Pierwszenstwo: Opublikowano: 10.IV.1967 (P 119 935) 18.V.1966 Luksemburg 20.111.1970 59274 KI. 32 b, 17/28 MKP C 03 c .tyj** UKD 666.1.056 Wspóltwórcy wynalazku: inz. Emile Plumat, inz. Pierre Bohain, dr inz.Albert Servais Wlasciciel patentu: Glaverbel, Bruksela (Belgia) Sposób wytwarzania na co najmniej jednej stronie szklanej plyty cienkiej warstwy co najmniej jednego tlenku metalu i urzadzenie do stosowania tego sposobu Wynalazek dotyczy sposobu wytwarzania na co najmniej jednej stronie szklanej plyty cienkiej warstwy tlenku metalu, otrzymanego z soli metalu i naniesionej w postaci organicznego roztworu.Wynalazek dotyczy równiez urzadzenia do stoso¬ wania tego sposobu.Znane sa liczne sposoby wytwarzania na plytach szklanych cienkich warstw tlenków metali przez nanoszenie na plyte roztworu soli metaloorganicz¬ nych i usuwanie rozpuszczalnika. W niektórych znanych procesach nagrzewa sie plyte szklana az do temperatury zblizonej do temperatury mieknie¬ cia szkla. Gdy plyta szklana osiagnela juz te temperature, zanurza sie ja natychmiast w roz¬ tworze alkoholu i kwasu octowego zawierajacym chlorek cynowy. Utrzymuje sie ja tak zanurzona w ciagu kilku sekund, nastepnie wyjmuje i pozwa¬ la ostygnac w powietrzu lub ewentualnie w piecu.Sposoby te daja jednak wyniki niezbyt zadawa¬ lajace z punktu widzenia jednostajnej grubosci cienkiej warstwy otrzymanej ostatecznie. Ponadto metody te sa niedogodne, gdyz wymagaja nagrza¬ nia szkla do wysokiej temperatury przed zanurze¬ niem, jak równiez stosowania obróbki obu stron plyty szklanej, chocby nawet chodzilo o otrzyma¬ nie cienkiej warstwy tylko po jednej stronie.Wedlug innych znanych metod zanurza sie ply¬ te szklana w roztworze soli metalo-organicznych zawartych w zbiorniku z nalozona komora ochron¬ na. Po zanurzeniu wyciaga sie plyte szklana do 10 20 25 30 wnetrza komory ochronnej, a nastepnie usuwa rozpuszczalnik, przenosi plyte szklana na zewnatrz tej komory i wreszcie przystepuje do nagrzewania tak spreparowanej plytki. Wyniki osiagniete przez zastosowanie tych metod sa niezbyt korzystne z punktu widzenia jednostajnosci grubosci warstwy ostatecznej, zwlaszcza z powodu obecnosci* pe¬ wnych plam wyniklych z powodu zlej przyczepnos¬ ci roztworu w niektórych miejscach plytki szkla¬ nej. Poza tym równiez i te sposoby wymagaja ob¬ róbki obu stron plyty nawet w przypadkach, gdy chodzi o wytworzenie cienkiej warstwy tylko po jednej stronie plyty.Wynalazek umozliwia unikniecie opisanych Wad oraz daje szereg innych korzysci. Wedlug wyna¬ lazku, plyte szklana utrzymuje sie w ciagu pew¬ nego czasu*w atmosferze naladowanej parami roz¬ puszczalnika, nastepnie doprowadza sie roztwór do zetkniecia sie z co najmniej jedna ze stron plyty szklanej i wreszcie wytwarza na tej stronie cienka warstwe tlenku metalu, przeprowadzajac zwilzona plyte szklana przez co najmniej jedna inna atmos¬ fere kontrolowana, majaca wyzsza temperature.Wedlug wynalazku mozna znacznie ujednostajnic grubosc cienkiej warstwy tlenku metalu, jezeli proces rozpoczyna sie od poddania szklanej plyty dzialaniu atmosfery naladowanej parami rozpusz¬ czalnika. Wydaje sie, ze ta poprawa jednostajnosci grubosci cienkiej warstwy moze byc przypisana glównie lepszej