PL62850B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL62850B1 PL62850B1 PL137015A PL13701569A PL62850B1 PL 62850 B1 PL62850 B1 PL 62850B1 PL 137015 A PL137015 A PL 137015A PL 13701569 A PL13701569 A PL 13701569A PL 62850 B1 PL62850 B1 PL 62850B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- conductor
- sputtering
- circuit
- vacuum chamber
- vacuum
- Prior art date
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 23
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 claims 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 4
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 4
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
Description
Pierwszenstwo: Opublikowano: 5.Y.1971 62850 KI. 48 b, 13/00 MKP C 23 c, 13/00 URD 621.793.1 Wspóltwórcy wynalazku: Czeslaw Bobrowski, Marian Bobrowski Wlasciciel patentu: Akademia Górniczo-Hutnicza (Instytut Techniki Jadrowej), Kraków (Polska) Sposób napylania dowolnych powierzchni zwlaszcza cylindrycznych tarcz generatorów neutronów oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu Przedmiotem wynalazku jest sposób napylania dowolnych powierzchni zwlaszcza cylindrycznych tarcz generatorów neutronów oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu, które znajduje zastoso¬ wanie do wytwarzania pólprzewodnikowych de¬ tektorów promieniowania jadrowego, diod, tranzy¬ storów i innych.Znane dotychczas sposoby napylania, zwlaszcza tarcz sluzacych do generatorów neutronów, pole¬ gaja na rozpylaniu katodowym lub naparowywa¬ niu.Sposób napylania za pomoca rozpylenia katodo¬ wego wykorzystuje zjawisko rozpylenia katody w wyniku bombardowania jej jonami gazów, znajdu¬ jacych sie w komorze prózniowej. Umieszczajac napylana tarcze w obszarze silnego wyladowania jarzeniowego, uzyskuje sie pokrycie jej cienka warstwa metalu, z którego zrobiona jest katoda.Niedogodnoscia tego sposobu jest koniecznosc stosowania gazów szlachetnych o duzej czystosci i dosc wysokim cisnieniu, wynoszacym okolo 10-2 Tr, co pociaga za soba wzrost kosztów eksplo¬ atacji. Minimalne nawet domieszki gazów che¬ micznie aktywnych powoduja bowiem powazne za¬ nieczyszczenie napylanej warstwy.Sposób napylania tarcz przez naparowanie pole¬ ga na ogrzewaniu substancji umieszczonej w pa¬ rowniku, na przyklad w postaci lódeczki, w prózni, -do temperatury, umozliwiajacej swobodne parowa¬ nie tej substancji. Czasteczki par kondensujac sie 10 15 20 30 na powierzchni tarczy tworza na niej cienka war¬ stwe. Wada tego sposobu jest silne zanieczyszcze¬ nie napylonej warstwy gazami resztkowymi, znaj¬ dujacymi sie w komorze prózniowej, a takze wy- sokotopliwymi substancjami, pochodzacymi z ma¬ terialu parownika.Znany jest równiez sposób napylania, w którym male porcje substancji umieszcza sie w tyglu, o duzej pojemnosci cieplnej, ogrzanym do tempera¬ tury wyzszej od temperatury wrzenia tej substan¬ cji. Substancja ulega w bardzo krótkim czasie, wy¬ noszacym od kilku dziesietnych sekundy do kilku sekund, stopieniu, wrzeniu i parowaniu, w wyniku czego nastepuje osadzenie sie par na napylanym przedmiocie.Sposób ten wykazuje podobne wady, jak po¬ przednio opisane, a wiec przede wszystkim zanie¬ czyszczenie warstwy napylnej, pochodzacej od ma¬ terialu tygla.Celem wynalazku jest uzyskanie napylonej war¬ stwy bez zanieczyszczen innymi substancjami.Cel ten realizuje sposób napylania dowolnej po¬ wierzchni, zwlaszcza cylindrycznych tarcz genera¬ torów neutronów, wedlug wynalazku, który polega na gwaltownym wyparowaniu w prózni, substancji stalej, bedacej przewodnikiem lub pólprzewodni¬ kiem, w wyniku krótkotrwalego impulsu pradowe¬ go