Przedmiotem wzoru uzytkowego jest urzadzenie do naswietlania emulsji przy procesach fotolitograficznych linii opózniajacych z akustyczna fala powierzchniowa.Znane urzadzenia do naswietlania emulsji przy fotolitografii skladaja sie ze stolika, na którym umieszcza sie material naswietlany i maske, oraz z ukladu naswietlajacego. Zwykle do naswietlania emulsji przy fotolitografii stosuje sie lampy rteciowe wysokocisnieniowe o szerokim spektrum promieniowania ultrafioletowego.Lampy te daja glówne prazki widma rteci o dlugosci fali 356,0 i 253,7 nm. Przyjmuje sie w praktyce, ze zródlo promieniowania jest punktowe. Promieniowanie z lampy, przez odpowiedni uklad optyczny zlozony ze zwierciadla wkleslego i soczewek za szkla kwarcowego, jako kolowa wiazka równolegla kierowane jest na oswietlana powierzchnie, najczesciej równiez o ksztalcie kolowym. Obszar naswietlany jest ograniczony apertura ukladu optycznego. Znaczna czesc promieniowania jest absorbowana przez uklad optyczny. Znane sa rozwiazania, w których dla unikniecia stosowania ukladu optycznego lampe umieszcza sie w znacznej odleglosci (rzedu kilkudziesieciu centymetrów) od obiektu naswietlanego i kieruje sie na obiekt wiazke promieniowania rozbieznego bezposrednio z lampy. Jednak w takich przypadkach natezenie promieniowania na obrzezach obszaru naswietlanego jest mniejsze niz w srodku i dla uzyskania w miare jednorodnego naswietlenia emulsji konieczne jest znaczne odsuniecie lampy od obiektu lub ograniczenie obszaru naswietlania. Przy oddaleniu lampy traci sie znaczna czesc promieniowania i konieczne jest stosowanie dlugich czasów naswietlania.2 Precyzyjne naswietlarki stosowane sa nabgól do naswietlania elementów o ksztalcie okraglym (plytki pólprzewodnikowe). Jednak linie opózniajace posiadaja ksztalt dlugich waskich pasków, wówczas kolowy ksztalt obszaru naswietlanego nie daje optymalnego wykorzystania wiazki swiatla, a czasami uniemozliwia naswietlenie ze wzgledu na za mala srednice obszaru naswietlanego.Rozwiazanie wedlug wzoru ma na celu unikniecie niedogodnosci i ograniczen wynikajacych ze stosowania ukladu optycznego ograniczajacego obszar naswietlania i absorbujacego czesc promieniowania, przy równoczesnym wykorzystaniu znacznej czesci promieniowania pochodzacego z lampy.Urzadzenie do naswietlania emulsji przy procesach fotolitograficznych linii opózniajacych sklada sie ze stolika i ukladu naswietlajacego.Stolik sluzy do umieszczenia naswietlanego przedmiotu, posiada uchwyt do maski fotolitograficznej ze sprezynami mocujacymi i polaczony jest z podstawa za pomoca zawiasów. Nakretka i wkrecony w podstawe slupek dystansowy sluza do utrzymywania go w okreslonym polozeniu. Do podstawy przymocowany jest korpus posiadajacy dwie scianki boczne, w otworach których ulozyskowany jest pret posiadajacy dwa mimosrody znajdujace sie w bocznych sciankach plytki dociskowej podpartej czterema sprezynami spiralnymi prowadzonymi na kolkach. Uklad naswietlajacy sklada sie z niskocisnieniowej lampy rteciowej umieszczonej w oprawie z oslona. Odleglosc lampy od naswietlanego przedmiotu ustalana jest wysokoscia nózek umieszczonych na oprawie lampy.Niskocisnieniowe lampy rteciowe maja ksztalt prostej rury wykonanej ze szkla przepuszczajacego promieniowanie ultrafioletowe. Lampy te emituja glównie promieniowanie o dlugosci fali 253,7 nm. Czasami powierzchnia wewnetrzna rur pokryta jest luminoforem przetwarzajacym daleki ultrafiolet na promieniowanie bliskiego ultrafioletu o zakresie dlugosci fal 320 - 410 nm. Sa to na ogól lampy o malej mocy od kilku do kilkudziesieciu W. Umieszczajac jedna lampe niskocisnieniowa uzyskuje sie obszar równomiernego naswietlania powierzchni o ksztalcie prostokata, którego wymiary ograniczone sa dlugoscia i srednica pojedynczej lampy. Odleglosc lampy od oswietlanego obiektu moze byc niewielka, rzedu pojedynczych centymetrów.Pomimo malej mocy lamp uzyskuje sie krótkie czasy ekspozycji.3 Urzadzenie wedlug wzoru przedstawione jest na rysunku, na którym fig.l stanowi przekrój wzdluzny urzadzenia, a fig.2 stanowi przekrój poprzeczny urzadzenia.Stolik sluzy do umieszczenia naswietlanego przedmiotu 1 i docisniecia go do maski 2 w jednoznacznym polozeniu Posiada on uchwyt maski 3 ze sprezynami mocujacymi 4 polaczony z podstawa 5 za pomoca zawiasów 6 i utrzymywany w okreslonym polozeniu za pomoca nakretki 7 i slupka dystansowego 8 wkreconego w podstawe 5. Do podstawy 5 przymocowany jest korpus 9 posiadajacy dwie boczne scianki 10, w których ulozyskowany jest pret 11 posiadajacy dwa mimosrody 12 znajdujace sie w prostokatnych otworach wykonanych w bocznych sciankach plytki dociskajacej 13. Plytka dociskajaca 13 podparta jest czterema sprezynami spiralnymi 14 prowadzonymi na kolkach.Uklad naswietlajacy posiada niskocisnieniowa lampe rteciowa 15 umieszczona w oprawie 16 z oslona 17. Wysokosc nózek oprawy jest dobrana tak, aby stolik miescil sie pod ukladem naswietlajacym.W celu naswietlenia emulsji nalezy odkrecic nakretke 7 i odchylic uchwyt maski 3. Maske umieszcza sie we wglebieniu uchwytu i mocuje za pomoca sprezyn mocujacych 4. Obracajac pret 11 opuszcza sie plytke dociskajaca 13 i kladzie sie na niej naswietlany przedmiot pokryty emulsja. Nastepnie zamyka sie uchwyt maski 3 opierajac go na slupku dystansowym 8 i dokreca sie nakretke 7. Podnosi sie plytke dociskajaca 13 obracajac pret 11, co powoduje docisniecie naswietlanego przedmiotu 1 do maski 3.Nastepnie stolik umieszcza sie pod ukladem naswietlajacym i prowadzi proces naswietlania.Z-ca DYREKTORA INSTYTUTU d/s BADAWCZO-TraHNICZNYCH mgr inz. AndrzJj^iw^kowski1112 8 8 c PL PL