przyczepnosci roztworu do warstw 5927459274 3 powierzchniowych szklanej plyty nasyconych roz¬ puszczalnikiem. Stwierdzono, ze z powodu tej lep¬ szej przyczepnosci mozna doprowadzic roztwór ten do zetkniecia sie tylko z jedna lub z obiema stro¬ nami plytki, zaleznie od potrzeby, bez koniecznos¬ ci zanurzania plyty. Dotychczas w obu przypad¬ kach zanurzanie bylo uwazane za konieczne dla otrzymania cienkiej warstwy wzglednie regular¬ nej. W przypadku, gdy chodzi o otrzymanie cien¬ kiej warstwy tylko po jednej -stronie plytki szkla¬ nej, to oczywiscie sposób wedlug ""wynalazku jest szczególnie ekonomiczny. Stwierdzono równiez, ze jest korzystniej wzbogacic atmosfere oparami roz¬ puszczalnika az do stanu bliskiego nasycenia, pod¬ czas gdy plytka szklana jest przez nia omywana przed zetknieciem sie z roztworem. W takich wa¬ runkach mozna skrócic czas przebywania szklanej plyty z zachowaniem tych samych korzysci.Korzystne jest regulowanie grubosci cienkiej warstwy tlenku metali, zmieniajac stezenie soli metalu w roztworze organicznym. Ta elastycznosc sposobu wedlug wynalazku stanowi szczególna za¬ lete w odniesieniu do otrzymywania warstw o od¬ powiedniej grubosci w wielu przypadkach, na przyklad przy wytwarzaniu warstw optycznych.Stwierdzono taikze, ze mozna tez resgulowac gru¬ bosc cienkiej warstwy tlenku metali, zmieniajac stezenie par rozpuszczalnika w atmosferze omywa¬ jacej zwilzona plytke szklana. W innych jeszcze przypadkach regulacja grubosci cienkiej warstwy tlenku metali moze byc osiagnieta przez utrzymy¬ wanie atmosfery omywajacej zwilzona plytke szklana w okreslonym stezeniu par rozpuszczal¬ nika i zmieniajac czas przebywania wspomnianej plytki szklanej w tej atmosferze. Korzystne jest doprowadzenie do zetkniecia wymienionego roz¬ tworu z jedna strona plytki szklanej przez nale¬ wanie na nia roztworu. Ten sposób osiagania zet¬ kniecia roztworu z jedna strona plytki szklanej • jest ^szczególnie dogodny wówczas, gdy chodzi o otrzymanie cienkiej warstwy wylacznie po jednej stronie. Ponadto sposób ten mozna dobrze dosto¬ sowac do róznych polozen, które moze zajmowac strona plyty poddawana zabiegowi. Oczywiscie, posród tych polozen najczesciej sa stosowane polo¬ zenia skrajne — pionowe i poziome, a to ze wzgle¬ du na latwosc transportu plyt szklanych.Przedmiotem wynalazku jest równiez urzadzenie do otrzymywania cienkiej warstwy, utworzonej na co najmniej jednej stronie plyty szklanej przez co najmniej jeden tlenek metalu pochodzacy od soli metalu, nalozony w postaci roztworu organiczne¬ go. Zgodnie z wynalazkiem urzadzenie sklada sie z co najmniej jednego organu do powodowania zet¬ kniecia sie roztworu z dana strona szklanej plyty, z co najmniej dwóch komór z atmosfera kontrolo¬ wana, odpowiednio zimna i goraca, z których to komór co najmniej jedna jest przystosowana do gromadzenia par rozpuszczalnika. Poza tym urza¬ dzenie jest wyposazone w srodki do podtrzyma¬ nia i ewentualnego transportu plyty szklanej ko¬ lejno przez kazda z wymienionych komór.Dzieki takiemu urzadzeniu mozna wytwarzac cienka warstwe o bardzo jednostajnej grubosci na jednej lub na obu stronach szklanej plyty. W przy- 4 padku, gdy chodzi o otrzymanie pokrycia tylko na jednej stronie