o duzym natezeniu.W zaleznosci ód ksztaltu napylanej powierzchni umieszcza sie odpowiednio przewodnik lub pól- 62850przewodnik, poddawany rozpyleniu. W przypadku cylindrycznych tarcz generatorów neutronów, ko¬ rzystnym jest umieszczenie przewodnika wspól- srodkowo w tarczy.Do stosowania sposobu wedlug wynalazku sluzy urzadzenie, zawierajace baterie kondensatorów, w obwód której jest wlaczony szeregowo trygatron z ukladem sterujacym oraz przewodnik lub pól¬ przewodnik, umieszczony w komorze prózniowej, przy czym bateria kondensatorów jest zasilana na¬ pieciem stalym ze^zródla wysokiego napiecia, a w celu termicznego odgazowania przewodnika jest podlaczany do niego transformator niskiego na¬ piecia, o plynnie regulowanej przekladni.Urzadzenie do napylania dowolnych powierzchni, zwlaszcza cylindrycznych tarcz, wedlug wynalazku, jest uwidocznione w przykladowym rozwiazaniu na rysunku, który przedstawia jego schemat.Urzadzenie sklada sie z baterii kondensatorów 1, zasilanej zródlem 2 wysokiego napiecia, tworzacej obwód z trygatronem 3 oraz przewodnikiem 4 lub pólprzewodnikiem. Równolegle do przewodnika 4 jest na czas jego odgazowania podlaczany trans¬ formator 5 niskiego napiecia o plynnie regulowa¬ nej przekladni. Trygatron 3 zawiera dwie glówne elektrody 6 i 7 na wysokim i na zerowym poten¬ cjale oraz pomocnicza elektrode 8, polaczona ze sterujacym ukladem 9. Przewodnik 4 jest umiesz¬ czony w prózniowej komorze 10, polaczonej z uk- , ladem prózniowych pomp 11.Jesli napylana powierzchnie stanowi wewnetrzna powierzchnia cylindrycznej tarczy generatora neu¬ tronów, wówczas tarcze 12 umieszcza sie cen- trycznie wokól przewodnika 4, jak to pokazano na rysunku.Napylanie dowolnych powierzchni sposobem wedlug wynalazku odbywa sie nastepujaco: w ko¬ morze 1, z umieszczonym przewodnikiem 4 oraz poddawanym napyleniu przedmiotem na przyklad cylindryczna tarcza 12, które uprzednio dokladnie oczyszczono na drodze chemicznej i termicznej, wytwarza sie próznie, rzedu okolo 10~5 Tr.Równo¬ czesnie do przewodnika 4 podlacza sie transforma¬ tor 5, za pomoca którego przewodnik 4 ulega wy¬ zarzeniu i odgazowaniu. Nastepnie w bardzo krót¬ kim czasie, nieprzekraczajacym kilkunastu mikro¬ sekund, doprowadza sie do przewodnika 4 duze ilosci energii elektrycznej. W tym celu laduje sie baterie kondensatorów 1 ze zródla 2 wysokiego napiecia, wynoszacym od kilku do kilkudziesieciu kilowoltów, po czym ze sterujacego ukladu 9 zo¬ staje podany na trygatron 3 krótkotrwaly impuls napieciowy, powodujacy przeskok iskrowy pomie¬ dzy pomocnicza elektroda 8 a glówna elektroda 7 trygatronu 3, bedacego na zerowym potencjale. Na¬ stepstwem tego jest lukowe zwarcie glównych 4 elektroda i 7, a tym samym zamkniecie obwodu rozladowania baterii kondensatorów 1; • ^ Czasowy przebieg rozladowania baterii konden¬ satorów 1 o charakterze oscylacyjnym lub aperio- 5 dycznym, dostarcza przewodnikowi 4 w bardzo krótkim czasie porcje energii elektrycznej, zamie¬ nionej na energie cieplna, w wyniku której naste¬ puje gwaltowne wyparowanie przewodnika 4. Roz¬ prezajace sie pary osiadaja na otaczajacej go po- io wierzchni napylanej tarczy 12, tworzac na niej warstwe o zadanej grubosci. Grubosc - napylonej warstwy zalezy od masy przewodnika oraz od od¬ leglosci pomiedzy nim, a napylona powierzchnia danego przedmiotu. Ilosc energii, gromadzonej w 15 baterii kondensatorów, potrzebna do gwaltownego wyparowania przewodnika, jest regulowana napie¬ ciem, zasilajacym baterie, w zaleznosci ód warto¬ sci ciepla parowania, charakterystycznego dla da¬ nego rodzaju przewodnika i jego masy. 20 Sposób napylania dowolnych