Pierwszenstwo: Opublikowano: 21.Vm.1968 (P 128 710) 20.VH.1972 65539 KI. 40cl/06 MKP C 22 d, 1/06 ¦'I A UWKP HM ¦¦¦" ¦' Twórca wynalazku: Andrzej Ocetkiewicz Wlasciciel patentu: Huta Aluminium, Skawina (Polska) Elektrochemiczny sposób otrzymywania indu wysokiej czystosci Przedmiotem wynalazku jest elektrochemiczny sposób otrzymywania indu wysokiej czystosci (99,999%) z indu technicznego, z koncentratu indowego, lub ze stopów indowych, pochodzacych z odpadów w przemysle elek¬ tronicznym.Znany sposób otrzymywania indu wysokiej czystosci polegajacy na wielostopniowej elektrolizie amalgamo- wej jest malo wydajny, kosztowny i trudny technicznie, a stosowanie rteci w procesie technologicznym jest szkodliwe dla zdrowia pracowników. Inny sposób otrzy¬ mywania indu przez elektrorafinacje polega na zastoso¬ waniu rozpuszczalnej anody z indu technicznego i roz¬ tworów wodnych soli kompleksowych jako elektrolitu, jest malo wydajny, ze wzgledu na male gestosci pradu i czeste wymiany elektrolitu.Celem wynalazku jest ulatwienie technologii otrzymy¬ wania indu i wyeliminowanie stosowania rteci szkodli¬ wej dla zdrowia.Sposób otrzymywania indu wysokiej czystosci (99,999%) wedlug wynalazku, charakteryzuje sie tym, ze wsad indowy (ind techniczny, koncentrat indowy, sto¬ py indu) rozpuszcza sie, w kwasie solnym a otrzymany roztwór po zdekantowaniu zobojetnia sie amoniakiem a nastepnie dwukrotnie cementuje indem wysokiej czysto¬ sci w postaci gabczatej, po czym z oczyszczonego roz¬ tworu otrzymuje sie przez elektrolize ind metaliczny.Otrzymany na katodzie ind wygrzewa sie w prózni ca 0,1 mTr przy temperaturze powyzej 1000°C, dla usunie¬ cia metali o nizszej temperaturze wrzenia.Sposób otrzymywania indu 99,999% wedlug wynalaz¬ lo 15 20 25 30 ku jest prosty i ekonomiczny — nadaje sie do wykorzy¬ stania w skali przemyslowej stosownie do potrzeb przy uzyciu prostych i niedrogich urzadzen i zapewnia lepsze warunki zdrowotne niz przy metodach amalgamato¬ wych. Sposób ten umozliwia stosowanie i wykorzystanie surowców o róznej zawartosci indu i zanieczyszczen.Przyklad elektrochemicznego sposobu otrzymywania indu wysokiej czystosci jest nastepujacy: wsad indowy rozpuszcza sie w kwasie solnym 12 n, a otrzymany roz¬ twór chlorku indu dekantuje sie a nastepnie zobojetnia sie amoniakiem do pH 1 i poddaje cementacji na ply¬ tach indu 99,99%, a nastepnie na dendrytach indu 99,999%.Oczyszczony roztwór poddaje sie elektrolizie na elek¬ trodach weglowych przy malej gestosci pradu. Otrzyma¬ ny na katodzie ind metaliczny wygrzewa sie w prózni 0,1 mTr w temperaturze 1100°C. PLPriority: Published: 21.Vm.1968 (P 128 710) 20.VH.1972 65539 IC. 40cl / 06 MKP C 22 d, 1/06 ¦'IA UWKP HM ¦¦¦ "¦ 'Inventor: Andrzej Ocetkiewicz Patent owner: Huta Aluminum, Skawina (Poland) Electrochemical method of obtaining high purity indium The subject of the invention is an electrochemical method of obtaining indium high purity (99.999%) from technical indium, from indium concentrate, or from indium alloys derived from waste in the electronics industry. The well-known method of obtaining high-purity indium based on multi-stage amalgam electrolysis is inefficient, expensive and technically difficult, and the use of mercury in the technological process is detrimental to the health of workers. Another method of obtaining indium by electrorefining is to use a soluble anode from technical indium and aqueous solutions of complex salts as electrolyte, it is inefficient due to the low current density. and frequent electrolyte changes. The aim of the invention is to facilitate and eliminate indium production technology The method of obtaining high purity indium (99.999%) according to the invention is characterized by the fact that the indium charge (technical indium, indium concentrate, indium alloys) is dissolved in hydrochloric acid and the resulting solution After decanting, it is neutralized with ammonia and then twice cemented with high-purity indium in a spongy form, and then the purified solution is obtained by electrolysis of metallic indium. The indium obtained on the cathode is heated in a vacuum of 0.1 mTr at a temperature above 1000 ° C to remove metals with lower boiling point. The method of obtaining indium 99.999% according to the invention is simple and economical - it is suitable for use on an industrial scale as required using simple and inexpensive equipment and provides better health conditions than with amalgam methods. This method enables the use and utilization of raw materials with various indium contents and impurities. An example of an electrochemical method of obtaining high-purity indium is as follows: the indium charge is dissolved in 12n hydrochloric acid, and the obtained indium chloride solution is decanted and then neutralized with ammonia to pH 1 and cemented on indium plates of 99.99%, and then on indium dendrites of 99.999%. The purified solution is electrolysed on carbon electrodes at low current density. The indium metal obtained on the cathode is annealed in a vacuum of 0.1 mTr at a temperature of 1100 ° C. PL