plyty szklanej, urzadzenie wedlug wynalazku jest szczególnie ekonomiczne.W wiekszosci zastosowan urzadzenia wedlug 5 wynalazku jako organ do powodowania stykania sie roztworu z jedna strona plytki szklanej sto¬ suje sie zazwyczaj pochylnie, zraszajaca, umiesz¬ czona równolegle i w malej odleglosci wzgledem tej strony plyty. Ta korzystna postac urzadzenia 10 nadaje sie szczególnie dobrze do instalacji, w któ¬ rych poddaje sie obróbce plyty szklane umieszczo¬ ne w polozeniach skrajnych (pionowe i poziome), wybranych ze wzgledu na latwosc transportu.Przyklady urzadzenia wedlug wynalazku sa 15 uwidocznione na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przekrój pionowy urzadzenia wedlug wynalazku, fig. 2 — czesciowy przekrój pionowy wedlug linii II — II na fig. 1, fig. 3 — przekrój pionowy odmiany urzadzenia wedlug wynalazku, 20 fig. 4 — przekrój pionowy innej odmiany urzadze¬ nia wedlug wynalazku, a fig. 5 — przekrój pio¬ nowy wedlug linii V — V na fig. 4.Na fig. 1 i 2 uwidoczniono urzadzenie majace trzy komory 1, 2 i 3 umieszczone pionowo. Dolna 25 komora 1 jest utworzona przez scianki boczne 4 i 5, scianki podluzne 6 i 7 oraz dno 8. Przez scian¬ ki boczne 4 i 5 oraz przez scianki podluzne 6 i 7 przez ich czesci dolne wzglednie górne, przechodza przewody 9a i 9b, 9c i 9d, lOa i lOb, lOc i lOd, za- 30 opatrzone odpowiednio zaworami lla i llb, lic i lid, 12a i 12b, 12c i 12d, oznaczonymi schema¬ tycznie. Przez dno 8 przechodzi równiez przewód odplywowy 13 z zaworem 14.Dla zamkniecia komory 1 przewidziane sa czte- 35 ry ruchome przegrody 15 miedzy komora 1 i ko¬ mora 2, znajdujaca sie bezposrednio nad komora 1.Na fig. 1 i 2 przegrody ruchome sa przedstawione w postaci juz wysunietej z gniazd 16, przewidzia¬ nych do wycofania ruchomych przegród 15 pod- 40 czas otwierania komory 1.W tym przykladzie wykonania urzadzenia wedlug wynalazku komora 2 jest utworzona przez scianki boczne 17 i 18, rozmieszczone odpowiednio w przedluzeniu scianek bocznych 4 i 5 komory 1. 45 w czesciach dolnych i górnych scianek bocznych 17 i 18 sa umieszczone, jaik w przypadku komory 1, przelwody 19a i 19b, 20a i 20b, wyposazone od¬ powiednio w zawory 21a i 21b oraz 22a i 22b. Aby oddzielic komore 2 od komory 3 umieszczono prze- 50 • grody ruchome 23, analogiczne do przegród rucho¬ mych 15. Na fig. 1 ruchome przegrody 23 sa przedstawione jako juz wysuniete do wnetrza gniazd 24. Liniami przerywanymi przedstawione sa przegrody 23, wysuniete z ich gniazd 24. Komore 3 55 stanowia scianki boczne 25 i 26, umieszczane od¬ powiednio w przedluzeniu scianek bocznych 17 i 18 komory 2 i przez które przechodza przewody 27a i 27b, 28a i 28b, wyposazone odpowiednio w zawory 29a i 29b, 30a i 30b. Jak w przypadku ko- 60 mory 2 przewidziane zostaly przegrody ruchome 31. Na fig. 1 przegrody 31 sa przedstawione jako juz wysuniete do wnetrza gniazd 32. Liniami prze¬ rywanymi sa przedstawione przegrody 31, wysu¬ niete z ich gniazd 32. 