powierzchni, zwla¬ szcza tarcz cylindrycznych generatorów neutro¬ nów, wedlug. wynalazku, zapewnia uzyskanie na¬ pylonej warstwy bez zanieczyszczen, dzieki bardzo krótkiemu czasowi napylania, uniemozliwiajacemu 25 szkodliwe oddzialywanie gazów resztkowych, znaj¬ dujacych sie w komorze. Ponadto do napylania mozna stosowac wszystkie materialy przewodzace prad elektryczny, bedace cialami stalymi, nieza¬ leznie od preznosci ich par. 30 Urzadzenie wedlug wynalazku odznacza sie pro¬ stota konstrukcji, latwoscia obslugi i niewielkim kosztem wykonania. PL PL
Claims (1)
1., zawierajace komore prózniowa, baterie kondensatorów, zródlo wysokiego napiecia, trygat¬ ron i transformator niskiego napiecia, o plynnie regulowanej przekladni, znamienne tym, ze w ob¬ wód baterii kondensatorów (1), zasilanej ze zródla 50 (2) wysokiego napiecia, jest wlaczony szeregowo trygatron (3), ze sterujacym ukladem (9) oraz przewodnik (4) lub pólprzewodnik, umieszczony w prózniowej komorze (10), przy czym w celu ter¬ micznego odgazowania przewodnika (4) do tego 55 obwodu jest podlaczony równolegle do przewodni¬ ka (4), transformator (5) niskiego napiecia.KI. 48 b, 13/00 62850 MKP C 23 c, 13/00 12 to PL PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL62850B1 true PL62850B1 (pl) | 1971-04-30 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4038171A (en) | Supported plasma sputtering apparatus for high deposition rate over large area | |
| US3840748A (en) | Electron and x-ray generator | |
| Wright | Space-charge limited currents in insulating materials | |
| Diab et al. | Effect of successive plasma shots on the dielectric constant of the CdS: Mn thin films exposed to the helium electron beam of plasma focus device | |
| PL62850B1 (pl) | ||
| Howson et al. | Substrate effects from an unbalanced magnetron | |
| JPS57194254A (en) | Cathode for insulator target in rf sputtering | |
| Vizir et al. | Physical Features of the Functioning of a Planar Magnetron Sputter with a Thermally Insulated, Discharge-Heated Target for Boron Coating Deposition | |
| Porada et al. | AC electroluminescence of ZnS: Cu, Cl, Mn thin films in the structure In2O3 (Sn)-ZnS: Cu, Cl, Mn-SiOx-Al | |
| Balasundaram et al. | Structure, dielectric, and AC conduction properties of amorphous germanium thin films | |
| Schmidt | Electrical discharges in high vacuum | |
| Gushenets et al. | Characteristics of a pulsed vacuum arc discharge with pure boron cathode | |
| Sites | Semiconductor applications of thin films deposited by neutralized ion beam sputtering | |
| Rajopadhye et al. | Secondary electron emission of sputtered alumina films | |
| Takagi et al. | Electron-Bombardment Type Simplified Source for High Temperature Operation and the Production of Multiply-Charged Ions Utilizing Beam-Plasma Interactions | |
| JPS55141562A (en) | Metallizing method | |
| Champion | The grid emitting properties of titanium | |
| Shager et al. | Experimental studies on DC axial virtual cathode electric discharge | |
| Yankelevitch et al. | Metal-insulator-metal many-layer systems | |
| SU791182A1 (ru) | Импульсный источник жесткого рентгеновского излучени | |
| Feng-zhi et al. | Superconducting film injected by ions from pulsed energeticdense plasma source | |
| Kusano et al. | Current Development Status of an X-ray Generator for X-ray Fluorescence Analysis on Space Mission | |
| Huang et al. | Study of laser-triggered vacuum switch with a six-gap rod | |
| Qi et al. | Study on thermionic emission of a WY alloy Cathode applied in magnetron | |
| Twiss | On the Generation of Millimetre and Sub-millimetre Radiation |