PL66841B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL66841B1
PL66841B1 PL139402A PL13940270A PL66841B1 PL 66841 B1 PL66841 B1 PL 66841B1 PL 139402 A PL139402 A PL 139402A PL 13940270 A PL13940270 A PL 13940270A PL 66841 B1 PL66841 B1 PL 66841B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
furnace
hydrogen
hydrocarbon
bodies
tube
Prior art date
Application number
PL139402A
Other languages
English (en)
Inventor
Riedl Wladyslaw
Koszur Jan
Original Assignee
Instytut Tele I Radiotechniczny
Filing date
Publication date
Application filed by Instytut Tele I Radiotechniczny filed Critical Instytut Tele I Radiotechniczny
Publication of PL66841B1 publication Critical patent/PL66841B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 20.XH.1972 66841 KI. 21c,54/05 MKP HOlc 7/02 UKD ; -**i 'wfizoo Wspóltwórcy wynalazku: Wladyslaw Riedl, Jan Koszur Wlasciciel patentu: Instytut Tele- i Radiotechniczny, Warszawa (Polska) Sposób naweglania korpusów ceramicznych przy wytwarzaniu warstwowych oporników weglowych Przedmiotem wynalazku jest sposób naweglania kor¬ pusów ceramicznych przy wytwarzaniu warstwowych oporników weglowych.Znany jest powszechnie sposób naweglania korpusów ceramicznych przy wytwarzaniu warstwowych oporni¬ ków weglowych polegajacy na tym, ze do ogrzanej do temperatury 900—1100°C ceramicznej rury pieca, za¬ wierajacej korpusy ceramiczne, wprowadza sie pare weglowodoru, który ulegajac pirolizie wytwarza na po¬ wierzchni korpusów warstwe wegla pirolitycznego. Pro¬ dukty gazowe pirolizy sa przez caly czas odpompowy¬ wane z pieca razem z nieprzereagowanym weglowodo¬ rem. W celu uzyskania równomiernosci naweglania w róznych urzadzeniach stosuje rózne sposoby wprawia¬ nia w ruch naweglanych korpusów. Pierwszy polega na obrocie rury pieca co pewien czas tam i z powrotem ruchem wahadlowym o 90^-120° tj. o tyle na ile pozwa¬ laja elastyczne przewody doprowadzajace weglowodór, drugi na ciaglym obrocie rury pieca, trzeci na perio¬ dycznym ruchu calego pieca wokól osi prostopadlej do rury.Wada pierwszego sposobu jest to, ze korpusy' lezace bezposrednio na wewnetrznej powierzchni rury nie zmieniaja podczas jej ruchu swego polozenia wzgledem rury i wzgledem siebie, a cale mieszanie jest niedosta¬ teczne, tak ze naweglanie nie odbywa sie równomiernie.W rezultacie otrzymuje sie rozrzut opornosci z jednego wypelnienia pieca (stosunek miedzy najmniejsza i naj¬ wieksza opornoscia) 1 : 2 do 1:3. Towarzysza temu równiez nierównorniemosci grubosci warstwy na obwo- 10 15 20 25 30 dzie pojedynczych korpusów, które po spiralnym na¬ cieciu obnizaja znacznie niezawodnosc gotowych opor¬ ników. Wada drugiego sposobu jest wystepowanie nie- równomiernosci wzdluz wsadu zgodnie z kierunkiem przeplywu gazów, wskutek spadku stezenia weglowodo¬ ru. Wada trzeciego sposobu jest stosowanie ruchu pe¬ riodycznego oraz przesuwanie sie korpusów do stref pieca w których wystepuja rózne temperatury. Wspólna wada wymienionych sposobów jest niedokladne dozo¬ wanie weglowodoru wsysanego najczesciej do komory pieca, w której panuje próznia, z zamknietego naczynia przez kapilare. Powoduje to zla odtwarzadlnosc opor¬ nosci uzyskanej w poszczególnych szarzach naweglania.Celem wynalazku jest usuniecie wad w dotychczaso¬ wych sposobach do naweglania korpusów ceramicznych.Istota wynalazku jest polaczenie ciaglego ruchu obro¬ towego rury pieca z naweglaniem w obecnosci duzego nadmiaru wodoru.Wodór hamuje szybkosc pirolizy weglowodoru i tym samym nie dopuszcza do powstania znacznych róznic grubosci warstwy wzdluz osi rury pieca, dzieki czemu ruch obrotowy który nie wystarcza do uzyskania dobrej równomiernosci bez wodoru, w obecnosci wodoru rów¬ nomiernosc te zapewnia. Dodatkowa korzysc stanowi przy tym dozowanie, polegajace na nasyceniu wodoru weglowodorem i wprowadzeniu mieszaniny do wnetrza rury pieca. Poniewaz objetosc wodoru w mieszaninie jest okolo jeden rzad wieksza niz pary weglowodoru, pomiar i dozowanie jest równiez o rzad dokladniejsze.W ten sposób zostaja usuniete równiez wady dozowania 6684166841 wystepujace przy uzyciu kapilary. Dzieki ruchdwi obro¬ towemu rury pieca w jednym kierunku,, kazdy korpus w przekroju poprzecznym rury znajduje sie przez mniej wiecej taki sam okres czasu w kazdym polozeniu i na- weglanie w tym przekroju odbywa sie równomiernie; równomiernosc w kierunku zgodnym z osia rury za¬ pewnia natomiast zastosowanie wodoru, który poprawia jednoczesnie strukture warstwy. Poniewaz rura pieca musi byc szczelna, obrót rury umozliwiono przez zasto¬ sowanie kryz zamykajacych z próznio