65 Ponad komora 3 dwa dzwigary metalowe 33 i 34, 15 20 25 30 35 405 umocowane w przedluzeniu scianek bocznych 25 i 26 komory 3, podpieraja górnymi koncami kola linowe 35 i 36, po których Ibiegna liny 37 i 38, przesuwajace sie we wnetrzu trzech komór 1, 2 i 3. Z dolnym koncem kazdej z tych lin jest po¬ laczony pret 39. Drugi koniec kazdej z lin nawija sie na beben napedzany silnikiem.Na fig. 1 dla uproszczenia pominieto beben i silnik. Do preta 39 jest przyczepiony zespól uchwytów 40 w taki sposób, aby mógl uniesc ply¬ te szklana 41. Tak zawieszona plyta szklana 41 moze byc latwo przenoszona poprzez trzy komory 1, 2 i 3. Komora 1 zawiera ponadto w swej gór¬ nej czesci pochylnie zraszajaca 42. Pochylnia ta jest polaczona na obu swych krancach z przewo¬ dami rurowymi 43 i 44, zaopatrzonymi odpowied¬ nio w zawory 45 i 46 i przylaczonymi odpowied¬ nio do zbiorników 47 i 48 sluzacych do zasilania ciecza 49. Zbiorniki 47 i 48 opieraja sie na wspor¬ nikach 50 i 51, przymocowanych do scianek bo¬ cznych 17 i 18 komory 2. Urzadzenie opisane wy¬ zej i przedstawione na fig. 1 i 2 dziala w sposób nastepujacy.Po opuszczeniu plytki szklanej 41 do komory 1, ponizej poziomu gniazd 16, zamyka sie komore 1 przez wysuniecie przegród ruchomych 25 z gniazd 16. Przewody rurowe 9a, 9b, 9c i 9d, lOa, lOb, lOc i lOd przylacza sie do zbiornika nie uwidocznio¬ nego na fig. 1 i 2. Zawiera on pary rozpuszczalni¬ ka w zwyklej temperaturze. W tym przykladzie jako rozpuszczalnik organiczny uzywany jest al¬ kohol etylowy. Nastepnie otwiera sie zawory lla, llb, lic i lid, 12a, 12b, 12c i 12d w taki sposób, aby wpuscic pary alkoholu do komory 1. Pary te omywaja plytke szklana 41 i sa wzbogacane az do chwili otrzymania w komorze 1 atmosfery bliskiej nasycenia. Gdy warstwy powierzchniowe plyty szklanej 41 zostaly nasiakniete oparami alkoholu, otwiera sie zawory 45 i 46 tak, aby spowodowac zraszanie jednej strony 52, jak to uwidoczniono na fig. 2. Ciecza 49a zraszajaca strone 52 jest w tym przykladzie roztwór alkoholowy esteru tytanu zawierajacy 8 g Ti02 na 1 litr roztworu i którego lepkosc wynosi okolo 2 Cp. W ciagu okolo 1 mi¬ nuty ilosc cieczy 49a odpowiadajaca okolo 1 litro¬ wi na 1 m2 powierzchni pokrywanej zostaje wylana na plyte szklana tworzac ciekla warstwe 53, przed¬ stawiona na fig. 2.Gdy ciecz 49a zwilzy cala powierzchnie 52 ply¬ ty szklanej 41, to nie'wykorzystana i nagromadzo¬ na w dolnej czesci komory 1 ciecz odprowadza sie przewodem 13 przez otwarcie zaworu 14 po uprzednim zamknieciu zaworów lla, llb, lic i lid, 12a, 12b, 12c i 12d. Nastepnie zamyka sie zawór 14 i przystepuje w podany nizej sposób do usuwa¬ nia par alkoholu pozostalych w komorze 1. Naj¬ pierw laczy sie z jednej strony przewody lOa, lOb, lOc i lOd z innym zbiornikiem, nie przedstawio¬ nym na rysunku, zawierajacym powietrze o wil¬ gotnosci wzglednej okolo 30%, z drugiej zas strony przylacza sie przewód odplywowy 13 do jeszcze in¬ nego zbiornika, równiez nie przedstawionego na rysunku, w którym mozna wytworzyc podcisnie¬ nie. Nastepnie otwiera sie zawory 12a, 12b, 12c, 12d oraz 14, by umozliwic zassanie par alkoholu 6 do zbiornika z jednoczesnym doprowadzeniem do komory 1 powietrza o wilgotnosci wzglednej ok. 30%.Po wypuszczeniu par alkoholu przegrody rucho¬ me 15 zostaja cofniete do wnetrza gniazd 16, a 5 zwilzona plytka szklana zostaje podniesiona w komorze 2 az do wlasciwego poziomu, pozwalaja¬ cego po przejsciu powleczonej plytki szklanej wy¬ ciagnac przegrody ruchome 