilosc powietrza dostarczana jest bez zadnych kosztów za pomoca ezektora. PL

Claims (9)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób usuwania i odzyskiwania gazowych zanieczyszczen z mieszanin gazowych zawierajacych te zanieczyszczenia, przy pomocy cieczy absorbuja¬ cych przez uklad absorpcyjny pod cisnieniem, w którym ciecz absorbujaca wchodzi w dokladny i bezposredni kontakt z mieszanina gazowa w celu usuniecia zawartych w niej zanieczyszczen gazo¬ wych, oraz przez uklad regeneracyjny pracujacy, zasadniczo pod nizszym cisnieniem niz uklad ab¬ sorpcyjny, przy czym w ukladzie regeneracyjnym ciecz jest regenerowana przez wydzielenie lub przereagowanie zaabsorbowanych zanieczyszczen, znamienny tym, ze ciecz odplywajaca pod cisnie¬ niem z etapu absorpcji przechodzi przez ezektor, gdzie sie rozpreza i wytwarza spadek cisnienia wykorzystywany nastepnie do usuwania zaabsorbo¬ wanych zanieczyszczen gazowych.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze wytworzony przez ezektor spadek cisnienia wy¬ korzystuje sie w dzialaniu na ciecz opuszczajaca ezektor, umozliwiajac jej dalsze rozprezanie sie, dzieki czemu usuwa sie z cieczy dalsze ilosci za¬ wartych w niej zanieczyszczen gazowych.
  3. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, znamienny tym, ze ciecz opuszczajaca ezektor podgrzewa sie przed poddaniem jej dzialaniu podcisnienia wytworzone¬ go przez ezektor.
  4. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, 2 i 3, znamienny tym, ze ciecz opuszczajaca ezektor poddaje sie ogrzewa¬ niu do wrzenia przed poddaniem jej dzialaniu pod¬ cisnienia wytworzonego przez ezektor.
  5. 5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze podcisnienie wytworzone przez ezektor oddzialu- 5 je na ciecz opuszczajaca etap regeneracji.
  6. 6. Sposób wedlug zastrz v 1 i 5, znamienny tym, ze regeneracje przeprowadza sie na drodze wrzenia cieczy pod wplywem dostarczonego z zewnatrz ciepla, przy czym wydziela sie para cieczy zawie- 10 rajaca usuwane zanieczyszczenia, zas ciecz wrzaca lub goraca poddaje sie dzialaniu podcisnienia wy¬ tworzonego przez ezektor, w wyniku czego wydzie¬ la sie z niej strumien oparów zawierajacy dalsze ilosci zanieczyszczen, co doprowadza do konca pro- 15 ces regeneracji, przy czym odprowadzone w ten sposób opary wprowadza sie w bezposredni kon¬ takt z ciecza po absorpcji wykorzystywana w ezek- torze, dzieki czemu zostaje ona ogrzana przed wprowadzaniem do etapu regeneracji. 20
  7. 7. Sposób wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze strumien odprowadzanych oparów i zanieczyszczen poddaje sie chlodzeniu w celu wykondensowania pary, a nastepnie kieruje sie do ezektora.
  8. 8. Sposób wedlug zastrz. 1, 5 i 6, znamienny tym, 25 ze podcisnienie wytwarzane przez ezektor oddzia¬ luje na goracy luib wrzacy roztwór po regene¬ racji odciagajac z niej strumien oparów i zanie¬ czyszczen w kolejnych stadiach i opary te poddaje sie bezposredniemu kontaktowaniu z ciecza po ab- 3i sorpcji wykorzystywana w ezektorze, przy czym kontaktowanie to odbywa sie w odpowiednich ko¬ lejnych stadiach.
  9. 9. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze podcisnienie wytwarzane przez ezektor wykorzystu- 35 je sie do zasysania powietrza lub innych gazów i do wywolania przeplywu tych gazów przez etap regeneracji celem usuniecia lub przereagowania zanieczyszczen zaabsorbowanych uprzednio w cie¬ czy. Fig.1 r^\ m iKI. 12i,31/20 68 981 MKP COlb 31/20 Fig. 3 / \ m D^ 5" Fig.4 Fig. 5 JZ*~ ERRATA Lam 5, wiersz 16 jest: pod cisnieniem powinno byc: do cisnienia Lam 12, wiersz 29 jest: komory regeneracyjnej D, powinno byc: kolumny regeneracyjnej D, Fig. 8 k ps^ \— <0°] SA' p5 -¦ ^ ^ 4 \ ^ " 6 7 8 2 1 3 Bltk 2003/74 r. nakl. 105 egz. A4 Cena 10 zl PL
PL1969136276A 1969-10-11 1969-10-11 PL68981B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL1969136276A PL68981B1 (pl) 1969-10-11 1969-10-11

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL1969136276A PL68981B1 (pl) 1969-10-11 1969-10-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL68981B1 true PL68981B1 (pl) 1973-02-28

Family

ID=19950908

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1969136276A PL68981B1 (pl) 1969-10-11 1969-10-11

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL68981B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3659401A (en) Gas purification process
CA1068473A (en) Regeneration of absorbent solutions used for removing gaseous acid impurities from gaseous mixtures
CN111203086B (zh) 一种低再生能耗和低污染物排放的co2捕集系统
US3944650A (en) Process for removing oxides of sulfur, dust and mist from combustion waste gas
CN104519979B (zh) 排出气体中污染物的再生回收
US4146569A (en) Process for removing gaseous impurities from a gaseous mixture containing the same
CN110621389A (zh) 通过二氧化硫选择性膜技术以及二氧化硫选择性吸收技术优化克劳斯尾气处理
US9573093B2 (en) Heat recovery in absorption and desorption processes
US3638708A (en) Methods of multiple stage evaporation from heat sources other than steam
US4294590A (en) Removal of undesired gaseous components from hot waste gases
CN105944499B (zh) 一种变温吸附脱除工业尾气中二氧化硫的方法
CN106310943B (zh) 一种亚硫酸钠脱硫液再生及回收二氧化硫装置与应用
KR870000915B1 (ko) 용융알카리금속염과 조절된 온도팽창에 의한 산소 제조방법
US3671185A (en) Purification of waste gases
US4299801A (en) Regenerating alkanolamine desulfurizer solutions
US3656275A (en) Process for the removal and concentration of a component gas from a multi-gaseous stream
US4659553A (en) Process for removal of undesirable gaseous components from hot flue gases
CN109943375A (zh) 一种用于含硫天然气单井脱硫制酸的装置及其工艺
CN221182243U (zh) 一种富液分流耦合级间冷却的低能耗碳捕集系统
CN111747382B (zh) 一种利用烷基化废酸回收装置进行稀酸提浓回收利用的方法及系统
PL68981B1 (pl)
EP0189285A2 (en) Generation of sulphur trioxide from oleum
US3687630A (en) Gas cleaning process
US3271110A (en) Method of producing hydrogen
US2994588A (en) Process for production of sulphur from sour gas