szczelnymi prze¬ pustami obrotowymi. Wprowadzenie gazowego - czynni¬ ka naweglajacego odbywa sie po osi rury przez nieru¬ choma rurke wpuszczona przez przepust obrotowy.Przedmiot wynalazku zostanie blizej wyjasniony na podstawie rysunku, na którym* fig. 1 przedstawia kryze zamykajaca z próznioszczelnym przepustem obrotowym i nieruchoma rurka (6) wpuszczona do rury pieca przez przepust obrotowy, a fig. 2 przedstawia schemat apara¬ tury do nanoszenia pirolitycznych warstw weglowych.Na rysunku tym 1 oznacza zawór redukcyjny, 2 i 4 — zawory iglicowe, 5 — zawór odlotowy, Ml — manometr rteciowy, M2 — manometr rteciowy, a M3 — mikro- manometr.Czesc strumienia wodoru, plynacegoi z butli stalowej, zaopatrzonej w zawór redukcyjny 1 uchodzi do palnika, druga czesc mierzy sie za pomoca rotametru 8 pod ci¬ snieniem atmosferycznym, kontrolowanym otwartym ' manometrem rteciowym Ml. Przeplyw reguluje sie za pomoca zaworu iglicowego 2.Cisnienie za tym zaworem kontroluje sie za pomoca manometru rteciowego M2. Termostatowany dozownik 3 stanowi naczynie zamkniete napelnione cieklym lotnym 10 15 20 25 30 weglowodorem np. toluenem, ksylenem lub heptanem, przez który przechodzi pecherzykami gazowy wodór nasycajac sie. Konstrukcje tego elementu sa znane i opi¬ sane w literaturze. Szybkosc dozowania do pieca 7 wo¬ doru nasyconego weglowodorem reguluje sie za pomoca zaworu 4, a cisnienie w piecu kontroluje za pomoca mikromanometru M3. Do ogrzewania rury zawierajacej korpusy ceramiczne stosuje sie elektryczny piec rurowy, lub rurowy element grzejny z automatyczna regulacja temperatury o znanej konstrukcji. Gazowe produkty pi¬ rolizy wraz z nieprzereagowanymi gazami odsysa sie przez przepust obrotowy i zawór odlotowy 5 za pomo¬ ca rotacyjnej pompy prózniowej.Zaleznie od pozadanej opornosci naweglonego korpu¬ su parametry procesu reguluje sie w nastepujacych gra¬ nicach: przeplyw wodoru 0,5—3 l/min., cisnienie w do¬ zowniku 100—200 Tr, cisnienie w rurze pieca 4—10 Tr, temperature pieca 900—1050°C, czas naweglania 10—30 min.Stosujac sposób wedlug wynalazku mozna poprawic stosunek najmniejszej do najwiekszej opornosci korpu¬ sów z jednej szarzy do 1 : 1,2 oraz uzyskac powtarzal¬ nosc wyników róznych szarz w granicach ±10%. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób naweglania korpusów ceramicznych przy wy¬ twarzaniu warstwowych oporników weglowych, znamien¬ ny tym, ze naweglanie odbywa sie za pomoca mieszani¬ ny weglowodoru z wodorem znajdujacym sie w nadmia¬ rze stechiometrycznym podczas ruchu korpusów cera¬ micznych. fyt jL+&£e3 Y-*+c5$—& t^^-^- Fi WDA-l. Zam. 4586, naklad 195 egz. Cena zl 10,— PL
PL139402A 1970-03-14 PL66841B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL66841B1 true PL66841B1 (pl) 1972-08-31

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Porz et al. Oxidation mechanism of porous silicon nitride
US3565676A (en) Chemical vapor deposition method
US4701290A (en) Process for preparing fluoridated surfaces of polymers
Wilson et al. Tungsten atomic layer deposition on polymers
L'vov et al. A macrokinetic theory of sample vaporization in electrothermal atomic absorption spectrometry
Melmed Surface Self‐Diffusion of Nickel and Platinum
Miyao et al. Preparation and characterization of alumina-supported molybdenum carbide
US4108693A (en) Method for the heat-treatment of steel and for the control of said treatment
PL66841B1 (pl)
JPS6111319B2 (pl)
Monteverde et al. Corrosion of silicon nitride in sulphuric acid aqueous solution
Linsebigler et al. Interaction of chlorine with iron (110) in the temperature range 90-1050 K
Griffiths et al. Effect of oxidation on the surface heterogeneity of some graphitized carbons
Matousek et al. Halogen assisted volatilization in electrothermal atomic absorption spectroscopy: reduction of memory effects from refractory carbides
JPS61229319A (ja) 薄膜形成方法
Hoertel Effect of certain process variables on vapor deposited tungsten
Lunn et al. Growth of diamond films on spherical surfaces by hot filament CVD
US2392267A (en) Nitriding apparatus
Papasouliotis et al. Steady‐State Multiplicity Phenomena in the Deposition of Silicon Carbide
US1137293A (en) Hardening apparatus.
Cao et al. Development of a scanning probe microscopy integrated atomic layer deposition system for in situ successive monitoring of thin film growth
RU2051097C1 (ru) Способ активации карбонизированных материалов
JPS59185772A (ja) 高融点金属化合物における蒸発ガスの流量制御装置
CN216337944U (zh) 一种纳米薄膜制备设备
CA1195592A (en) Carburizing process utilizing atmosphere generated from nitrogen ethanol based mixtures