15 i 23 z ich gniazd 16 i 24. Gdy komora 2 zostanie w ten sposób 10 zamknieta, laczy sie odpowiednio przewody 19a i 19b z podgrzewaczami powietrza, nie przedsta¬ wionymi na fig. 1 i otwiera zawory 21a i 21b tak, aby móc wpuscic do komory 2 powietrze nagrza¬ ne do temperatury 70°C. W ten sposób rozpusz- 15 czalnik organiczny, pozostaly jeszcze w warstwie 53, zostaje szybko usuniety. W przykladzie tym, by doprowadzic do pomyslnego konca operacje su¬ szenia, pozostawia sie powleczona plyte szklana na okres ok. 6 min. w temperaturze 70°C. 20 Po suszeniu wsuwa sie przegrody ruchome 23 w gniazda 24 i szybko wprowadza plyte szklana do komory 3. W tym rozwiazaniu, aby nie spowo¬ dowac udaru cieplnego na plycie szklanej, komo¬ ra 3 zostaje nagrzana do temperatury ok. 70°C, 25 zanim bedzie mozliwe i dopuszczalne wsuniecie plytki szklanej po wysuszeniu. Dla wykonania tej operacji podgrzewania, przegrody ruchome 31 zo¬ staja wysuniete z gniazd 32 i po przylaczeniu prze¬ wodów 27a i 27b do innych podgrzewaczy po- 30 wietrza, nie przedstawionych na fig. 1, otwiera sie zawory 29a i 29b tak, aby powietrze ogrzane do 70°C moglo dostac sie do komory 3. Gdy po przesunieciu szklanej plyty do komory 3, przegro¬ dy ruchome 23 zostaja ponownie wysuniete z gniazd 35 24, wpuszcza sie powietrze nagrzewane do coraz wyzszej temperatury do tych podgrzewaczy po¬ wietrza, majacych temperature wyzsza niz tempe¬ ratura podgrzewaczy uzywanych do ogrzewania komory 2. W ten sposób podnosi sie temperature 40 powietrza omywajacego plyte szklana do ok. 450°C i podtrzymuje te temperature w przeciagu ok. 15 minut tak, aby warstwa ha plycie zostala dostatecznie zapieczona. Podczas przebywania plytki szklanej w tym otoczeniu wzglednie gora- 45 cym, wodorotlenek tytanu przemienia sie w tle¬ nek tytanu. Po uplywie podanego powyzej okresu czasu, temperatura powietrza wpuszczonego do wnetrza komory 3 stopniowo spada do poziomu nizszego, nieszkodliwego zarówno dla plyty szkla- 50 nej, jak i dla cienkiej warstwy tlenku tytanu. Po¬ stepujac jak opisano powyzej, otrzymuje sie cien¬ ka warstwe o grubosci rzedu 60 milimikronów.Opisane urzadzenie jest odpowiednie do wytwa¬ rzania cienkich warstw na malych ilosciach plyt 55 szklanych. Jesli przewidywane sa ilosci wieksze, to odpowiedniejsze sa urzadzenia inne, jak na przyklad opisane ponizej.Fig. 3 przedstawia odmiane urzadzenia wedlug 60 wynalazku. W tym urzadzeniu trzy komory 54, 55 i 56 sa umieszczone poziomo w kierunku oznaczo¬ nym strzalka 57. Komory 54, 55, 56 sa odpowiednio rozgraniczone sciankami pionowymi 58, 59, 60, 61 i moga byc szybko zamykane przegrodami rucho- 65 mymi 62, 63, 64 i 65 wysuwanymi z gniazd 66, 67,59274 8 68, 69, przewidzianych dla cofania i obnizania wzdluz scianek pionowych. Ku górze trzy komory 54, 55, 56 sa odpowiednio rozgraniczone stropami 70, 71, 72.Jak widac na fig. 3, przez kazdy z trzech stro¬ pów przechodza odpowiednio dwa przewody. Przez strop 70 przechodza przewody 73 i 74 z zaworami 75 i 76. Przez strop 71 przechodza przewody 77 i 78 z zaworami 79 i 80, zas przez strop 72 przechodza przewody 81 i 82 z zaworami 83 i 84. Ku dolowi trzy komory 54, 55, 56 sa odpowiednio rozgrani¬ czone pokryciem ceramicznym 85, metalowa wan¬ na 86, przylaczona do przewodu odplywowego 87, zaopatrzonego w zawór 88 oraz wykladzina cera¬ miczna 89.Oparta na pionowych sciankach 58, 59, 60 i 61 szyna 90 przechodzi odpowiednio przez trzy komo¬ ry 54, 55 i 56. Na szynie 90 biegna walki 91, pod¬ trzymujace uchwyty zaczepowe 92 plyt szklanych 93, 94 i 95, jak to uwidoczniono na fig. 3. Komora 55 zawiera ponadto w swej górnej czesci pochyl¬ nie zraszajaca 96. Ta ostatnia przylaczona jest po¬ srodku do przewodu rurowego 97, zaopatrzonego w zawór 98 i podlaczonego swym koncem ze zbior¬ nikiem 99, sluzacym do zasilania ciecza 100. Zbior¬ nik 99 spoczywa na wspornikach 101 i 102 przymo¬ cowanych na gniazdach 67 i 68.Urzadzenie to dziala w sposób nastepujacy: Do komory 54 wprowadza sie plyte szklana 92, a na¬ stepnie opuszcza przegrody ruchome 62 i 63. Po podlaczeniu przewodów 73 i 74 nego na fig. 3 zbiornika, zawierajacego pary roz¬ puszczalnika o temperaturze normalnej, otwiera sie zawory 75 i 76 aby wpuscic pary rozpuszczalnika do komory 54.W rozpatrywanym przypadku jako rozpuszczalnik organiczny uzywany jest alkohol butylowy. Dla otrzymania odpowiedniego nasycenia warstw powierzchniowych plytki szklanej 93 pozostawia sie ja w atmosferze par alkoholu, stopniowo wzboga¬ canej az do stopnia bliskiego nasycenia.W komorze 55 uwidoczniono na fig. 3 inna ply¬ te szklana 94, która juz przeszla przez komore 54 w opisanych warunkach. W tym rozwiazaniu urza¬ dzenia wedlug wynalazku plyta szklana 94 jest zanurzona w atmosferze nasyconej parami alkoho¬ lu, powstalymi przez otwarcie zaworów 79 i 80 umieszczonych odpowiednio na przewodach 77 i 78, przylaczonych do innego zbiornika, nie przedsta¬ wionego na fig. 3, zawierajacego pary rozpuszczal¬ nika w temperaturze normalnej. Po takiej obróbce plytka szklana 94 zostaje zroszona po jednej stro¬ nie przez otwarcie zaworu 98, sterujacego przeply¬ wem cieczy 100. W niniejszym przykladzie ciecza lOOa jest alkoholowy roztwór estru, zawierajacy 20 g TiOz na 1 litr roztworu. W przeciagu ok. mi¬ nuty ilosc cieczy 100, odpowiadajaca ok. 1 litrowi na 1 m2 powierzchni, która ma byc powleczona, zostaje wylana na plytke szklana 94, tworzac ciekla warstwe nie przedstawiona na fig'. 3, lecz analogicz¬ na z warstwa 53 przedstawiona na fig. 2. W tym przypadku jak i w porzednim, po wyplynieciu cie¬ czy 100, czesc nie wykorzystana i zebrana do meta¬ lowej wanny 86 zostaje odprowadzona przewodem rurowym przez otwarcie zaworu 88, po uprzednim zamknieciu zaworów 79 i 80.Po zakonczeniu odprowadzania cieczy nie wy¬ korzystanej, zamyka sie zawór 88 i wypuszcza pary 5 alkoholu pozostale w komorze 55 sposobem nizej podanym. Najpierw przylacza sie z jednej strony przewody 77 i 78 do innego zbiornika, nie przed¬ stawionego na rysunku, zawierajacego powietrze o wilgotnosci wzglednej ok. 30%, z drugiej zas stro- 10 ny przewód odplywowy 87 laczy sie z innym zbior¬ nikiem, nie uwidocznionym na rysunku w którym moze powstawac podcisnienie. Nastepnie otwiera sie zawory 79, 80 i 88 aby umozliwic zasysanie par alkoholu do zbornika z jednoczesnym doprowadze- 15 niem do komory 55 powietrza o wilgotnosci wzglednej ok. 30%.W komorze 56 jest uwidoczniona inna plyta szklana 95, która juz przeszla przez komore 55 w warunkach opisanych powyzej w odniesieiniu do 20 plytki szklanej 94. Gdy plytka szklana 95 jest unie¬ ruchomiona wewnatrz komory 56, obniza sie prze¬ grody ruchome 64 i 65, które zamykaja komore, a przewód 81 przylacza sie do podgrzewacza po¬ wietrza, nie uwidocznionego na fig. 3. Nastepnie 25 otwiera sie zawór 83, aby wpuscic do komory 56 powietrze, podgrzane do temperatury 90°C. W ten spoisób szybko usuwa sie rozpuszczalnik organicz¬ ny, pozostajacy jeszcze w warstwie pokrywajacej strone powleczona. W tym rozwiazaniu pozosta¬ wia sie nasycona plyte szklana na ok. 5 minut w 30 temperaturze 90°C, aby ja nalezycie osuszyc. W odmianie urzadzenia przedstawionej na fig. 3, w kolejnosci za koniora 56, w której odbywa sie su¬ szenie, nie uwidoczniono miejsca, w którym doko¬ nuje sie zapiekania warstwy, pokrywajacej strone 35 plytki szklanej, gdyz ta ostatnia czynnosc jest mniej delikatna od poprzednich i nie wymaga at¬ mosfery kontrolowanej.W celu dokonania procesu wypalania, mozna z powodzeniem zastosowac pomieszczenie zaopatrzo- 40 ne w promienniki podczerwieni, miedzy którymi przesuwa sie powleczona plyte szklana. W tych wa¬ runkach nagrzewa sie ja do temperatury ok. 400°C i potrzymuje te temperature .w przeciagu 15 minut.Po wypaleniu otrzymuje sie na stronie powleka- 45 nej cienka warstwe tlenku tytanu o jednakowej grubosci rzedu 150 milimikronów.Fig. 4 i 5 przedstawiaja jeszcze inna odmiane urzadzenia wedlug wynalazku. Przenosnik 103, za¬ wierajacy podpory pionowe 104 i czesci poziome 50 105 miedzy którymi umieszczone sa walki przeno¬ szace 106, podpiera trzy komory 107, 108, 109, roz¬ mieszczone w kolejnosci poziomo w kierunku wskazanym strzalka 110. W tym rozwiazaniu trzy komory 107, 108 i 109 skladaja sie z czesci dolnej w 55 postaci zbiorników 111, 112 i 113, oraz z czesci gór¬ nej w postaci pokryw 114, 115 i 116. Zbiorniki 111, 112 i 113 sa przymocowane do podpór pionowych 104, podczas gdy pokrywy 114, 115 i 116 wspieraja sie na plytkach stykowych 117 i 118, przyspawa- 60 nych do czesci poziomych 104. Ponadto przez kazda z pokryw przechodza po dwa przewody 119 i 120, 121 i 122 oraz 123 i 124, zaopatrzone odpowiednio w zawory 125 i 126, 127 i 128 oraz 129 i 130. Wymie- 65 nione zbiorniki i pokrywy sa ponadto rozmieszczo-59274 9 ne w taki sposób, aby tworzyly w trzech komorach wejscia 131, 132, 133 i wyjscia 134, 135 i 136 dosc waskie i zosiowane powyzej walków przenoszacych 106. Komora 108 zawiera jeszcze jeden przewód od¬ plywowy 137, przylaczony do zbiornika 112 i za¬ opatrzony w zawór 138 i w pochylnie zraszajaca 139. Ta ostatnia jest przylaczona do jednego konca przewodu rurowego 140 zaopatrzonego w zawór 141, podczas gdy jej drugi koniec jest przylaczony do zbiornika 142, sluzacego do zasilania ciecza 143.Fig. 4 przedstawia jeszcze trzy plyty szklane 144, 145 i 146 podparte walkami przenoszacymi 106, jak równiez warstwe ciekla 147, pokrywajaca plyty szklane 145 i 146.Urzadzenie to dziala w sposób analogiczny do opisanego w odniesieniu do fig. 3. Oczywiscie, wy¬ nalazek nie ogranicza sie do sposobów i rozwia¬ zan opisanych i przedstawionych tytulem przykla¬ du i wniesienie do nich pewnych zmian nie wykra¬ cza poza ramy wynalazku. PL